Dispositivi Elettronici

Dispositivi Elettronici
Alberto Tibaldi
25 febbraio 2008
Indice
1 Proprietà elettriche dei materiali 2

1.1 Metalli . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 2
1.2 Semiconduttori . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 5
1.2.1 Calcolo di ni . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 9
1.3 Caratterizzazione dei semiconduttori drogati . . . . . . . . . . 10
1.3.1 Calcolo di n e p in un semiconduttore drogato . . . . . 12
1.3.2 Equazioni di Shockley . . . . . . . . . . . . . . . . . . 17
2 Modello matematico delle correnti nei semiconduttori 20

2.1 Correnti di diffusione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
2.2 Relazioni di Einstein ed Equazioni del Trasporto . . . . . . . . 26
2.3 Equazione di continuità . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 27
2.4 Equazione di Poisson . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 29
2.4.1 Legame Carica - Campo Elettrico . . . . . . . . . . . . 30
2.4.2 Dimostrazione qualitativa dell’Equazione di Poisson . . 31
2.5 Considerazioni su semiconduttori fuori equilibrio . . . . . . . . 32
2.6 Modello del Tasso di Ricombinazione Netto . . . . . . . . . . . 33
2.7 Esercizio Pratico . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 35
2.7.1 Risoluzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 36
2.7.2 Ipotesi di lato corto . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 41
3 Giunzione p-n 44
3.1 Studio qualitativo del diagramma a bande della giunzione p-n 47
3.2 Studio elettrostatico della giunzione p-n . . . . . . . . . . . . 51
3.2.1 Equazione di neutralità globale . . . . . . . . . . . . . 51
3.2.2 Analisi della barriera di potenziale . . . . . . . . . . . 52
3.2.3 Analisi formale dell’andamento di campo e potenziale . 53
3.2.4 Risoluzione del sistema . . . . . . . . . . . . . . . . . . 56
3.3 Applicazione di una tensione esterna alla giunzione . . . . . . 57
3.3.1 Capacità di svuotamento . . . . . . . . . . . . . . . . . 61
3.4 Esercizio pratico . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 62
1
3.4.1 Risoluzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 62
3.5 Effetti di una tensione su di una giunzione p-n . . . . . . . . . 65
3.5.1 Quasi-Livelli di Fermi . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 66
3.6 Leggi della Giunzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 68
3.7 Caratteristica statica della giunzione p-n . . . . . . . . . . . . 70
3.8 Studio delle correnti nella giunzione p-n . . . . . . . . . . . . . 74
3.8.1 Polarizzazione diretta . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 74
3.8.2 Polarizzazione inversa: corrente inversa di saturazione . 76
3.9.1 Risoluzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 79
3.10 Cenni ad altri modelli della giunzione . . . . . . . . . . . . . . 81
3.10.1 Modello di ampio segnale . . . . . . . . . . . . . . . . . 81
3.10.2 Modello di piccolo segnale . . . . . . . . . . . . . . . . 83
3.11 Valutazione di Vγ . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 83
3.12 Meccanismi di rottura della giunzione . . . . . . . . . . . . . . 84
3.12.1 Effetto valanga . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 84
3.12.2 Effetto tunnel . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 85
3.12.3 Diodi Zener . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 85
3.13 Calcolo della capacità di diffusione . . . . . . . . . . . . . . . 86
3.14 Modello a controllo di carica . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 87
3.15 Modello di piccolo segnale . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 89
3.16 Esercizio pratico . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 91
3.16.1 Risoluzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 91
4 Il transistore bipolare 95
4.1 Analisi delle correnti . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 96
4.2 Calcolo delle correnti . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 99
4.3 Modello statico del transistore bipolare . . . . . . . . . . . . . 101
4.3.1 Equazioni di Ebers-Moll . . . . . . . . . . . . . . . . . 104
4.4 Modello circuitale statico del transistore bipolare . . . . . . . 106
4.4.1 Andamento della caratteristica statica . . . . . . . . . 108
4.4.2 Effetto Early . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 109
4.5.1 Risoluzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 111
5 Sistemi MOS 120

5.1 Analisi Elettrostatica . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 121
5.1.1 Polarizzazione di un sistema MOS con tensione negativa124
5.1.2 Inversione di popolazione . . . . . . . . . . . . . . . . . 125
5.2 Calcolo della carica di inversione . . . . . . . . . . . . . . . . . 127
5.3 Determinazione della tensione di soglia di un sistema MOS . . 131
2
5.3.1 Calcolo della tensione di soglia . . . . . . . . . . . . . . 133
5.4 Il transistore MOSFET . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 134
5.5 Caratteristica statica del MOSFET: Analisi a canale graduale 135
5.6.1 Risoluzione . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 144
3
Capitolo 1
Proprietà elettriche dei

materiali
Dalla fisica dello stato solido sappiamo che un solido è rappresentabile me-
diante un diagramma a bande; il diagramma a bande è un grafico in cui
si riportano sulle ascisse una posizione (ossia una coordinata spaziale, nel
reticolo diretto, o un vettore d’onda, nel reticolo reciproco), sulle ordinate
un’energia E; si noti che per buona parte della trattazione tuttavia si consi-
dereranno materiali isotropi, quindi non si considereranno in un primo tempo
variazioni delle condizioni del solido nello spazio.
I due tipi di solidi che siamo interessati a studiare in dispositivistica sono
i metalli ed i semiconduttori; diamo alcuni cenni sul loro comportamento, a
partire dallo studio del diagramma a bande.
1.1 Metalli
4
Indichiamo ora il significato dei diversi livelli energetici:
• EC : Livello energetico in cui inizia la banda di conduzione;
• EF : Livello di Fermi
• EB : Livello del vuoto, ossia livello energetico da superare per estrarre

il metallo
• qΦM : Lavoro di estrazione del metallo;
• γn : Parametro della funzione di densità degli stati energetici.
Facciamo alcune osservazioni: l’inizio della banda di conduzione dei me-

talli, EC , si può considerare al livello energetico E = 0, poichè l’energia
dell’elettrone in un metallo è esclusivamente cinetica; il livello di Fermi si
troverà dunque all’interno della banda di conduzione, all’incirca a 4, 5 eV.
Allo zero assoluto, tutti gli elettroni saranno al di sotto del livello di Fermi
(come si può osservare mediante lo studio della distribuzione di Fermi-Dirac);
si definisce dunque una funzione esprimente il lavoro di estrazione, qΦM , co-
me la minima energia in grado di estrarre, ad una temperatura pari a 0
K, un elettrone da un metallo. Gli elettroni più facili da estrarre, ad una
temperatura di 0 K, saranno quelli in prossimità del livello di Fermi EF .
I due ingredienti per poter esprimere l’occupazione di uno stato in un
metallo saranno dunque la funzione di densità degli stati energetici N (E), e la
funzione di occupazione f (E; T ): poichè trattiamo lo studio sull’occupazione
di stati da parte di elettroni, ossia fermioni, la funzione di occupazione in
questione sarà la già citata distribuzione di Fermi-Dirac.
1
N (E) = γn E 2
1
f (E; T ) = E−EF
1 + e kT
La funzione di densità degli stati effettivamente occupati, ρn , sarà data
dal prodotto dei nostri due ingredienti: funzione di densità degli stati e
funzione di occupazione degli stati. Ciò è meglio motivabile con un esempio
classico: dato un numero di sedie vuote disponibili in un cinema, ed il numero
di spettatori, il prodotto delle due fornirà il numero di sedie effettivamente
occupate dai potenziali spettatori.
Esprimiamo questa nostra intuizione, formulando la funzione ρn :
ρn (E) = N (E)f (E; T )
5
In un metallo, accadrà graficamente qualcosa di simile:
Questo grafico raffigura una situazione che non considera effetti termici,
ossia in cui la temperatura è pari a 0 K, e quindi la funzione di Fermi-Dirac è
di fatto un impulso rettangolare; in una condizione di notevole influenza ter-
mica, con una temperatura sui 3000 K, la funzione di Fermi-Dirac cambierà
sensibilmente, e di conseguenza la densità degli stati occupati.
Noi consideriamo però di trovarci ad una temperatura T ' 300 K, ossia

una temperatura ragionevolmente confrontabile alla temperatura ambiente;
a meno che non si parli di studi specifici riguardanti effetti termici partico-
larmente influenti, una temperatura come 300 K ci permetterà una buona
approssimazione rispetto alla realtà.
Per sapere esattamente quanti elettroni vi saranno nel metallo in ban-
da di conduzione, ad una certa temperatura, sarà sufficiente integrare la
funzione di densità di popolazione da 0 (livello di inizio della banda di con-
duzione EC ) a +∞ (in prima approssimazione, infatti, il modello di Bethe-
Sommerfeld prevede una modellizzazione di un metallo come una buca di
potenziale infinita).
Z +∞ Z +∞
n= ρn (E)dE = N (E)f (E; T )dE ∼ 1022 e− /cm3
0 0
In un metallo, abbiamo quindi a disposizione circa 1022 elettroni per cm3 .

Abbiamo già nominato il lavoro di estrazione, e la sua unità di misura,
l’elettronvolt (eV): 1 eV è l’energia che un elettrone ha se sottoposto ad
una differenza di potenziale pari ad 1 V; questa unità di misura è molto
compatibile con i problemi che si trattano in dispositivistica, e quindi molto
comoda. Alcuni lavori di estrazione noti sono quello dell’alluminio Al, di
4,1 eV, o quello dell’oro Au, di 5 eV; cosa si intende però per lavoro di
estrazione, precisamente? Abbiamo già dato una prima definizione; ora che
6
abbiamo parlato meglio di livello di Fermi, possiamo dire che il lavoro di
estrazione è la distanza energetica tra il livello di Fermi EF e il livello del
vuoto, della buca modellizzante il metallo, EB .
1.2 Semiconduttori
Il diagramma a bande di un semiconduttore è ben più articolato di quello
di un metallo; analizziamone un modello semplificato, per poter iniziare una
prima trattazione dei semiconduttori; gli elementi in esso contenuti saranno:
• EC : Inizio della banda di conduzione;
• EF : Livello di Fermi;
• EV : Termine della banda di valenza;
• Eg : Energy Gap, ossia distanza energetica tra banda di conduzione e

banda di valenza
Il livello di Fermi si trova, in un semiconduttore intrinseco, a metà tra

il livello EV ed il livello EC . Si introduce una prima diversificazione delle
notazioni, inserendo, quando si parla di semiconduttori intrinseci, ossia puri,
regolari, e che non han subito trattamenti tecnologici di alcun tipo, un pedice
aggiuntivo i: parlando di livello di Fermi intrinseco, si parlerà di EFi .
Abbiamo affrettato alcune conclusioni, per quanto esse siano corrette,
parlando del livello di Fermi: EF non può essere all’interno della banda di
valenza, altrimenti gli elettroni potrebbero andarsene liberamente in banda
di conduzione, e quindi il semiconduttore condurrebbe senza alcun proble-
ma, anche senza trattamenti particolari, anche allo zero assoluto; l’evidenza
sperimentale mostra che allo zero assoluto, e in condizioni di intrinsicità, la
banda di conduzione è vuota, e quella di valenza completamente piena di
elettroni.
Anche parlando di semiconduttori, si introduce il concetto di densità degli
stati disponibili, anche se sarà più complesso rispetto a quello nei metalli:
Le densità degli stati, in questo ambito, avranno forma:
1
NBC = γn (E − EC ) 2
1
NBV = γp (EV − E) 2
7
Un’ulteriore convenzione: il pedice n identifica gli elettroni in banda di
conduzione; al contrario, il pedice p evidenzia le lacune lasciate dagli elettro-
ni, in banda di valenza. In un semiconduttore, vi saranno infatti due tipi di
portatori di carica, ossia gli elettroni in banda di conduzione (come ovvio,
anche dallo studio dei metalli), ma anche le lacune in banda di valenza, ossia
gli ammanchi di elettroni causati dalla transizione di questi verso livelli ener-
getici superiori ad EV (quali ad esempio la banda di conduzione). La tecnica
per trovare il numero effettivo di portatori, sarà la stessa di prima, solo che
in questo caso, avendo due contributi, si dovranno risolvere due integrali:
Z +∞
1
ni = γn (E − EC ) 2 f (E; T )dE
EC
Z EV
1
pi = γp (EV − E) 2 f (E; T )dE
−∞
Ma, come ci suggeriscono i pedici i, ci troviamo in un caso intrinseco, e

