Гидроксид тетраметиламмония

Материал из Википедии — свободной энциклопедии
(перенаправлено с «Тетраметиламмония гидроксид»)
Перейти к навигации Перейти к поиску
Гидроксид тетраметиламмония
Изображение химической структуры
Общие
Систематическое
наименование
Тетраметиловый гидроксид аммония
Сокращения TMAH, TMAOH
Хим. формула (CH3)4NOH
Классификация
Рег. номер CAS 75-59-2
PubChem
Рег. номер EINECS 200-882-9
SMILES
InChI
ChemSpider
Безопасность
NFPA 704
NFPA 704 four-colored diamondОгнеопасность 0: Негорючее веществоОпасность для здоровья 3: Кратковременное воздействие может привести к серьёзным временным или умеренным остаточным последствиям (например, хлор, серная кислота)Реакционноспособность 0: Стабильно даже при действии открытого пламени и не реагирует с водой (например, гелий)Специальный код: отсутствует
0
3
0
Приведены данные для стандартных условий (25 °C, 100 кПа), если не указано иное.
Логотип Викисклада Медиафайлы на Викискладе

Гидрокси́д тетраметиламмо́ния (TMAH, TMAOH — от англ. tetramethylammonium hydroxide) это четвертичное аммонийное соединение с молекулярной формулой (CH3)4NOH, сильное органическое основание. Он используется как анизотропный травитель для кремния. Также, слабые растворы, используются для проявления фоторезиста в процессе фотолитографии. Поскольку он является катализатором фазового перехода, он очень эффективен для удаления фоторезиста. Также используется как поверхностно-активное вещество при синтезе ферромагнитных жидкостей, чтобы препятствовать слипанию её частиц.

Токсичность

[править | править код]

Раствор TMAH является сильным основанием. Чистый TMAH практически не имеет запаха, загрязнённый триметиламином (который применяется в производстве четвертичных аммониевых солей) имеет запах мертвой рыбы.

Анизотропный травитель

[править | править код]

TMAH относится к семейству растворов четвертичных гидроксидов аммония и широко используется для анизотропного травления кремния. Типичная температура травления 70°-90 °C, типичная концентрация 5 %-25 % TMAH по массе в водном растворе. Скорость травления кремния увеличивается с ростом температуры и падает с ростом концентрации TMAH. Грубость травления кремниевой поверхности увеличивается с ростом концентрации TMAH, при концентрации 20 % получается гладкая поверхность травления.

Распространённые материалы для масок при длительном травлении в TMAH включают в себя диоксид кремния (химически осаждённый из газовой фазы при пониженном давлении ) и нитрид кремния. Нитрид кремния имеет незначительную скорость травления в TMAH; скорость травления в TMAH для диоксида кремния зависит от качества плёнки, но в целом имеет порядок 0.1 нм/минуту.