Deposición Química de Vapor
Deposición Química de Vapor
Deposición Química de Vapor
química de
vapor
Kenia Cruz Flores
Brasil Huerta Montes
Fátima Nallely Tovar Ramírez
Definición
La deposición química de vapor implica la interacción entre una mezcla
de gases y la superficie de un sustrato calentado, lo que provoca la
descomposición química de algunas de las partes del gas y la formación
de una película sólida en el sustrato. Las reacciones ocurren en una
cámara de reacción sellada. El producto de la reacción (ya sea un metal o
un compuesto) forma un núcleo y crece en la superficie del sustrato para
formar el recubrimiento.
Equipo de El sistema de suministro
de reactivos incorpora
procesamiento
éstos para la cámara de
deposición en las
proporciones adecuadas.
Los procesos de deposición química de vapor se Se requieren distintos tipos de
La deposición ocurre a
realizan en un reactor, que consiste en: sistemas de provisión, de-
temperaturas elevadas y el
pendiendo de si los reactivos se
sustrato debe calentarse por
1) Sistema de suministro de reactivos incorporan como gas, líquido o
sólido (por ejemplo, granos o inducción, por calor radiante u
polvos). otros medios.
2) Cámara de deposición y
La cámara de deposición
reactor es el sistema de
reciclado/disposición, cuya
función es volver inofensivos
los subproductos de la
reacción de CVD.
Diagrama de proceso
Ejemplo
Los metales
convenientes para
Consideraciones
recubrimiento
mediante CVD
Los metales que se tratan con facilidad con
incluyen
galvanoplastia no son buenos candidatos para la
CVD, debido a los productos químicos peligrosos
que deben usarse y a los costos de medidas de
seguridad para contrarrestar sus riesgos.