quindi possiamo dire senza indugi che
ni = pi
Nel silicio, il semiconduttore per eccellenza nei nostri studi, ni = pi =
1, 45 · 1010 elettroni per cm3 , ad una condizione di temperatura di circa 300
K. Confrontando con i 1022 elettroni in un metallo, la conduzione è un evento
possibile, ma molto improbabile.
8
Continuiamo la nostra analisi fisica del comportamento elettrico dei se-
miconduttori, proponendo due equazioni fondamentali, che saranno spesso
usate nella trattazione:
Z +∞
EC −EF
n = ni = NBC (E)f (E)dE = NC,EF F e− kT
EC
Z EV EV −EF
p = pi = NBV (E)f (E)dE = NV,EF F e kT
−∞
I due termini NEF F sarebbero termini efficaci, che si riferiscono alla

definizione
3
(2m∗ πkT ) 2
Nef =
h
∗
Dove m è la massa efficace; sostituendo la massa efficace di elettroni o
lacune, si trovano rispettivamente la prima e la seconda equazione. Queste
due equazioni, si ottengono mediante un’approssimazione della distribuzione
di Fermi-Dirac alla distribuzione di Boltzmann, integrandola.
Ci imponiamo ora di calcolare la posizione energetica del livello di Fermi,
EFi : considerando NC ed NV valori efficaci, possiamo dire che
EC −EF EF −EV
i i
ni = pi = NC e− kT = NV e− kT
Sfruttiamo ora le condizioni di neutralità del semiconduttore intrinseco,

e cerchiamo di risolvere tale equazione rispetto al parametro EFi :
EC −EF
i
EF −EV
i NV
e− kT ·e kT =
NC
2EF
i EV +EC NV
e− kT · e− kT =
NC
EC + EV kT NV
=⇒ EFi = + ln
2 2 NC
Si noti tuttavia che le due concentrazioni NV ed NC differiscono esclusiva-
mente per la massa efficace di rispettivamente lacune ed elettroni; possiamo
dunque dire che, in caso di semiconduttori intrinseci quali quelli che stiamo
attualmente trattando, il termine logaritmico corregga solo di pochi meV (al
più una decina) il livello di Fermi:
kT NV EC + EV
ln ' 0 =⇒ EFi '
2 NC 2
9
Ci è ora possibile quotare il livello di Fermi intrinseco, potendo dire con
un’ottima approssimazione che esso si trova a metà del gap tra banda di
valenza e banda di conduzione. Di fatto, il livello di Fermi intrinseco perde
molto significato fisico, dal momento che raramente capita di aver a che fare
con semiconduttori intrinseci; sarà però spesso usato come punto di riferimen-
to per i nostri calcoli e le nostre congetture. Ora è veramente possibile quindi
disegnare il diagramma a bande dettagliato e quotato di un semiconduttore,
e nella fatispecie del silicio:
Valori fondamentali da ricordare, nel silicio, sono:
• Eg : Energy Gap (1,12 eV nel Silicio);
• qχ: Affinità Elettronica (4,05 eV nel Silicio);
• qΦS : Lavoro di estrazione.
Abbiamo definito anche nel semiconduttore il lavoro di estrazione, qΦS ;

si noti che questo perde il significato fisico fortissimo che aveva nel metallo,
in quanto al livello di Fermi intrinseco, EFi , non abbiamo elettroni, e dunque
il lavoro necessario per estrarre elettroni sarà ben maggiore di quello che
dovremmo compiere in un metallo. Affinità elettronica ed energy gap sono
utili in quanto restano costanti, indipendentemente dai processi tecnologici
che vengono attuati sul substrato semiconduttivo, quindi utili riferimenti per
i calcoli che sarà necessario attuare.
10
1.2.1 Calcolo di ni
Abbiamo parlato del numero di elettroni in banda di conduzione, lo abbiamo
eguagliato al numero di lacune in banda di valenza per quanto riguarda semi-
conduttori intrinseci, e abbiamo accennato al fatto che il moto dei portatori
di carica, ossia la corrente elettrica, sarà data sia dagli elettroni in banda di
conduzione, che dalle lacune in banda di valenza. Studiando un semicondut-
tore intrinseco, i fenomeni che stabiliscono la conduzione sono principalmente
due, uno in contrapposizione con l’altro:
• Generazione Termica (Gth): una temperatura non nulla muove un certo

numero di elettroni dalla banda di valenza alla banda di conduzione,
generando per l’appunto termicamente coppie elettrone-lacuna;
• Ricombinazione (R): gli elettroni, una volta separatisi dalle lacune,

possono ritornare nella banda di valenza, in seguito ad un certo transi-
torio di tempo trascorso in banda di conduzione, per ricombinarsi con
le lacune, facendo sparire una coppia elettrone-lacuna; si usa dire per
questo che sia il fenomeno antagonista della generazione termica.
Possiamo qualitativamente dire che i termini ni e pi rappresentino il punto

di equilibrio tra la ricombinazione termica e la ricombinazione, siano cioè il
numero di coppie elettrone-lacuna presenti ad una certa temperatura. Voglia-
mo però studiare espressioni che ci permettano di calcolare ni , ed in seguito
più generalmente n. I nostri punti di partenza, come abbiamo già detto in
precedenza, sono:
EC −EF
i
ni = NC e− kT
EF −EV
i
pi = NV e− kT
Siamo stati soliti finora usare come condizione al contorno del nostro pro-
blema la neutralità; ci capiterà spesso però di studiare condizioni molto meno
favorevoli, in cui la neutralità non sarà presente nel sistema; moltiplichiamo
dunque ni e pi , tra loro, e vediamo che:
EC −EF EF −EV EV −EC
i i
ni · pi = n2i = NC NV e− kT · e− kT = NC NV e kT
Quindi:
Eg
n2i = NC NV e− kT
11
Vediamo alcune cose: sappiamo da osservazioni precedentemente fatte
3
che NC ed NV variano proporzionalmente a T 2 ; di conseguenza, la concen-
trazione dei portatori intrinseci varierà più che esponenzialmente: oltre al
contributo dell’esponenziale, c’è quello appena citato di NC ed NV . Anche
il gap energetico Eg è funzione della temperatura: aumentando T, Eg tende
a diminuire; non esistono funzioni analitiche in grado di determinare un an-
damento del gap di energia in funzione della temperatura, a meno che non
si ricavino da processi di statistica inferenziale (fitting), che studiano l’anda-
mento del passo reticolare medio al variare della temperatura; all’aumentare
della temperatura, aumenta il passo reticolare medio, e quindi il gap ener-
getico tende a ridursi. Per questo motivo, il gap è molto influenzabile dalla
temperatura, ma poichè noi consideriamo di trovarci sempre a 300 K, pos-
siamo considerare il nostro sistema invariante rispetto a problemi di questo
tipo.
1.3 Caratterizzazione dei semiconduttori dro-

gati
Abbiamo finora esaminato semiconduttori regolari, intrinseci, e quindi non
trattati tecnologicamente in alcun modo; iniziamo ora a considerare lo stu-
dio della variazione delle caratteristiche elettriche di un semiconduttore, al
variare di alcuni parametri tecnologicamente impiantati all’interno di un se-
miconduttore, considerando idealmente che essi vengano disposti in modo
regolare, e omogeneo nel substrato semiconduttivo.
Un semiconduttore si può drogare in due modi: o tipo n, ossia incremen-
tando gli elettroni in banda di conduzione, o tipo p, incrementando le lacune
in banda di valenza. Concettualmente e a livello fisico i due processi presen-
tano notevoli differenze, anche se il risultato è molto simile. Incominciamo
la trattazione dei semiconduttori drogati, parlando di un drogaggio tipo n.
Definiamo ND la concentrazione di drogante tipo n inserito nel semicon-
duttore. Droganti comunemente usati in processi di drogaggio del silicio
sono l’arsenico As, o il fosforo P. Cosa significa però, precisamente, drogare
un semiconduttore?
Drogare tipo n significa aggiungere stati artificiali nell’energy gap, intro-
ducendo livelli energetici particolari, detti livelli donatori ED , in prossimità
di EC . Arsenico e fosforo sono ideali droganti per il silicio proprio perchè si
andranno a posizionare tendenzialmente in prossimità dell’inizio della banda
di conduzione (circa 40 meV l’arsenico, e pochi meV in più il fosforo). I
drogaggi variano dall’introduzione di ND dai 1014 ai 1019 atomi su cm3 .
12
In un semiconduttore drogato, le fenomenologie che provocheranno con-
duzione saranno tre:
• Generazione termica;
• Ricombinazione;
• Ionizzazione.
Drogare significa introdurre nel semiconduttore un fenomeno di ionizza-

zione; ad una temperatura nulla, T=0, possiamo considerare i livello ener-
getici donatori ED come delle sorte di gusci, contenenti elettroni. Questi
gusci tenderanno ad aprirsi, all’aumentare della temperatura T, e più T au-
menterà, più saranno i gusci che si apriranno, lasciando liberi gli elettroni,
che tenderanno ad andare verso la banda di conduzione, vicinissima ai livelli
ED . Da un salto di 1,12 eV, essi dovranno solo saltare pochi meV, e dunque
un effetto termico pressochè minimo permetterà una transizione in banda di
conduzione.
Si noti che la ionizzazione non ha un fenomeno antagonista, a differenza
della ricombinazione e della generazione termica che si elidono tra loro: ciò è
dovuto sia dal fatto che a 300 K non vi è la possibilità fisica che un elettrone
tenda a tornare verso il proprio guscio, sia e soprattutto dal fatto che gli ED
sono livelli energetici statici, localizzati, e non creano lacune. La ionizzazione
dunque realizza stati energetici che non dispongono assolutamente delle stesse
proprietà di trasporto di cui disponevano le lacune in precedenza descritte.
Per il drogaggio tipo p, il discorso è piuttosto simile, o meglio duale: gli
ioni droganti saranno identificati come NA , e daranno luogo a livelli accettori
EA , che tendono a disporsi in prossimità della banda di valenza, EV . Un
13
ottimo drogante tipo p per il silicio è il boro B. Anche nel drogaggio tipo
p avverrà un fenomeno di ionizzazione, che però agirà in senso diverso, fi-
sicamente: gli atomi idonei per il drogaggio tipo p, sono in grado, a spesa
di un minimo effetto termico, di aprirsi ed accettare elettroni dalla banda di
valenza, come dei gusci che si aprono, e catturano elettroni, anzichè liberarli
(a differenza di prima). Man mano che la temperatura aumenta, sempre più
gusci si apriranno e cattureranno elettroni. Anche qua il gap da saltare per
gli elettroni sarà infinitesimo, poichè il buon drogante posizionerà i propri
livelli accettori in prossimità del livello EV , e quindi daran vita a fenomeni
di trasporto in banda di valenza, senza avere fenomeni duali in contrapposi-
zione. Aldilà di queste osservazioni fisiche qualitative, le fenomenologie sono
del tutto analoghe a quelle descritte nel semiconduttore tipo n.
A partire da ciò che abbiamo finora descritto, facciamo alcune puntualiz-
zazioni onde evitare confusione:
• Non tutti gli atomi sono in grado di drogare un substrato semicon-

duttivo, ma solo certi, in base ad alcune caratteristiche che devono
possedere. Nel caso del silicio, per drogare tipo n devono essere pen-
tavalenti, e posizionare i propri livelli donatori in prossimità di EC ,
per drogare tipo p devono essere trivalenti e posizionare i propri livelli
accettori in prossimità di EV ;
• L’effetto del drogaggio provoca una notevole alterazione della popola-

zione delle bande energetiche, e dunque del diagramma a bande;
• L’effetto del drogaggio non è puramente additivo: non siamo sicuri che,
aggiungendo ad esempio 1010 atomi di arsenico, gli elettroni raddop-
pieranno (dalla loro condizione iniziale a 300 K di 1, 45 · 1010 , intrinse-
ci); siamo sicuri di un miglioramento nella conducibilità, per ora non
quantificabile, a causa di fenomeni intrinseci di ricombinazione.
1.3.1 Calcolo di n e p in un semiconduttore drogato

