Particularitati Tehnologice de Obtinere Aformelor Pentru Tipar Offset Uscat

Descărcați ca pptx, pdf sau txt
Descărcați ca pptx, pdf sau txt
Sunteți pe pagina 1din 15

A efectuat: st. gr.

Baltag Irina
Tema: Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
Coordonator: lec. un. Cucerenco Marin
Particulariti tehnologice de obinere a formelor de 1 Umezire-procedur esenial a tiparului offset prin
care se realizeaz amestecul proportional de cerneal cu
tipar Offset uscat apa.

2 Imprimare-procesul de transfer pe hartie sau pe alt


substrat, a unei imagini de pe un suport original cum ar fi
Necesitatea umezirii elementelor imprimabile n procesul imprimrii, creaz un film negativ sau pozitiv, memorie electronic, matrie sau
ir de dificulti: plac.

1. Complexitatea utilajului de imprimare. Dotarea utilajului cu aparatul de


umezire i necesitatea meninerii echilibrului dintre cantitatea de soluie de
umezire i cerneal aplicate pe form. Pentru a ajunge la regim stabil de
imptimare, dup nceperea tiparului, sunt necesare cheltuieli de timp i consum
de hrtie
2. Creterea dimensiunilor elementelor de raster pe tipritur, n urma
variaiei echilibrului dintre ap i cerneal, n proces de imprimare.

2
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Proprietile reologice includ vezi figura de
mai jos

3. Variaia nuanelor tipriturilor n urma variaiei echilibrului dintre ap i


cerneal.
4. Reducerea intensitii i a luciului stratului de cerneal pe tipritur
provocat de ptrunderea soluiei de umezire n cerneal, prin urmare
modificarea proprietilor reologice a cernelei i modificarea vitexei de fixare a
cernelei
5. Modificarea dimensiunilor hrtiei sub influena soluiilor de umezire,
care duce la deformarea hrtiei
6. Apariia particulelor de cerneal pe elemente neimprimabile dac
cerneala a ptruns n soluia de umezire.

Pornind de la toate enumerate s-au inventat formele pentru tipar plan-offset fr


umezirea elementelor neimprimabile sau mai este numit Tipar uscat.

3
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Brevet- (referitor la o invenie) prin care se atest
dreptul (exclusiv) de a exploata o invenie.

Tiparul uscat apare ca procedeu n 1960, prin introducerea mainii 2 DRUPA- este cea mai mare expoziie de echipamente
de imprimare din lume, organizat la fiecare patru ani de
Dryography de catre compania 3M, dar rezultatele obinute nu au fost dintre cele ctre firma Messe Dsseldorf din Dsseldorf, Germania.
mai fericite. n 1972 firma Toray cumpr brevetul pentru noul procedeu aprut,
iar n 1997 la DRUPA este prezentat placa Toray pentru offset uscat. Din 1972 3 Placa Toray-placa format pe baz din plastic
evoluia procedeului a fost lent dar sigur. dur i fotopolimer din metal, sunt tratabile cu ap i
pot avea diferite grosimi i dimensiuni.

Tiparirea offset uscat este un proces de tipar plan care elimin apa sau
sistemul de umezire folosite in cazul tiparului clasic. Pentru tipar este necesar o
plac special din aluminiu acoperit cu un strat de cauciuc siliconic tratat i un
sistem de control al temperaturii n masin.

4
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Film- band sau clieu folosit pentru nregistrarea i
reproducerea pe ecran a imaginilor; pelicul.

Placa poate fi procesat analogic prin expunerea printr-un film sau digital cu 2 Oleofob- care respinge, care nu reine uleiul.
expunere laser. Stratul de silicon (siliconul este oleofob) este ndeprtat din
zonele cu imagine n timpul developrii, astfel n ct pe aceste zone va adera 3 Developare- ratare a filmelor, a plcilor sau a
cerneala n timpul procesului. hrtiei fotografice (dup ce au fost expuse) cu reactivi
Cernelurile utilizate trebuie s aiba o vscozitate4 mai mare dect cele folosite chimici pentru a face s apar imaginea .

n tiparul clasic i trebuie s fie stabile din acest punct de vedere intr-o plaja mare 4 Vscozitate-proprietate a fluidelor de a fi vscos,
de temperaturi. Pentru a putea controla vscozitatea cernelii n timpul procesului de a opune rezisten la curgere, datorit frecrii
interioare.
este necesar deci s controlam temperatura din masin.

5
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Compui volatili IPA-substane organice
care au o presiune de vapori suficient de ridicat n
condiii normale, astfel nct n concentraii
semnificative s ptrund n mediu. O clas larg de
Snt cteva avantaje majore ale acestui tip de tipar fat de cel clasic: timp de compui organici, care includ hidrocarburi, aldehide,
alcooli, cetone, terpenoide etc.
pregtire mult mai redus (nu mai trebuie setat balansul apa/ cerneal), proces
ecologic (se evit deversrile de reziduuri de solutie de umezire, snt eliminai 2 Punct de raster-punct realizat prin
compuii volatili IPA, se reduc reziduurile de hirtie), obinerea de puncte de descompunerea de culoare. O imagine este compusa din
raster mai mici (rezoluie mai mare), deci tiprituri mai curate i un nivel calitativ mai multe puncte de raster.

ridicat.
Pe piata snt deocamdat doi productori de plci pentru tipar offset uscat:
firma Toray -care fabric att o plac fotosensibil analogic ct i una
procesabil digital i firma Presstek care pune la dispoziie un sistem gen CTP
nsoit de plcile aferente.

