Гидроксид тетраметиламмония
Гидроксид тетраметиламмония | |
---|---|
Общие | |
Систематическое наименование |
Тетраметиловый гидроксид аммония |
Сокращения | TMAH, TMAOH |
Хим. формула | (CH3)4NOH |
Классификация | |
Рег. номер CAS | 75-59-2 |
PubChem | 60966 |
Рег. номер EINECS | 200-882-9 |
SMILES | |
InChI | |
ChemSpider | 54928 |
Безопасность | |
NFPA 704 | |
Приведены данные для стандартных условий (25 °C, 100 кПа), если не указано иное. | |
Медиафайлы на Викискладе |
Гидрокси́д тетраметиламмо́ния (TMAH, TMAOH — от англ. tetramethylammonium hydroxide) это четвертичное аммонийное соединение с молекулярной формулой (CH3)4NOH, сильное органическое основание. Он используется как анизотропный травитель для кремния. Также, слабые растворы, используются для проявления фоторезиста в процессе фотолитографии. Поскольку он является катализатором фазового перехода, он очень эффективен для удаления фоторезиста. Также используется как поверхностно-активное вещество при синтезе ферромагнитных жидкостей, чтобы препятствовать слипанию её частиц.
Токсичность
[править | править код]Раствор TMAH является сильным основанием. Чистый TMAH практически не имеет запаха, загрязнённый триметиламином (который применяется в производстве четвертичных аммониевых солей) имеет запах мертвой рыбы.
Анизотропный травитель
[править | править код]TMAH относится к семейству растворов четвертичных гидроксидов аммония и широко используется для анизотропного травления кремния. Типичная температура травления 70°-90 °C, типичная концентрация 5 %-25 % TMAH по массе в водном растворе. Скорость травления кремния увеличивается с ростом температуры и падает с ростом концентрации TMAH. Грубость травления кремниевой поверхности увеличивается с ростом концентрации TMAH, при концентрации 20 % получается гладкая поверхность травления.
Распространённые материалы для масок при длительном травлении в TMAH включают в себя диоксид кремния (химически осаждённый из газовой фазы при пониженном давлении ) и нитрид кремния. Нитрид кремния имеет незначительную скорость травления в TMAH; скорость травления в TMAH для диоксида кремния зависит от качества плёнки, но в целом имеет порядок 0.1 нм/минуту.
В статье не хватает ссылок на источники (см. рекомендации по поиску). |
Это заготовка статьи об органическом веществе. Помогите Википедии, дополнив её. |