Per poter determinare parametri come le concentrazioni dei portatori attivi,
n e p, in un semiconduttore drogato (e quindi non più intrinseco), dobbia-
mo innanzitutto cercare una condizione al contorno idonea per potervi poi
applicare le giuste equazioni. Supponiamo per ora di drogare tipo n, con
concentrazione di drogante ND . Il meccanismo di ionizzazione ha una for-
te dipendenza dalla temperatura, quindi di fatto degli ND droganti ne sarà
attiva, ionizzata solo una parte, che chiameremo ND+ . Per ognuno di que-
sti droganti ionizzati, vi sarà un elettrone libero, in banda di conduzione.
Dover studiare una dipendenza della ionizzazione alla temperatura è molto
14
pesante per i conti che ne deriverebbero, ma si può applicare una condizione
interessantissima che ci accompagnerà spesso nella trattazione: l’ipotesi di
completa ionizzazione. Studiando l’andamento della ionizzazione al variare
della temperatura, si nota che per una temperatura intorno ai 100 K, tutte
le impurità droganti saranno ionizzate, e dunque attive, dopodichè aumen-
tando la temperatura si instaurerà un regime di saturazione, poichè non vi
sono ulteriori impurità da ionizzare. Poichè noi dunque studiamo sistemi ad
una temperatura T ∼ 300 K, potremo sempre considerare valida l’ipotesi di
completa ionizzazione, e quindi
ND+ = ND
Il livello di Fermi EF , nel drogaggio tipo n, si innalzerà rispetto alla
posizione di partenza, nel semiconduttore intrinseco, EFi . Si può dire che
infatti il livello di Fermi sia una sorta di baricentro dei livelli energetici,
come vedremo tra breve; non allontaniamoci per ora dal problema di base,
ossia il calcolo delle concentrazioni n e p. Supponiamo di conoscere EF ,
ossia il livello di Fermi alterato dal drogaggio. Consideriamo nn il numero
di elettroni in banda di conduzione in seguito al drogaggio tipo n (come
suggerisce il pedice), e pn il numero di lacune in banda di valenza sempre in
questo stato:
EC −EF
nn = NC e− kT
EF −EV
pn = NV e− kT
Consideriamo nuovamente, come prima, il prodotto delle due equazioni

membro a membro:
EC −EF EF −EV Eg
nn pn = NC NV e− kT · e− kT = NC NV e− kT = n2i
Abbiamo appena fatto, in seguito a questo semplice conto, una scoper-
ta interessantissima: qualsiasi siano le concentrazioni di portatori di carica
nelle bande, il loro prodotto è una costante, e questa costante è il quadrato
degli elettroni in banda di conduzione nel semiconduttore in stato intrinseco.
Questo fenomeno è detto legge dell’azione di massa:
nn · pn = n2i
Ciò ci fa rendere conto però anche di un problema gravissimo: tecnologi-
camente non è possibile crescere una delle due concentrazioni senza andare a
scapito dell’altra: le due concentrazioni non possono crescere di pari passo,
poichè il loro prodotto sarà sempre e comunque costante.
15
Consideriamo anche un altro fatto: la carica totale del semiconduttore è
nulla: ogni lacuna in banda di valenza ha un elettrone in banda di condu-
zione corrispondente, ed ogni elettrone derivante dal drogaggio ha un livello
(accettore in drogaggio tipo p, donatore nel drogaggio tipo n) ionizzato corri-
spondente. Esisterà dunque una condizione di neutralità del semiconduttore,
ma globale: la somma di tutte le cariche del semiconduttore sarà nulla.
Appilichiamo dunque la condizione di neutralità globale del semicondut-
tore:
q(pn + ND+ − nn ) = 0 =⇒ pn + ND+ − nn = 0

Dalla legge dell’azione di massa, sappiamo che
n2i n2
pn = =⇒ i + ND+ − n2n = 0
nn nn
Dunque, abbiamo un’equazione di secondo grado con variabile indipen-
dente nn ; risolvendola, e considerando solo la radice positiva, si ottiene:
s 2
+
ND ND
nn = + + ni
2 2
Consideriamo il fatto che le grandezze sono funzione della temperatura
T:
"s #
ND+ (T )

2ni (T )2
nn (T ) = 1+ +1
2 ND+ (T )
Però ni (T ) è nota, e di ND+ (T ) conosciamo l’andamento. Possiamo pen-
sare in modo molto qualitativo che l’andamento dei portatori maggioritari,
ossia degli elettroni in banda di conduzione nel semiconduttore drogato tipo
n, al variare della temperatura, sia il seguente:
Si possono distinguere tre regioni, associate a tre regimi particolari:
1. Regime di congelamento: per temperature inferiori ai 100 K, l’atti-

vazione dei droganti non è ancora completa, la generazione termica è
molto bassa a causa della scarsa temperatura e dunque scarsa energia
termica del sistema, e quindi vi sarà una bassa conducibilità;
2. Regime estrinseco: per temperature superiori a 100 K, si può consi-
derare l’ipotesi di completa ionizzazione, e quindi si ha un regime di
saturazione: ND+ = ND , e nn ' ND . Il fatto che si siano attivati
completamente i droganti, ma comunque vi siano scarsi effetti termi-
ci, fa prevalere la interazioni di tipo elettrostatico su tutte le altre,
16
nella fatispecie su quelle di origine termica. Questo è il regime che
tendenzialmente si utilizza, studiando dispositivi a semiconduttore;
3. Regime intrinseco: per temperature alte, le interazioni fononiche, ossia

derivanti da effetti termici, prevalgono su quelle elettrostatiche, e cosı̀
l’effetto del drogaggio tende a perdersi, per farsi sostituire da elettroni
intrinseci del materiale; in questo regime, nn ' ni (T ). Questo tipo
di comportamento è stato fatale per il germanio: il padre dei semi-
conduttori è infatti stato l’appena citato germanio, semiconduttore a
gap estremamente piccolo. Il fatto che il gap fosse cosı̀ ridotto, fa sı̀
che il regime intrinseco si instauri con una temperatura molto inferiore
rispetto a quella che lo farebbe instaurare nel silicio, di conseguenza
ni cresce molto più rapidamente, e quindi è scarsamente utilizzabile in
regime estrinseco, ossia quello utile nella maggior parte dei dispositivi.
Abbiamo largamente discusso l’andamento della funzione nn (T ); potrem-

mo ora chiederci quale sia l’andamento della funzione dei minoritari, pn (T ),
ossia delle lacune in banda di valenza in un semiconduttore drogato tipo n.
Sappiamo che
n2i (T )
pn (T ) =
nn (T )
Noi conosciamo bene sia l’andamento di ni (T ) che di nn (T ); la differenza
fondamentale da quest’ultima è che i portatori minoritari non hanno una zona
di saturazione, in un certo livello energetico, ma la concentrazione varierà in
modo puramente intrinseco. Non è inutile lo studio di questo andamento,
17
poichè alcuni dispositivi si basano sullo studio dell’andamento dei minoritari,
anche se ciò sarà molto meglio approfondito in seguito.
In un drogaggio tipo p, la situazione è del tutto duale a quella appena
descritta:
q(pP − NA− − np ) = 0 =⇒ pp − NA− − np = 0

Dall’azione di massa,
n2i
np = =⇒ p2p − NA− − n2i = 0
pp
Da ciò, ragionando dualmente a prima,
s 
− 2
N (T )  2ni (T )
pp (T ) = A 1+ + 1
2 NA− (T )
L’andamento è dunque del tutto analogo al precedente, esistono i tre

regimi, con le stesse condizioni del drogaggio tipo n. Stessa cosa per la
concentrazione dei minoritari np (T ), al variare della temperatura.
Potremmo a questo punto riproporre un problema precedentemente ac-
cennato: immaginiamo di drogare un substrato semiconduttivo sia tipo p
che tipo n; supponiamo di essere tecnologicamente in grado di poter intro-
durre una concentrazione di droganti NA uguale a quella di droganti ND ;
applicando la neutralità globale e la legge dell’azione di massa, si ottiene
che:
ND = NA−
+
p · n = n2i
+ − =⇒
q(p − n + ND − NA ) = 0 p−n=0
Si capisce che l’effetto del drogante ND compensa quello di NA , e vicever-
sa; se i due drogaggi sono dunque uguali, il semiconduttore torna semplice-
mente ad essere intrinseco. Ciò ci induce a pensare che vi sia un meccanismo
di compensazione dei droganti. Abbiamo dunque analizzato una casistica,
ossia ND = NA ; analizziamo le rimanenti due, al fine di poter studiare più
profondamente questo meccanismo di compensazione.
• ND > NA : i donatori prevalgono sugli accettori, e cosı̀ il drogante tipo

0
donatore in totale sarà ND+ :
0
ND+ = ND+ − NA−
18
• ND < NA : situazione duale a prima, dove gli accettori prevalgono sui
0
donatori, e quindi NA− sarà:
0
NA− = NA− − ND+
Un esempio pratico di semiconduttore drogato sia n che p è il transistore

bipolare (anche se sarà necessario introdurre molte altre nozioni prima di
arrivare a trattarlo); aprendo finestre tipo p in un semiconduttore drogato
tipo n, si può ottenere un prototipo di transistore bipolare.
1.3.2 Equazioni di Shockley

Partendo dalle nostre conoscenze, siamo ora in grado di disegnare e quotare
il diagramma a bande dettagliato di un semiconduttore drogato tipo n:
I simboli usati sono sempre i soliti; si può considerare valida l’ipote-

si di completa ionizzazione, e a partire da questa effettuare i nostri studi;
sappiamo che:
EC −EF NC
nn ∼ ND = NC e− kT =⇒ EC − EF = kT ln
ND
Possiamo dunque calcolare EC − EF , e da qui quotare il lavoro di estra-
zione:
NC
qΦSn = EC − EF + qχ = qχ + kT ln
ND
A seconda del drogaggio, il lavoro di estrazione varrà dai 4,61 al 4,05 eV.
Il calcolo che però noi abbiamo effettuato di EF non è ottimale: se do-
vessimo studiare il livello di Fermi in un semiconduttore drogato tipo p,
dovremmo ridisegnare da zero il diagramma a bande, rifare da capo le no-
stre congetture, e considerare la presenza di dati che comunemente non si
considerano, quali EC o EV . Utilizzando le relazioni appena studiate, in un
semiconduttore drogato tipo p il lavoro di estrazione sarebbe:
NV
qΦSp = qχ + Eg − kT ln
NA
19
Proponiamo ora qualcosa di diverso, ossia un metodo più globale, più sem-
plice, più generale per il calcolo del livello di Fermi EF , sia in semiconduttori
tipo n che in semiconduttori tipo p. Partiamo dalle solite:
EC −EF
n = NC e− kT
EF −EV
p = NV e− kT
Considerate in un semiconduttore intrinseco, esse saranno:

EC −EF
i
ni = NC e− kT
EF −EV
i
pi = NV e− kT
Ricaviamo ora da queste ultime due, NC ed NV , tenendo conto che in un

semiconduttore intrinseco, ni = pi :
EC −EF
i
NC = ni e kT
EF −EV
i
NV = ni e kT
Sostituendo le espressioni appena trovate a partire dalle equazioni in-

trinseche, NC ed NV , nelle equazioni del semiconduttore non intrinseco,
troviamo:
EC −EF EC −EF
i
n = ni e kT · e− kT
EC −EF EF −EV
i
p = ni e kT · e− kT
Ordinando e semplificando alcuni termini, si ricavano le cosiddette Equa-

zioni di Shockley, in onore del fisico statunitense che le ha formulate per la
prima volta:
EF −EF
i
n = ni e kT
EF −EF
i
p = ni e kT
Queste equazioni sono particolarmente interessanti in quanto in esse spari-

scono i parametri estremamente scomodi che nelle relazioni precedentemente
utilizzate erano da considerare come noti; gli unici parametri richiesti sono
20
ni , che ci è noto, e il livello di Fermi intrinseco, che si troverà esattamente a
metà dell’energy gap: quando si parlava di utilizzo del livello di Fermi intrin-
seco come punto di riferimento, si voleva proprio arrivare a questo risultato:
un’equazione in grado di fornire informazioni enormi a partire da dati mini-
mi. A partire da queste, invertendole, sarà semplicissimo calcolare il livello
di Fermi:
ND
EF − EFi = kT ln
ni
NA
EFi − EF = kT ln
ni
Dopo la formulazione delle Equazioni di Shockley, possiamo ritenere con-
clusa questa prima trattazione del comportamento fisico di un semicondut-
tore, e utilizzare i mezzi appresi per studiare una prima modellazione di un
semiconduttore.
21
Capitolo 2
Modello matematico delle

correnti nei semiconduttori
In un metallo, gli elettroni come già detto si trovano tutti in banda di con-
duzione, in continuo movimento, a causa di un moto di agitazione termica.
Essi possono solo essere trascinati da un campo elettrico ε, che provoca una
corrente di drift, cioè di trascinamento.
In un semiconduttore all’equilibrio termodinamico, le correnti sono nulle.
Supponiamo di considerare un semiconduttore con contatti metallici (al fine
di disperdere resistenze parassite), i quali sono collegati ad una batteria che
fornisce una tensione Va ; all’interno del semiconduttore vi sarà un campo
elettrico direzionato nel verso dell’asse delle x da noi introdotto, Ex = ε.
Ci poniamo a questo punto una domanda legittima: che effetto provoca
l’applicazione di una tensione Va , al semiconduttore? Come varierà il suo
diagramma a bande in seguito all’applicazione di questa tensione esterna?
Supponiamo di studiare un condensatore, e di poter disporre di un volt-
metro ideale, in grado di misurare la ∆V (x), ossia la differenza di potenziale
al variare della posizione spaziale. Fissiamo l’origine del nostro sistema di
riferimento cartesiano spaziale sulla faccia sinistra del condensatore, e l’asse
delle x ortogonale alla faccia, verso positivo da sinistra a destra; posizioniamo
uno dei due puntali del voltmetro a massa sulla faccia sinistra del condensa-
tore, e muoviamo l’altro all’interno di questo sistema: avremo come risultato
una misura della differenza di potenziale al variare della posizione, in riferi-
mento alla prima faccia. La tensione avrà, al variare della x, un andamento
lineare, ossia varierà come una retta, con pendenza positiva: man mano che
ci si allontana dalla faccia cui è posta la massa, la tensione tra i due puntali
continuerà ad aumentare. Giunti al punto d, ossia dopo aver raggiunto la
seconda faccia del condensatore, la tensione sarà Va , ossia la tensione ai capi
del sistema (considerando condensatore a facce piane parallele, escludendo
22
eventuali effetti di bordo e quindi considerando un campo elettrico uniforme
su tutta la superficie del condensatore).
Come varierà l’energia potenziale di un elettrone in questo condensatore?

Noi sappiamo, dallo studio dell’elettrostatica, che:

Va Va
ε = − ; F = −qε = −q −
d d
L’energia potenziale al variare della posizione spaziale x, U (x), da 0 a
x, sarà l’integrale di linea della forza elettrostatica del condensatore; poichè
abbiamo posto il puntale a massa sulla faccia sinistra del condensatore, e lo
0 della posizione spaziale in prossimità della massa:
Z x Z x
Va
U (x) = U (0) − F dx = 0 − q dx
0 0 d
Dunque, possiamo dire, risolvendo l’integrale, che:
qVa
U (x) = − x
d
Misurando l’energia in eV, il grafico coincide con il simmetrico rispetto
all’asse delle x del grafico appena visto per la tensione:
23
Esiste dunque un forte legame tra tensione ed energia potenziale di un
elettrone: poichè abbiamo trovato un’espressione dell’energia potenziale co-
me retta a pendenza negativa che da 0 raggiunge un livello −qVa , e poichè
il diagramma a bande altri non è che il grafico dell’energia di un elettrone,
una tensione esterna Va applicata ad un diagramma a banda, tende a ruotare
tutte le grandezze presenti all’interno del diagramma, di un certo angolo. Ef-
fettivamente sembra piuttosto stravagante come idea, ma del tutto sensata:
poichè l’energia potenziale di un elettrone di fatto, in seguito all’applicazio-
ne di una tensione esterna, è una retta a pendenza negativa, allora anche il
diagramma a bande dovrà subire una sorta di pendenza negativa, per poter
tener conto degli effetti della tensione sull’energia dell’elettrone. Fingendo
che ora al posto di un condensatore vi sia il nostro substrato semiconduttivo,
il discorso appena fatto è perfettamente valido.
Questo diagramma inclinato rappresenta dunque il punto di vista degli
elettroni: il campo elettrico provocato dalla tensione Va farà spostare verso
il basso (ossia in senso ad esso opposto) gli elettroni, e verso l’alto (ossia
in verso ad esso concorde) le lacune. Possiamo quasi immaginare, per fare
un confronto azzardato ma efficace, che l’applicazione di una polarizzazione
Va , inclinando il diagramma a bande, faccia risalire le lacune, come se fossero
bollicine d’aria, e faccia scendere gli elettroni, come se fossero palline di ferro.
In seguito a questa premessa, che ci permette di capire in modo del tut-
to qualitativo il comportamento di un semiconduttore e la variazione del
suo diagramma a bande in seguito all’applicazione di una tensione esterna,
introduciamo alcuni nuovi concetti; si consideri sempre il fatto che il semi-
conduttore è drogato in modo del tutto uniforme, e che dunque vi è una
condizione di neutralità sicuramente globale, ma anche locale: se infatti se-
zionassimo il semiconduttore, vedremmo che ogni singola fetta è localmente
neutra, ossia che la somma di tutti gli eccessi di cariche in essa presenti è
nulla. Questo perchè l’applicazione di un campo elettrico esterno non cam-
bia in alcun modo la concentrazione degli elettroni in banda di conduzione.
Possiamo immaginare che la differenza di potenziale Va esterna sposti gli
24
elettroni verso destra, dove vi è il contatto metallico nel quale gli elettroni
possono entrare liberamente; nel lato sinistro, capiterà qualcosa di duale: il
semiconduttore a causa della tensione e del campo da essa derivante preleva
dal contatto ohmico sinistro elettroni. Un elettrone, assorbito dalla lamina
destra, lascia un buco, una lacuna, che sarà poi in seguito ricombinata dalla
lamina sinistra, che fornisce elettroni al semiconduttore. Questo modello può
intuitivamente spiegare cosı̀ il trasporto di cariche.
Cerchiamo di formalizzare ora tutti questi concetti, partendo da una
definizione: vogliamo cercare di capire esattamente che cosa sia una corrente.
Una densità di corrente J è un flusso di cariche, ossia di elettroni; per
flusso possiamo intendere semplicemente il prodotto di una velocità per una
densità. Date le ipotesi precedentemente illustrate, l’unica corrente che avre-
mo a disposizione sarà quella di drift; la densità di corrente dovuta agli
elettroni in banda di conduzione sarà data da:
J− = Φx,e− (−q)
Il contributo delle correnti nel semiconduttore però sarà dato anche da
una densità di corrente di lacune, formalizzata come:
J+ = Φx,e+ (+q)
In totale, possiamo dire che la totale densità di corrente sarà data da:
J = Φx,e− (−q) + Φx,e+ (+q)

Abbiamo però detto qualche parola riguardo questo flusso, Φ, senza ap-
profondire molto, dicendo che è una densità di elementi moltiplicato per una
velocità di moto. Le ipotesi di neutralità ci spingono a considerare velocità
vd , ossia di drift. Partendo da ciò, potremo dire che, date le nostre ipotesi,
le espressioni dei due flussi saranno:
Φx,e− = nvd,e−
Φx,e+ = nvd,e+
Sostituendo nell’espressione della densità totale di corrente J,
J = −qnvd,e− + qnvd,e+
Stiamo ora continuando a parlare della velocità di drift, senza però aver-
ne fornito alcuna informazione: essa è una velocità non istantanea, ma me-
dia, dell’intera popolazione: essa è un parametro fittizio che descrive, ba-
25
sandosi sullo studio statistico di tutta la popolazione, la velocità media di
trascinamento di un singolo elettrone, tra un urto ed un altro con il reticolo.
Definiamo alcune nuove relazioni:
vd,e− = −µn ε
vd,e+ = µn ε
Dove µ rappresenta la mobilità dei portatori di carica, e ε è il soli-
to campo elettrico derivante dalla polarizzazione esterna. Mediante alcune
osservazioni, si può dire che:
−qτ
µn =
m∗n
qτ
µp =
m∗p
λ
τ∝
Nth
Il parametro λ ha una forte dipendenza dalla regolarità del reticolo cri-
stallino, che noi consideriamo perfetto per ipotesi.
Riassumendo ciò che abbiamo appena detto, la mobilità degli elettroni
è maggiore di quella delle lacune, poichè l’unico parametro variabile è la
massa efficace m∗ , notoriamente superiore nelle lacune che negli elettroni.
La mobilità dei portatori risente di alcune caratteristiche:
• Maggiore sarà la temperatura, maggiore sarà l’interazione fononica coi

nuclei, e dunque minore la mobilità dei portatori;
• Maggiore sarà il numero di imperfezioni del reticolo, minore sarà la

mobilità dei portatori;
• Maggiore sarà il drogaggio, e dunque la somma delle concentrazioni

(NA + ND ), e minore sarà la mobilità dei portatori di carica, poichè vi
sarà una popolazione maggiore.
E’ possibile spesso trovare dei grafici dei degradamenti di µn e µp :

Ora che abbiamo introdotto anche la mobilità elettronica, e una sua stima
grafica, possiamo completare la definizione della densità di carica, ed arrivare
ad una prima definizione di conducibilità elettrica in un semiconduttore:
Jn,drif t = (−q)n(−µn )ε
26
Jp,drif t = qpµp ε
La densità di corrente di drift totale, J, sarà
Jd = (qµn n + qµp p)ε = σε

L’espressione operativa della conducibilità in un semiconduttore sarà dun-
que:
1
σ= = qµn n + qµp p
ρ
In un metallo, la conducibilità è solo affidata al moto degli elettroni; in
un semiconduttore, bisogna dunque considerare anche le lacune in banda di
valenza, per avere un quadro completo delle correnti presenti.
2.1 Correnti di diffusione