6
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Fotopolimer- este o rin activat care i
schimb proprietile cnd este expus la lumin, de
obicei n prezena razelor ultraviolete sau vizibil a
spectrului electromagnetic. [1] Aceste schimbri sunt
adesea manifestate structural, de exemplu, ntrirea
Placa Toray are ca material de baz aluminiul pe care este asezat un strat de materialului are loc ca rezultat al reticulrii atunci cnd
fotopolimer acoperit de un nveli de cauciuc siliconic. Expunerea plcii se face este expus la lumin

ntr-o ram de copiat clasic, radiaia UV trece prin stratul de silicon direct la
fotopolimer. Expunerea activeaz fotopolimerul i rupe legtura dintre el i 2 Ram de copiat- utilaj tipografic ce se
foloseste la expunerea placilor tipografice la lumina
silicon, aa nct siliconul din zonele cu imagine poate fi uor ndeprtat. Reacia puternica ultravioleta.
fotochimic este foarte precis putnd obine un punct de raste de la 0,5 % pn
la 99,5 % la o rezoluie de 175 LPI. Plcile Toray pot avea rezoluia de pn la
600 LPI cu rezultate de nalt calitate, ele au o rezisten mare, putnd rezista
pna la 600 000 de imprimri. Placa CTP digital folosete aceleai tratamente
chimice ca i cea analoag, rezoluia acesteia putnd ajunge pna la 4 000 LPI i
rezistena la maxim 200 000 de imprimri.

7
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Rezoluie- proprietate care se refer la calitatea
materialului obinut. Se exprima in dpi (dots per inch). Cu
ct numarul de puncte este mai mare, cu atat imaginea
este mai clar.
Sistemul CTP Presstek- placa Pearldry este realizat dintr-un strat siliconic
superior apoi unul mijlociu fotoabsorbant care d imaginea i baza din aluminiu
sau poliester care confer stabilitatea dimensional a plcii. Plcile snt fabricate
cu o tehnic de formare a imaginii denumit ablaiune. Un laser este utilizat
pentru a ndeprta stratul de silicon expunnd stratul de aluminiu sau poliester
care va accepta cerneala. Laserul imprim imaginea prin nclzirea stratului care
d imaginea i distrugnd legtura cu stratul de silicon ce va fi uor ndeprtat.
Dup ce placa are imagine, aceasta este uor frecat pentru a se indeprta
partea dezagregat de la suprafata stratului si apoi poate fi folosit la tiparire.
Rezoluia placilor Presstek Pearldry este de 300 LPI.

8
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Tensiune superficial- este proprietatea
general a lichidelor de a lua o form geometric de arie
minim n lipsa forelor externe, datorat aciunii forelor
de coeziune dintre moleculele lichidului. Aceast
proprietate face ca poriunea de suprafa a lichidului s
Cerneluri pentru tiparirea offset uscat fie atras de alt suprafa, cum ar fi cea a unei alte
suprafee de lichid, ca n cazul fuzionrii picturilor de
ap sau a formrii de sfere din picturile de mercur.
Teoria care st la baza procesului offset uscat este c stratul de silicon care d
zona far imagine de pe plac are tensiunea superficial foarte scazut. Acest
material nu va fi acoperit de cerneal cu condiia c acesta s aib o afinitate mai
mare pentru ea dect pentru stratul de silicon ( intermoleculare mai mari dect
aderena la silicon). Aceasta nseamn c cerneala trebuie sa fie special
formulat pentru tiprirea offset uscat. Aceast combinaie de proprieti
minimizeaz de atracie al cernelii fat de stratul de silicon i prin aceasta se
asigur obinerea unei tiprituri curate. n general cernelurile offset uscat au
vscozitate mai mare decit cele pentru tiparul clasic, o curgere mai slab dar o
reproducere a punctului de raster asemantoare celei obinute n tiparul
convenional.

9
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Cilindru portplac-cilindru pe care este
amplasat placa de tipar.

