Deutsch: Beispielhafter schematischer Aufbau eines CMOS-Chips, wie er Anfang der 2000er verwendet wird. Dargestellt werden LDD-MISFETs auf einem SOI-Siliciumsubstrat, fünf Metallisierungsebenen und ein Lotkontakt für die Flip-Chip-Kontaktierung. Außerdem sind die Arbeitsabschnitte FEOL (front-end of line), BEOL (back-end of line) sowie das Teile vom back-end bzw. packaging gekennzeichnet.
Luba on antud selle dokumendi kopeerimiseks, avaldamiseks ja/või muutmiseks GNU Vaba Dokumentatsiooni Litsentsi versiooni 1.2 või hilisema Vaba Tarkvara Fondi avaldatud versiooni tingimuste alusel; muutumatute osadeta, esikaane tekstideta ja tagakaane tekstideta. Sellest loast on lisatud koopia leheküljel pealkirjaga "GNU Free Documentation License".http://www.gnu.org/copyleft/fdl.htmlGFDLGNU Free Documentation Licensetruetrue
omistamine – Pead materjali sobival viisil autorile omistama, tooma ära litsentsi lingi ja märkima ära, kas on tehtud muudatusi. Sobib, kui teed seda mõistlikul viisil, kuid seejuures ei tohi jääda muljet, et litsentsiandja tõstab esile sind või seda, et sina materjali kasutad.
sarnaselt jagamine – Kui töötled, kujundad ümber või arendad materjali edasi, siis pead oma töö levitamiseks kasutama sama litsentsi, mille all on algupärand, või ühilduvat litsentsi.
See litsentsimärgis lisati sellele failile GFDL-i litsentsimisuuenduse raames.http://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/CC BY-SA 3.0Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0truetrue
Esialgne kirjelduslehekülg oli siin. Kõik järgmised kasutajanimed viitavad projektile de.wikipedia.
2006-12-06 15:09 Cepheiden 550×810× (86527 bytes) {{Information |Beschreibung=Beispielhafter schematischer Aufbau eines [[CMOS]]-Chips, wie er Anfang der 2000er verwendet wird. Dagestellt werden LDD-[[Feldeffekttransistor|MISFET]]s auf einem [[SOI]]-Siliciumsubstrat, fünf Metallisierungsebenen und ein L
{{Information |Description={{de|Beispielhafter schematischer Aufbau eines de:CMOS-Chips, wie er Anfang der 2000er verwendet wird. Dargestellt werden LDD-MISFETs auf einem de:SOI-Siliciumsubstrat, fünf Metallisieru