Potrebbe capitare che, a causa di fenomeni particolari o per motivi elettri-
ci/tecnologici, si abbia in un semiconduttore una concentrazione degli elet-
troni in banda di conduzione non uniforme; sezionando idealmente il semi-
conduttore, le fettine non avrebbero più carica complessiva nulla, e quindi
la condizione di neutralità locale del semiconduttore sarebbe inapplicabile in
questo ambito. In una situazione come questa (che molto spesso trova riscon-
tro in applicazioni pratiche, come vedremo in seguito), avviene un fenomeno
di diffusione degli elettroni, causato dal gradiente della concentrazione al
variare della posizione in cui ci si trova. Questo perchè, qualitativamente
parlando, gli elettroni tendono ad uniformarsi, e dunque ad occupare le se-
zioni del semiconduttore meno popolate. La diffusione degli elettroni causata
27
dal gradiente dunque provoca un flusso di elettroni, ed anche un flusso di la-
cune, poichè anche esse tenderanno all’omogeneità nel sistema. Il campo ε è
del tutto ininfluente in questo processo, o meglio il processo è indipendente
da esso. Il campo elettrico provocava le correnti di drift precedentemente
studiate, ora avremo però due nuove correnti, provocate dalla diffusione dei
portatori:
Jn,dif f = −qΦx,e− dif f
Jp,dif f = qΦx,e+ dif f

Possiamo dunque intuire ciò:
∂n
Φx,e− dif f = −Dn
∂x
∂p
Φx,e+ dif f = −Dp
∂x
I termini Dn e Dp sono i coefficienti di diffusione rispettivamente di elet-
troni in banda di conduzione e di lacune in banda di valenza, per ora non
ancora quantificati. Questi coefficienti, moltiplicati per la variazione nello
spazio di concentrazione di portatori, ossia per la derivata parziale rispetto
a x dei portatori rispettivi, definisce i due flussi di diffusione.
Possiamo considerare questo moto come confrontabile a quello di un gas;
il gradiente della concentrazione di elettroni è negativo (secondo il sistema
di riferimento precedentemente definito), ma quindi il flusso risulta essere
positivo. Si noti che in un metallo questa situazione è assolutamente irrea-
lizzabile: nel metallo gli elettroni sono come un mare, che assorbe facilmente
qualsiasi perturbazione gli venga fornita. Tecnologicamente non è difficile
creare correnti di diffusione in un semiconduttore, come vedremo in seguito
parlando ad esempio della giunzione p-n.
2.2 Relazioni di Einstein ed Equazioni del Tra-

sporto
Formalizziamo ora tutto ciò che abbiamo finora detto, partendo dalle ultime
relazioni discusse: la densità totale di corrente di diffusione, Jdif f , è data da:
Jdif f = Jn,dif f + Jp,dif f
28
∂n
Jn,dif f = qDn
∂x
∂p
Jp,dif f = −qDp
∂x
Si possono ricavare i due coefficienti Dn e Dp , mediante le Relazioni di
Einstein, e scoprire che:
kT
Dn = µn
q
kT
Dp = µp
q
Per semplicità, si definisce il termine kT
q
come equivalente in tensione
della temperatura: esso infatti dimensionalmente è una tensione, chiamata
convenzionalmente VT :
kT
VT =
q
Il valore di VT ad una temperatura di 300 K, è circa di 26 mV.
Mediante queste prime relazioni, abbiamo trovato i primi tasselli del puzz-
le rappresentante il modello matematico delle correnti in un semiconduttore:
le Relazioni di Einstein, e le equazioni del trasporto che ora esporremo in
forma ordinata:
∂n
Jn = qnµn ε + qDn
∂x
∂p
Jp = qpµp ε − qDp
∂x
2.3 Equazione di continuità

Supponiamo di avere un cubo di lato infinitesimo dx, e sezione A; vogliamo
quantificare la carica in esso contenuta. Supponiamo che il cubo si trovi,
sul nostro sistema di posizione cartesiano, nel punto x, e termini quindi nel
punto x + dx.
Nel punto x entrerà una certa corrente, e quindi un certo flusso di cariche,
mentre nel punto x + dx ve ne sarà presumibilmente un’altra, non sappiamo
se uguale o meno. Formalizzando, possiamo dire che:
29
∂n Jn (x)A
Adx =
∂t −q
Cosa abbiamo detto qui: la variazione del numero di elettroni nel tempo,
all’interno del volume del cubo, è uguale alla densità di carica diviso la carica
fondamentale, e quindi è uguale al flusso di cariche che circolano nel cubo. In
realtà, sarebbe necessario considerare, nella transizione all’interno del cubo,
altri tipi di fenomenologie, quali la generazione termica e la ricombinazione.
Formalizzando ulteriormente, possiamo aggiungere che:
∂n Jn (x)A Jn (x + dx)A
Adx = − + (Gth − R)Adx
∂t −q −q
Sviluppiamo ora in serie di Taylor troncando al primo ordine il termine
Jn (x + dx):
∂Jn (x)
Jn (x + dx) ' Jn (x) + dx
∂x
Sostituendo nell’espressione appena trovata, si trova che:

∂n Jn (x)A Jn (x)A 1 ∂Jn (x)
Adx = − + Adx + (Gth − R)Adx
∂t −q −q −q ∂x
∂n ∂Jn 1
=⇒ = − Un
∂t ∂x q
Dove si definisce Un come il tasso medio di ricombinazione:
Un = R − Gth
30
In modo del tutto analogo si può ricavare l’equazione di continuità delle
lacune, partendo dalle stesse equazioni precedentemente usate, e sfruttando
tecniche analitiche ed algebriche del tutto uguali, si ottiene:
∂p 1 ∂Jp
=− − Up
∂t q ∂x
2.4 Equazione di Poisson

Il nostro modello matematico delle correnti nel semiconduttore è ancora
molto carente: l’equazione di continuità è molto potente, tuttavia non sia-
mo in grado di riferirci con precisione ai termini della suddetta, in quanto
conosciamo molto poco riguardo ad essi.
Possiamo però sfruttare un’idea geniale: sostituire le due equazioni di
continuità, all’interno delle equazioni di trasporto precedentemente ricavate:
le soluzioni di questo sistema di equazioni sarà un’espressione analitica delle
densità di portatori, in funzione di tempo e posizione, n(x; t) e p(x; t). Que-
ste non sono però le uniche incognite del problema: leggendo le equazioni
precedentemente introdotte, troviamo anche il campo elettrico ε, e il termine
di ricombinazione Un o Up a seconda se si studiano rispettivamente elettroni
o lacune.
Supponiamo dunque di avere, rispetto alla condizione di equilibrio, uno
spostamento di cariche, un accumulo locale di cariche, in grado di instaurare
gradienti di concentrazione e dunque un processo di diffusione mediante il ge-
nerarsi di flussi di portatori. Formalizziamo, nel nostro modelo matematico,
questo moto di cariche.
Supponiamo di avere eccessi locali di cariche, uno negativo ed uno positi-

vo: globalmente, il sistema sarà neutro. Gli eccessi di cariche daranno vita a
campi elettrici nella zona compresa tra i due eccessi, non trascurabili. Inco-
minciamo dunque a studiare la densità di distribuzione delle cariche, in tutti
31
gli eccessi, al variare della posizione x in cui osserviamo il semiconduttore in
questo stato:
ρ(x) = +q p(x; t) − n(x; t) + ND+ (x) − NA− (x)

Data la distribuzione delle cariche, ora ci interessiamo del campo elettrico

ε. Per far ciò, dobbiamo però aver ben presente il legame tra carica e campo
elettrico, senza aver ancora introdotto l’Equazione di Poisson, risultato finale
di questa sezione della trattazione del modello matematico. Apriamo una
breve parentesi ad un primo studio del legame tra carica e campo elettrico.
2.4.1 Legame Carica - Campo Elettrico

Dato il solito modello semplificato di condensatore a facce piane parallele
non dotato di effetti di bordo, applicata sulle facce una tensione ∆V =
Va , osserviamo che il campo elettrico ε(x) fuori dal condensatore è nullo;
sappiamo dallo studio di Fisica riguardo l’elettrostatica, e dall’analisi dei
campi vettoriali, che:
∂Φ
ε(x) = −
∂x
Dove Φ è il potenziale. Utilizzando il teorema fondamentale del calcolo
integrale:
Z d Z x
Φ(x) = − ε(x)dx ⇐⇒ Φ(x) = Φ(0) − ε1 dx
0 0
Come sempre, consideriamo a 0 la massa del nostro sistema, dunque
Φ(0) = 0; si otterrà che:
Va
Φ(x) = −ε1 x =⇒ ε1 = −
d
Tuttavia, parlando di condensatori, si introduce la capacità definita come
il rapporto tra carica e tensione, ma anche come rapporto del dielettrico
contenuto nel condensatore, 0 , e della distanza tra le facce:
Q 0
C= =
Va d
Possiamo dunque dire, invertendo l’espressione, che
Q Q
Va = =
C 0 d
32
Riprendendo il legame tra campo e potenziale, si arriva finalmente a dire
che:
Q
ε1 = −
0
Abbiamo trovato in questo particolare caso un’espressione del campo ε1 ,
esplicitato in funzione della carica, anche detto Legge di Gauss (in realtà essa
racchiude significati ben più profondi di quello appena mostrato, ma che non
sono utili alla trattazione). Questo è un caso molto particolare, che dovremo
estendere per ottenere la più generale formulazione del legame tra una carica
ed una differenza di potenziale, ossia l’Equazione di Poisson
2.4.2 Dimostrazione qualitativa dell’Equazione di Pois-

son
Ci preoccupiamo ora di mostrare l’equazione di Poisson, e di spiegarne il
significato profondo, mediante una dimostrazione non rigorosa ma comunque
efficace. L’equazione di Poisson avrà una forma del tipo:
∂ 2Φ ρ(x)
2
=−
∂x S
Il termine S è la costante dielettrica del semiconduttore: esso sarà il
prodotto di 0 , ossia la costante dielettrica del vuoto, e di rS , ossia la costante
dielettrica relativa del semiconduttore. ε sarà il campo elettrico provocato
dagli eccessi di carica descritti mediante la loro funzione di densità ρ(x).
Poichè sappiamo già che:
∂Φ
ε=−
∂x
Mediante l’applicazione dell’equazione di Poisson possiamo dire che:
Z
ρ(x)
ε(x) = dx
S
Dunque,
ρ(x)
ε(x) = x
S
Il campo avrà una forma di questo tipo: da −∞ a x1 il campo è costan-
temente nullo; addentrandoci nella regione di cariche, il campo crescerà, fino
all’uscita dalla regione, in x2 . Il campo ora rimarrà costante, fino a quando
non ci si addentrerà nella seconda regione di cariche, da x3 , che ridurrà il
33
campo, fino ad annullarlo in x4 . Andando da sinistra a destra, e considerando
prima una densità positiva (per x < 0), poi una positiva (in x > 0).
Integrando poi ε(x), si vedrà che:
Z
Φ(x) = − ε(x)dx
Considerando come massa Φ(x1 ) = 0. Vediamo dal precedente studio,

sul campo, che esso è maggiore di 0 per qualsiasi posizione x si scelga nello
spazio. L’integrale di tale funzione cambiata di segno sarà dunque negativo,
ed avrà un andamento di questo tipo: per x < x1 , il potenziale sarà sempre
0, come fissato anche dalla massa. Poichè nella regione delle cariche, da x1
a x2 , abbiamo un campo ad andamento lineare, integrandolo ulteriormente
esso diverrà quadratico, e quindi parabolico. Poichè, ribaltando l’andamento
del campo, la retta avrà pendenza negativa, allora la concavità del tratto di
parabola sarà rivolta verso il basso. A questo punto, da x2 a x3 , si trova
un regime di campo costante, in cui il campo è positivo, ma quindi ribaltato
negativo, e ciò darà vita ad un tratto di retta a pendenza negativa, dal punto
x2 al punto x3 . Da x3 a x4 si ripeterà il ragionamento precedente, ma questa
volta la distribuzione ribaltata del campo avrà pendenza positiva, poichè
dovrà crescere fino a 0, quindi il tratto di parabola avrà concavità rivolta
verso l’alto.
L’equazione di Poisson avrà un ruolo fondamentale nel modello matema-