Un factor major care influeneaz vscozitatea este temperatura. Prin ndeprtarea


apei din cadrul procesului de tipar nu mai are loc o rcire la nivelul placii, din acest
cauza, datorit frecrii, va crete temperatura pe cilindrul portplac. Datorit
vscozitii ridicate a cernelurilor offset uscat va apare o generare de cldur i la
nivelul cilindrilor de cerneal, cauzat de frecarea dintre cerneal si cilindrii. La
nceputul tiparului, vscozitatea i aderena pot fi att de mari n ct cerneala s nu se
distribuie sau sa nu se transfere corespunzator determinnd smulgerea hrtiei. Dac
temperatura crete necontrolat vcozitatea cernelii va scadea pn la punctul n care
ea va ncepe s adere i la stratul de silicon (care d zona fr imagine), aprnd
efectul de tonare, iar temperatura la care apare acest fenomen se numeste
temperatura de tonare. Cernelurile, n prezent, snt formulate aa nct vscozitatea lor 2 Efect de tonare-urme (dre) de cerneala pe
suportul de tipar (hartie, carton) datorate unei umeziri
sa scad mai lent dect crete temperatura, ele putnd fi folosite cu succes. precare sau unui pH al apei sub normele adecvate (5,5).
Compoziia cernelurilor pentru offset uscat este similar cu a celor clasice i anume
rini, dar cu greutate molecular mai mare, uleiuri vegetale i petrol distilat. 3 Rini- soluie de natur vegetal, animal sau
chimic care sunt utilizate la fabricarea cernelurilor
poligrafice.

10
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat

Controlul temperaturii

Datorit vscozitii ridicate a cernelii si a lipsei apei din procesul de tipar,


temperatura crete putnd influena negativ rezultatele obinute. Dac am face o
comparaie direct ntre o masin clasic i una offset uscat, am observa c n primul
caz temperatura se menine n jurul valorii de 30 C, pe cnd n cazul al doilea ea poate
ajunge la aproximativ 50 C. Din acest motiv la mainile offset uscat, este necesar un
sistem de control al temperaturii legat de grupurile de tipar. Rolul acestui sistem este
deci de a impiedica cerneala s ajung la temperatura de tonare. El trebuie proiectat
pentru a stabiliza temperatura n masin i a o menine ntr-un interval stabilit pe toat
durata funcionrii mainii. La nceputul tipririi maina va trebui nczit la 28 - 32 C,
lucru foarte important pe perioada iernii. Dup atingerea acestei valori, sarcina
sistemului va fi de a o menine n acest interval.

11
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat
1 Valve-ansamblu de piese sau armtur care servete
la stabilirea, ntreruperea sau reglarea circulaiei unui
fluid printr-o conduct, printr-un tub.

Cel mai bun sistem trebuie s aib dou caracteristici importante: circuit nchis de
2 Senzor-dispozitiv (ultrasensibil) care sesizeaz un
reglare a temperaturii i capacitate multizonal. Un circuit nchis tipic de reglare a anumit fenomen.
temperaturii are ase componente de baza: un agregat frigorific, o sursa de caldur,
valve bidirecionale, senzori termici, panou de comand, pompe pentru punerea n
micare a agentului de reglare. Temperatura poate fi setat pentru fiecare grup n
parte de la consola principal, senzorii masoar temperatura la nivelul placii, iar dac
aceasta difera cu +/- 2 C, sistemul va conecta agentul de reglare prin sistemul de
rcire sau prin cel de inclzire, funcie de tipul diferenei, pentru a menine astfel
temperatura optim.

12
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat

Masini de tipar offset uscat

Astfel de masini produc firmele Heidelberg- Quickmaster DI 46-4 (vezi Figura


1) i Scitex/KBA Planeta-Karat 74 ( vezi figura 2) sau Genius 52 (prezentat
n Figura 3). Heidelberg-Qiuckmaster DI 46-4 este de tipul satelit, cu un
singur cilindru de presiune central, iar grupurile de tipar snt dispuse n jurul
acestuia. Acelai sistem de dispunere poate fi ntilnit i la KBA Genius 52. Figura 1. Heidelberg- Quickmaster DI 46-4

Figura 2. Scitex/KBA Planeta-Karat 74


13 Figura 3. KBA Genius 52
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat

Grupul de tipar este compus dintr-un numr mic de cilindrii: cilindru portcauciuc,
cilindru portplac, ductor cerneal, cilindru anilox, deci construcia este asemanatoare
cu a unui grup flexo (exceptnd cilindrul portcauciuc). Cerneala este ambalat n
cilindrii cartu speciali i introdus sub presiune (sistem cunoscut sub numele de
GRAVUFLOW (vezi Figura 1)) ntr-un distribuitor care formeaz o pelicul constant
ca grosime pe toat lungimea ductorului, aa nct el preia o pelicul fin de cerneal,
cu grosime constant, pe care o pred cilindrului anilox. Acesta la rindul sau se afl n Figura 1. Sistemul Gravuflow
contact cu placa care preia cerneala numai n zonele cu imagine, dup care aceasta
este transferat cauciucului care o transfer pe suportul de tipar. Sistemul de tipar 1 Sheet fed- se refera la presa de tiprire
alimentat i conceput pentru a tipri coli individuale de
utilizat este sheet fed. hrtie.

14
1.Imprimare offset. Particulariti tehnologice de obinere a formelor de tipar Offset uscat

n cazul acestui tip de tipar, datorit lipsei apei, este mult mbuntit registrul
deoarece nu mai pot aparea diferene de metric ntre plane, pot fi tiprite cu succes
hrtii netratate sau reciclate( suporturi cu afinitate mare la absorbia de ap),
deasemenea pot fi tiprite hrtii cu gramaj mic (rezistena lor la rupere nu scade).

15

S-ar putea să vă placă și