tico delle correnti in un semiconduttore, poichè sarà essa a fornirci le infor-
mazioni sul campo e sul potenziale, a partire dalla distribuzione di cariche
fornita o studiata nel problema.
2.5 Considerazioni su semiconduttori fuori equi-

librio
Prima di iniziare le nostre considerazioni sui semiconduttori fuori equlibrio,
aggiorniamo la simbologia che utilizzeremo d’ora in poi: quando trattere-
mo quantità all’equilibrio, termodinamico, ottico o di qualunque altro tipo,
34
useremo il pedice aggiuntivo 0: esempi saranno np0 , nn0 , ni0 , pn0 , pp0 , pi0 .
Senza il pedice 0, i simboli finora utilizzati indicheranno una condizione di
non equilibrio nel semiconduttore causata da un qualche fenomeno.
Ci chiediamo però: come possiamo creare, in un semiconduttore, una
situazione di non-equilibrio?
Prendiamo un semiconduttore drogato tipo n, con un drogaggio ND , ed
esponiamolo ad un fascio di fotoni dotati di energia ~ω > Eg , ossia dotati
di un’energia superiore al gap di energia tra banda di valenza e banda di
conduzione, in modo da facilitare le transizioni di elettroni.
Irradiamo una sola faccia del nostro semiconduttore con i fotoni ~ω, in
un punto che consideriamo come origine del sistema cartesiano; il fatto che
la loro energia sia sufficiente a provocare molte transizioni di elettroni dalla
banda di valenza a quella di conduzione, permette la generazione di diverse
coppie elettrone-lacuna: esse sbilanceranno le distribuzioni dei portatori in
prossimità del punto 0, nn (0)epn (0) le quali varieranno rispetto ai valori
di equilibrio. Questo tipo di processo si può chiamare generazione termica
(Gott), e lo consideriamo come un fenomeno puramente additivo: l’unico
fenomeno ad essa contrapposto è la ricombinazione. Di fatto la generazione
ottica inietta coppie elettrone-lacuna in un semiconduttore, ma esistono due
sostanziali livelli di iniezione:
• Basso livello di iniezione: l’iniezione di coppie elettrone-lacuna altera
i portatori minoritari, ma non è abbastanza elevata da poter variare
sensibilmente i portatori maggioritari. Ad esempio, se ND = 1016 ,
nn0 = ND , pn0 = 104 , i fotoni ~ω generano 1013 coppie elettrone-
lacuna, nn ' nn0 , poichè 1016 + 1013 ' 1016 , ma pn ' G(~ω): infatti,
104 + 1013 ' 1013 .
• Alto livello di iniezione: l’iniezione di coppie elettrone-lacuna è tal-
mente elevata da riuscire ad alterare sensibilmente sia i minoritari che
i maggioritari: supponiamo di avere una situazione come prima, ossia
ND = 1016 , nn0 = ND , pn0 = 104 , i fotoni ~ω generano però 1019 coppie
elettrone-lacuna. A queste condizioni, nn ' pn ' G(~ω): la generazio-
ne termica è cosı̀ potente da compensare interamente il drogaggio ND ,
e cosı̀ annullarlo.
2.6 Modello del Tasso di Ricombinazione Net-

to
Cerchiamo ora di completare il nostro modello matematico delle correnti in
un semiconduttore, introducendo un modello del tasso netto di ricombina-
35
zione: supponiamo, prima di iniziare con il formalismo, di avere un semicon-
duttore all’equilibrio, e dunque nn = nn0 , e pn = pn0 . In questa situazione,
la generazione termica eguaglia la ricombinazione: per ogni generazione ter-
mica vi è la ricombinazione antagonista, che non permette il perdurare di
un’eventuale variazione della situazione. Possiamo immaginare che questo
sia un caso limite del nostro modello: vi dovrebbe essere un coefficiente di
proporzionalità α che permetta di regolare la ricombinazione, in questo modo:
R = αnn0 pn0
In altre parole, aumentare uno dei due portatori, implicherebbe aumen-
tare anche il fenomeno di ricombinazione nel nostro semiconduttore. Con-
sideriamo questa proporzionalità come un assioma, e sviluppiamo il no-
stro modello; avevamo detto che, all’equilibrio termodinamico, R = Gth,
e dunque:
R = αnn0 pn0 = Gth

Ad un basso livello di iniezione, vi sarà una variazione dei minoritari, in
questo ambito di pn , ma non dei maggioritari: in altre parole, nn = nn0 . Il
livello di ricombinazione, da quello precedente, diventerà:
R = αnn pn
Definendo Un il tasso medio di ricombinazione degli elettroni, ma soprat-
tutto Up il tasso medio di ricombinazione delle lacune, minoritarie in questo
ambito, vediamo che:
Up = R − Gth = αnn pn − αnn0 pn0 = αnn0 (pn − pn0 )

Ma poichè consideriamo sempre valida l’ipotesi di completa ionizzazione,
possiamo tranquillamente dire che:
Up = αND (pn − pn0 )

Introduciamo dunque un’ulteriore definizione: il tempo di vita medio delle
lacune, τp
1
τp ,
αND
τp è un tempo medio di vita delle lacune in una condizione a loro sfa-
vorevole, detto in modo molto approssimativo: poichè ci troviamo in un
semiconduttore drogato tipo n, il tempo di vita degli elettroni in quanto
maggioritari sarà molto superiore a quello delle lacune, dunque di fatto la
36
loro vita media sarà inferiore, in quanto in proporzione saranno molto più
colpite dalla ricombinazione degli elettroni (gli elettroni nati da ionizzazione
infatti non hanno un antagonista). Possiamo dunque finalmente terminare il
modello del tasso di ricombinazione, per le lacune, come:
pn − pn0
Up =
τp
Cosa ci dice ciò: drogando un semiconduttore, a seconda di quanto più
drogante vi immetteremo, faremo sempre più abbreviare la vita dei portatori
minoritari, poichè aumenteremo la ricombinazione, che va principalmente a
loro scapito. Considerando pn − pn0 un eccesso di lacune, si suol definire
pn − pn0 = p0n
Dove l’apice indica proprio fatto che si parla di un eccesso. In tali
condizioni, il tasso di ricombinazione netto sarà:
p0n
Up =
τp
Chiaramente, parlare di p0n e di n0p ha senso solo fuori equilibrio, in seguito
ad una perturbazione esterna, altrimenti la differenza tra il valore finale della
concentrazione di minoritario e il valore all’equilibrio sarebbe banalmente
nulla.
Le due relazioni che costituiranno il nostro modello di ricombinazione
saranno dunque:
pn − pn0
Up =
τp
np − np0
Un =
τn
Si noti che questo è un modello di ricombinazione diretta, ossia basato
su semiconduttori a gap diretto, e dove cioè le transizioni elettroniche da
un livello energetico ad un altro sono di tipo diretto, e quindi non consi-
deranti le interazioni fononiche. Esistono modelli che prevedono transizioni
indirette, ma ciò non toglie l’efficacia di questo modello, nelle situazioni che
lo riguardano.
2.7 Esercizio Pratico

1. Dato un campione di silicio, drogato con NA = 1016 atomi/cm3 :
37
(a) Disegnare diagramma a bande dettagliato all’equilibrio termodi-
namico quotando ogni dettaglio;
(b) Calcolare la resistenza sapendo che l=1mm; A = 1 mm2 .
2. Successivamente, si droghi lo stesso campione, con ND = 1017 atomi/cm3 ;

a questo punto:
(a) Disegnare diagramma a bande dettagliato all’equilibrio termodi-

namico quotando ogni dettaglio
(b) Calcolare la resistenza sapendo che l=1mm; A = 1 mm2 .
3. Sapendo che il semiconduttore è illuminato con una radiazione luminosa

generante 1013 coppie elettrone-lacuna sulla faccia posta in x=0, si
calcoli come le lacune in eccesso si redistribuiscono nel semiconduttore
con τp = 1 ms.
4. Supponendo di ripetere l’analisi del punto precedente, avendo applicato

una tensione di polarizzazione Va = −1 V al campione, se ne valuti
l’effetto.
2.7.1 Risoluzione
Disegnare diagramma a bande dettagliato all’equilibrio termodina-
mico quotando ogni dettaglio
Cerchiamo di quotare il nostro diagramma a bande, e quindi di trovare tutti
i dati che ci servono per avere un quadro completo della situazione. Siamo
in un semiconduttore drogato tipo p, e quindi, poichè ci troviamo a 300 K,
possiamo dire che la condizione di completa ionizzazione è applicabile, e non
siamo in un regime intrinseco:
pp (300) ' NA
Calcoliamo dunque il livello di Fermi, partendo dall’equazione di Shoc-
kley:
EF −EF
i NA
pp (300) ' NA = ni e− kT =⇒ EFi − EF = kT ln
ND
Poichè come abbiam già detto, kT ' 0, 026V , ed NA = 1016 , facendo i
conti troviamo che il livello di Fermi EF vale 349 meV. Possiamo considerare
noto il gap di energia Eg , e l’affinità elettronica qχ.
Il lavoro di estrazione, dunque, varrà:
38
Eg
qΦSp = qχ + + EFi − EF = 4, 05 + 0, 56 + 0, 349 = 4, 959 eV
2
Calcolare la resistenza sapendo che l=1mm; A = 1 mm2

Abbiamo quotato tutto ciò che siamo in grado di fare, per questo possiamo
passare al calcolo della resistenza del semiconduttore. Partendo dalla legge
di Ohm, possiamo dire che:
l
R=ρ
A
Disponiamo partendo dai dati del problema di l ed A, ma non abbiamo
alcuna informazione riguardante ρ. L’unica cosa che sappiamo, è che:
1
ρ=
σ
Abbiamo ampiamente studiato σ in precedenza, e siamo arrivati a dire
che:
σ = q(µn n + µp p)
Noi disponiamo di p, ma ci mancano sia i minoritari n, che le mobilità
relative ad n e p. Per queste ultime, è necessario consultare un grafico,
contenente la degenerazione delle mobilità al variare della temperatura e
della concentrazione di portatori NA + ND , e quindi possiamo dire che:
µn = 1050; µp = 350
Per quanto riguarda invece i minoritari, è sufficiente applicare la legge
dell’azione di massa:
n2i
np · pp = n2i =⇒ np = = 2, 1 · 104
pp
Il fatto che il numero di minoritari sia inferiore a quello di maggiori-
tari di molti ordini di grandezza, ci permette di trascurarli, calcolando la
conducibilità elettrica. Possiamo dunque dire che:
σ ' qµp pp = 0, 746

Invertendo ora σ, troviamo ρ, e possiamo quindi calcolare R:
1 l
R=
σA
39
Abbiamo cosı̀ risolto facilmente i primi due punti del problema; risolvere i
secondi è del tutto inutile, in quanto il processo è del tutto analogo, tenendo
semplicemente conto del fatto che vi è una compensazione del drogante tipo p,
NA , in seguito all’introduzione di ND . Ricalcolando la nuova concentrazione
di minoritari mediante la legge dell’azione di massa, e le nuove mobilità dei
portatori, si può facilmente raggiungere lo stesso risultato appena trovato
(chiaramente le cifre saranno diverse).
Calcolo lacune in eccesso

Trattiamo il terzo punto del problema, che sarà molto più interessante dei
primi due. Talvolta, converrà fare divagazioni, che torneranno molto utili
nello studio di dispositivi in un momento più avanzato della trattazione.
Supponiamo dunque di avere 1013 coppie elettrone-lacuna, e dunque di avere
un basso livello di iniezione. Ciò che capiterà, è che:

pn0 1013
nn0 1013
Applichiamo per la prima volta il modello matematico, partendo dall’e-
quazione di continuità:
∂pn 1 ∂Jp
=− − Up
∂t q ∂x
Consideriamo il fatto che la generazione ottica non subisce variazioni nel
tempo, e che dunque, al variare del tempo t, il numero di coppie sarà sempre
lo stesso, e quindi la derivata nel tempo sarà nulla.
1 ∂Jp
=⇒ − − Up = 0
q ∂x
Introducendo il nostro modello di ricombinazione diretta,
1 ∂Jp pn − pn0
− − =0
q ∂x τp
Consideriamo l’equazione di trasporto della corrente, rappresentante la
densità di corrente Jp , e quindi
∂pn
Jp = qµp pn ε − qDp
∂x
Consideriamo però che il nostro semiconduttore è isolato rispetto all’e-
sterno, e dunque non vi sono fenomeni di polarizzazione, e il campo elettrico
dall’esterno risulterà essere nullo, poichè non abbiamo polarizzazioni esterne.
40
Potremmo pensare però ad eccessi di carica interni generati dall’iniezione ot-
tica: sarebbe un pensiero fuorviante, poichè la generazione ottica provoca la
nascita di coppie elettrone-lacuna, e quindi non viene perturbato l’equilibrio
in questo senso, dunque possiamo considerare ρ = 0, ed ε = εext + εint = 0.
Il vero problema che potrebbe nascere è il seguente: la diffusione di elettroni
e lacune avviene con una velocità differente, poichè la differenza delle masse
efficaci di elettroni e lacune fa sı̀ che queste seconde abbiano una mobilità
inferiore, ergo potrebbero generarsi campi elettrici momentanei, in seguito
a gradienti di diffusione temporanei. Al fine di prevenire questa possibilità,
consideriamo un’ipotesi aggiuntiva: la quasi neutralità del semicondutto-
re: ε ' 0: infatti il campo elettrico effettivamente potrebbe agire, ma solo
sulla corrente dei minoritari, che quindi non ci riguarda, in quanto del tut-
to trascurabile. Accettando tale ipotesi, l’equazione di trasporto si ridurrà
semplicemente a:
∂pn
Jp ' −qDp
∂x
Sostituendo l’equazione di trasporto in quella di continuità, e consideran-
do solo gli eccessi di cariche dovuti alla ricombinazione, si otterrà:
1 ∂ 2 p0 p0
0 = − Dp 2n − n
q ∂x τp
Questa di fatto rappresenta un’equazione omogenea di secondo ordine a
coefficienti costanti:
∂ 2 p0n 1 0
= p
∂x 2 Dp τp n
Considerando il polinomio caratteristico di quest’equazione, e riducendola
ad un’equazione di secondo grado, si ottiene che gli autovalori del polinomio
caratteristico avranno forma:
1 1
λ2 = =⇒ λ1,2 = ± p
Dp τp Dp τp
Potremmo ora fare quest’osservazione: il termine Dp τp è una lunghez-
za quadratica, dimensionalmente parlando. Si definisce il parametro detto
lunghezza di diffusione, relativo alle lacune, come:
p
Lp = Dp τp
Di fatto la lunghezza di diffusione è un parametro che ci permette di
capire quanto velocemente i minoritari iniettati si disperdono, man mano
41
che ci si allontana dalla zona di iniezione: se la posizione che si analizza è
lontana alcune lunghezze di iniezione, si troveranno pochissimi minoritari.
Chiaramente, vale una relazione del tutto duale, per gli elettroni iniettati in
un semiconduttore drogato p, ossia:
p
Ln = Dn τn
Tornando al nostro problema, come sappiamo dalla teoria della risoluzione
delle equazioni differenziali a coefficienti costanti, le soluzioni dell’equazione
differenziale prima esposta avrà forma del tipo:
p0n (x) = Aeλ1 x + Beλ2 x

Nella fatispecie, la soluzione sarà:
x
− Lx
p0n (x) = Ae Lp + Be p
Dobbiamo ora trovare le costanti di normalizzazione A e B: per far ciò

serviranno due condizioni al contorno del problema:
1. Sappiamo che, lontano dalla zona di iniezione, le lacune si saranno in-

teramente ricombinate, e quindi, considerando di trovarci in una zona
molto lontana dalla zona di iniezione, possiamo dire che la ricombina-
zone avrà annullato tutti i minoritari, e quindi
p0n (∞) = 0 =⇒ A = 0
2. Abbiamo una condizione al contorno sulla posizione iniziale: noi sappia-

mo infatti esattamente quante coppie elettrone-lacuna vengono inietta-
te otticamente, e quindi possiamo dire che, in quella che consideriamo
l’origine del sistema cartesiano, e l’origine dell’iniezione delle lacune,
p0n (0) = 1013 =⇒ B = 1013
Siamo arrivati, analizzando il nostro semiconduttore in condizione di lato

lungo (che vedremo non essere sempre valida), ad esprimere una relazione in
grado di descrivere l’andamento degli eccessi di portatori minoritari iniettati
in un semiconduttore drogato. Ci chiediamo a questo punto, come studiare
l’andamento delle correnti, data la funzione appena trovata. Ci chiediamo
innanzitutto, se esistono correnti nel semiconduttore, a queste condizioni; la
corrente totale infatti, indipendentemente dall’andamento della distribuzione
appena espressa, dovrebbe essere nulla: se cosı̀ non fosse, significherebbe che
42
vi sono accumuli nel tempo, che violerebbero la legge di conservazione della
carica. Dato che trattiamo un semiconduttore lungo,
− Lx
p0n (x) = p0n (0)e p
Quindi, possiamo ricavare la corrente derivando questa distribuzione;

infatti:
∂p0n qp0 (0)Dp − Lxp

Jp,dif f (x) = −qDp = n e
∂x Lp
La variazione di concentrazione dovrebbe provocare una corrente di que-
sto tipo:
Ciò è in accordo con quanto abbiamo appena detto: allontanandoci dal

punto di iniezione, abbiamo un comportamento soddisfacente in quanto la
ricombinazione elimina tutte le correnti di minoritari, ma in un intorno del
punto di iniezione la corrente è diversa da 0. Si può intuire che vi sia un flusso
di elettroni che controbilancia la corrente in questo intorno di punti, in modo
da garantire comunque la conservazione della carica. Questo problema sarà
molto importante da studiare in seguito, trattando le correnti nella giunzione
p-n, che ora inizieremo a studiare.
2.7.2 Ipotesi di lato corto

Permettiamoci una digressione sul problema appena studiato: esistono con-
dizioni (molto comuni, parlando ad esempio di microelettronica o nanotec-
nologie), in cui un dispositivo elettronico ha una lunghezza confrontabile o
addirittura inferiore alla lunghezza di diffusione, e quindi in cui il mecca-
nismo di ricombinazione del semiconduttore di fatto non riesce, nonostante
l’andamento esponenziale, a ridurre a zero il numero di lacune. Le condizioni
al contorno che abbiamo utilizzato, non sono dunque più valide, in quanto
43
non è possibile assimilare la lunghezza del lato a ∞. Chiaramente, i passaggi
iniziali saranno del tutto analoghi, e la soluzione dell’equazione differenziale
cui arriveremo sarà sempre della forma:
x
− Lx
Al fine di poter ricavare nuove condizioni al contorno, sarà necessario

proporre nuove ipotesi assuntive: il semiconduttore, per quanto corto, dovrà
essere per esempio essere chiuso su di un metallo, mediante due placchette,
al fine di poter ottenere un contatto ohmico. Costruendo tecnologicamente
un dispositivo di questo tipo, la condizione al contorno che potremo appli-
care, sarà la totale ricombinazione nel punto estremo del semiconduttore, d:
infatti, il contatto ohmico permette una totale ricombinazione con i minori-
tari non ancora ricombinati, all’interno del semiconduttore. Potremo dunque
considerare, come condizioni al contorno,
p0n (d) = 0
p0n (0) = A + B
Partendo da ciò, troviamo che:
B = p0n (0) − A
d
− Ld
0 = Ae Lp + (p0n (0) − A)e p
Svolgiamo ora alcuni passaggi algebrici, al fine di esplicitare in questo

ambito le costanti di normalizzazione A e B:
d
− Ld − Ld
0 = A(e Lp − e p ) + p0n (0)e p
d
− Ld
Ma notiamo che e Lp − e p = 2 sinh( Ldp ); quindi:
d
−
−p0n (0)e Lp
A=
2 sinh( Ldp )
Sostituiamo ora in B:
d
−
p0 (0)e Lp d − d
B= p0n (0) + n d
= 2 sinh( )p0n (0) + p0n (0)e Lp =
2 sinh( Lp ) Lp
44
d d
− − Ld
p0 (0)e Lp − p0n (0)e Lp + p0n (0)e p
= n
2 sinh( Ldp )
Quindi,
d
p0n (0)e Lp
B=
2 sinh( Ldp )
Sostituendo A e B nell’equazione di partenza, si ottiene che:
d−x
− d−x

− Ld
−p0n (0)e p
x
e + p0n (0)e
Lp
d
Lp
e
− Lx
p p0n (0) e Lp
−e L
p
sinh( d−x
Lp
)
p0n (x) = = =
2 sinh( Ldp ) 2 sinh( Ldp ) sinh( Ldp )
Siamo dunque arrivati a dire che, dato un semiconduttore il cui lato è

confrontabile con la lunghezza di diffusione, ossia d ∼ Lp , la distribuzione
dell’eccesso di minoritari (nel nostro caso, con un semiconduttore drogato
tipo n, p0n (x),
sinh( d−x
Lp
)
p0n (x) =
sinh( Ldp )
Esiste un caso ancora più estremo: se il lato del semiconduttore è inferiore
alla lunghezza di diffusione, e quindi d Lp , possiamo dire che d x, e
quindi possiamo riutilizzare la precedente espressione, considerandola per
un x tendente a 0. Ciò però significa che siamo in grado di semplificare
notevolmente la nostra espressione, sviluppandola in polinomio di Taylor:
p0n (0) · d−x

Lp
x
p0n (x) ∼ d
= p0n (0) 1 −
Lp
d
Utilizzando gli andamenti degli eccessi di minoritari ora ricavati, sarà
possibile calcolare le correnti facilmente, anche con ipotesi diverse da quella
di lato lungo, sfruttando sempre le stesse conoscenze utilizzate precedente-
mente.
45
Capitolo 3
Giunzione p-n
Siamo riusciti a fornire un modello soddisfacente dell’andamento delle corren-

ti in un semiconduttore drogato, e abbiamo fatto un esempio applicativo di
come calcolarle. Ora vogliamo sfruttare queste conoscenze, in un dispositivo
usato molto comunemente, e alla base dell’elettronica: la giunzione p-n.
Dati due semiconduttori (comunemente noi useremo il silicio), drogati
uno tipo n, ed uno tipo p, essi avranno un diagramma a bande abbastanza
diverso sotto alcuni punti di vista, anche se con le conoscenze finora apprese
siamo in grado di motivarlo senza problemi.
Immaginiamo didatticamente di unire i due semiconduttori; i potenziali
dei due, in principio separati, una volta uniti, avranno lo stesso sistema di
riferimento. Consideriamo come origine dei tempi l’istante in cui si uniscono
i due semiconduttori; in un tempo 0+ , le due barriere di potenziale del vuoto,
le EB , saranno coincidenti. Anche gli altri livelli, quali EC , EV , EFi , saranno
tutti coincidenti, tranne il livello di Fermi reale dei semiconduttori, EF , che
presenterà una discontinuità in prossimità del punto di giunzione. Volessimo
dunque tracciare un diagramma a bande del semiconduttore in un istante
0+ , esso avrebbe l’andamento appena descritto.
Consideriamo, in questo sistema, come origine degli assi, il punto di giun-
zione dei due semiconduttori. Convenzionalmente, si considera a sinistra il
lato p, a destra il lato n. Possiamo dunque dire che, a destra della giunzione,
avremo molti elettroni in banda di conduzione (maggioritari) e poche lacune
in banda di valenza (minoritari), e viceversa a sinistra i portatori maggiorita-
ri saranno le lacune in banda di valenza, ed i minoritari gli elettroni in banda
di conduzione. Di fatto, vi saranno accumuli di carica, che provocheranno
flussi di portatori: dal lato p al lato n di lacune, dal lato n al lato p, di
elettroni (sempre parlando di un istante t = 0+ . Questi flussi di cariche sus-
sisteranno, fino a quando sussisteranno le discontinuità nei livelli energetici,
e nella fatispecie la discontinuità del livello di Fermi. Per un certo transitorio
46
di tempo, dunque, a partire dall’istante 0, si avranno due flussi netti, ossia
due flussi che prevarranno su tutti gli altri:
1. Φx,e− BC n −→ p
2. Φx,e+ BV p −→ n
Vogliamo cercare però di capire come può instaurarsi, a partire da questo

stato transitorio, una condizione di equilibrio. Possiamo dire, partendo dalle
informazioni sui due flussi, che vi siano due canali di scambio di portato-
ri, separati: generazione termica e ricombinazione rispetto a questi scambi
saranno fenomeni molto lenti e poco efficaci, e quindi trascurabili in un pri-
mo tempo. Se per un certo intervallo di tempo si ha uno spostamento di
portatori di carica, capiterà che, venendo a mancare elettroni di banda di
conduzione nel lato n, e lacune in banda di valenza nel lato p, si perderà la
condizione di neutralità locale: in banda di conduzione il semiconduttore p
si sarà spopolato di lacune nelle regioni prossime al contatto con il lato n, e
viceversa il semiconduttore lato n si sarà spopolato di elettroni nelle regioni
prossime al contatto con il lato p.
Gli ioni positivi nel lato n dunque non avranno, in prossimità della giun-
zione, un elettrone in grado di neutralizzarli localmente, e idem gli ioni
negativi nel lato p, non avranno lacune in grado di neutralizzarli localmente.
Per lo studio della giunzione dovremo attenerci ad un modello leggermente
semplificativo: considereremo, come ipotesi, che in prossimità della giunzione
avvenga un completo svuotamento: le zone svuotate per ipotesi non conter-
ranno portatori maggioritari dei rispettivi lati (o comunque una quantità del
47
tutto trascurabile rispetto al numero di ioni). Gli unici elementi di carica
che considereremo in gioco, saranno gli ioni dei livelli energetici introdotti
mediante il drogaggio. Sarà dunque semplice rappresentare la distribuzione
spaziale della carica della giunzione:
Fino ad un certo punto −xp , la distribuzione di ioni che non dispongono

di un maggioritario che lo neutralizza localmente sarà del tutto nulla, per
poi avere un picco nel suddetto punto. La distribuzione di carica, negativa,
resterà costante fino all’origine, dove vi sarà un ulteriore salto: vi sarà una
distribuzione di carica positiva dal punto 0 al punto xn , anch’essa costan-
te. Inoltre, considerando l’ipotesi di completo svuotamento in coincidenza
con l’ipotesi di completa ionizzazione, potremo dire che la densità di carica
coinciderà con la concentrazione di drogante introdotta nel substrato semi-
conduttivo, quindi potremo dire che l’altezza del rettangolo di sinistra sarà
−NA , e l’altezza del rettangolo destro sarà ND .
48
Potremmo ora chiederci alcune domande: ma qual è la posizione del
salto? Coincide veramente con l’origine degli assi, è cioè in prossimità della
giunzione? Dove le distribuzioni di cariche iniziano ad annullarsi? La risposta
è la seguente: dove il livello di Fermi cessa di essere discontinuo.
Vogliamo capire e quantificare l’estensione delle regioni di carica, studiar-
ne la geometria, quantificare i punti −xp ed xn , e soprattutto i loro valori
una volta raggiunto l’equilibrio, −xp0 ed xn0 . Questi valori saranno ottenuti
in seguito ad una crescita temporale dei valori fuori equilibrio −xp ed xn ,
rispetto al loro stato iniziale. Nel punto di equilibrio, i flussi determinati dai
gradienti di concentrazione di carica saranno eguagliati dalla ricombinazione
e da flussi opposti, e quindi saranno nulli.
3.1 Studio qualitativo del diagramma a ban-

de della giunzione p-n
Facendo una prima analisi qualitativa del campo (senza considerare calcoli
analitici di alcun tipo, che verranno ripresi in seguito), possiamo vedere che
poichè a sinistra la carica è negativa, si avrà, integrando, una retta decre-
scente da −xp fino a 0, e crescente da 0 fino a xn . Il campo sarà dunque
un triangolo, interamente negativo, con il vertice posto in 0. Integrando
ulteriormente, si ottiene un insieme di due contributi parabolici, il primo
con concavità verso l’alto, il secondo con concavità verso il basso (poichè si
inverte il segno del campo per l’equazione di Poisson).
Ribaltando il grafico del potenziale rispetto all’asse x, si troverà una fun-

zione monotona decrescente, trattabile come due parabole, la prima fino a
0 con concavità verso il basso, la seconda fino a xn con concavità verso l’al-
to. Questo sarà il grafico dell’energia potenziale valutata in eV, ma sarà
soprattutto utile se pensata come parte di un diagramma a bande: il grafico
dell’energia potenziale, come già accennato, è il diario di bordo dell’elettrone,
ossia è il suo diagramma a bande. Ciò che si trova con questa sorta di dop-
pio andamento parabolico, è semplicemente il raccordo tra i livelli energetici
dei due lati, una volta raggiunto l’equilibrio: infatti all’equilibrio il livello di
Fermi reale del sistema diventa continuo, confrontabile con una retta, men-
tre i vari EB , EC , EV , EFi , raggiungono livelli energetici diversi, ma non
49
presentano discontinuità, bensı̀ un raccordo come quello appena descritto
qualitativamente (e che in seguito verrà calcolato analiticamente). Possiamo
dire che il lato n tenderà a scendere rispetto al lato p, che salirà relativamente
ad n. Lo spostamento di carica, determinante l’equilibrio, ha determinato il
curvarsi dei livelli energetici, nell’intorno della zona della giunzione. Il livello
di Fermi si sarà riallineato, e tutti gli altri curvati con un andamento come
quello appena descritto.
Notiamo che si viene a formare una barriera di potenziale, man mano
che si instaura l’equilibrio: più passa il tempo, più portatori tenderanno a
transire la barriera, e più diventerà difficile raggiungere l’altro lato, poichè
il campo continuerà ad aumentare. Al livello di equilibrio, i flussi sono del
tutto bilanciati: il flusso di elettroni in banda di conduzione dal lato n a
quello p equivale e bilancia quello di elettroni in banda di conduzione dal
lato p al lato n. Stesso discorso per le lacune. Possiamo esprimere con un
formalismo migliore, il fatto che si hanno in totale quattro flussi:
1. Φx,e− BC n −→ p
2. Φx,e− BC p −→ n
3. Φx,e+ BV p −→ n
4. Φx,e+ BV n −→ p
Φx,e− BC n −→ p = Φx,e− BC p −→ n
Φx,e+ BV p −→ n = Φx,e+ BV n −→ p
Quindi, si può dire che:

1=2
3=4
Le barriere di potenziale causate dalla transizione di elettroni, e quindi
dalla non-neutralizzazione degli atomi droganti ionizzati, si modulano fino a
bilanciare questi flussi. Ciò coincide esattamente con il bilanciare il livello di
Fermi. Questo fatto finora espresso facilmente però non è banale, e vediamo
come sia realmente possibile, mediante una semplice dimostrazione:
Dati due materiali, 1 e 2, essi saranno caratterizzati da una propria distri-
buzione degli stati energetici, e da una funzione di occupazione degli stati (in
questo caso poichè si parla sempre di elettroni/lacune e quindi di fermioni,
50
la Fermi-Dirac), caratterizzata proprio dal livello di Fermi del materiale. I
due materiali saran dunque cosı̀ caratterizzati:

g1 (E)
f1 (E; T ) ⇔ EF 1

g2 (E)
f2 (E; T ) ⇔ EF 2
Supponiamo ora che sia già stato raggiunto l’equilibrio termodinamico,
in seguito al contatto. Ciò significa che per ogni generico livello energetico
E, bisogna garantire un egual flusso di portatori, e cioè i flussi di lacune e di
elettroni da un lato ad un altro devono essere tra loro bilanciati. Consideria-
mo anche soltanto gli elettroni: è sufficiente come condizione per la nostra
dimostrazione: la nostra ipotesi dunque sarà:
Φx,e− 1 −→ 2 = Φx,e− 2 −→ 1
Quindi, esplicitando le funzioni caratterizzanti i flussi di portatori:
Φx,e− 1 −→ 2 = [g1 (E · f1 (E; T )] · [g2 (E) · (1 − f2 (E; T ))]
Φx,e− 2 −→ 1 = [g2 (E · f2 (E; T )] · [g1 (E) · (1 − f1 (E; T ))]

Ossia, perchè i flussi di carica siano efficaci, deve essere presente un elet-
trone dal lato 1 in grado di effettuare la transizione, e vi deve essere uno
spazio libero (regolato dal complementare della funzione di occupazione) nel
lato 2; viceversa per il flusso da 2 a 1. Svolgendo i conti, si ottiene che:
g1 f1 g2 − g1 f1 f2 g2 = g2 f2 g1 − g1 f1 f2 g2 =⇒ f1 = f2
Poichè supponiamo di trovarci ad una temperatura di 300 K come nostro
solito, e consideriamo un qualunque livello energetico E, l’unica variabile in
gioco fissate queste rimane il livello di Fermi: infatti, dire che le due funzioni
di occupazione sono uguali, implica dire che:
1 1
E−EF 1 = E−EF 2 =⇒ EF 1 = EF 2
1+e kT 1 + e kT
Questo, fissata una E qualsiasi.
Tentiamo ora di meglio definire ciò che capita, stabilendo alcune osserva-
zioni in grado di guidarci nel rappresentare un diagramma a bande (per ora
qualitativo) di una giunzione p-n. In seguito effettueremo calcoli rigorosi per
51
il calcolo dei campi dovuti agli atomi ionizzati, e per la quantificazione della
barriera di potenziale.
Se tentassimo di costruire il diagramma a bande della giunzione, con le
nostre attuali competenze, dovremmo tener conto di queste osservazioni:
1. In una condizione di equilibrio, EF (x) è una funzione costante, e dunque
EF (x) = EF :
2. Lontano dalla giunzione, i materiali si comportano come se la giunzione
non esistesse, poichè la ricombinazione elimina tutti i portatori iniettati
dall’altra parte. Si ha dunque una neutralità globale, ma anche locale;
3. I livelli energetici sono quantità tutte continue, e non presentano dun-
que salti di alcun tipo;
4. L’affinità elettronica è una caratteristica intrinseca del materiale, non
è modificabile, e quindi si può sempre considerare invariata;
5. Il gap di energia tra livello EC e livello EV è invariante, in una giunzione
p-n.
Proprietà extra, abbastanza scontata, è la seguente: se il semiconduttore
dispone di una carica positiva, il diagramma a banda in quella zona sarà
convesso; se ha carica negativa, sarà concavo.
Mediante queste cinque proprietà, si disporrà di un metodo per disegnare
il diagramma a bande, in modo qualitativo.
Possiamo ora pensare ad un’idea: potremmo applicare sul livello di Fermi
intrinseco, anch’esso variante a causa della giunzione, e quindi funzione della
posizione, EFi (x), e su EF , le equazioni di Shockley; considerando un punto
molto distante dalla giunzione come −∞ nel lato p, e +∞ molto distante nel
lato n; nel lato n, consideriamo dunque gli andamenti dei portatori in punti
distanti:
EF −EF (+∞)
i
nn (+∞) = ni e kT
EF (−∞)−EF
i
Pn (−∞) = ni e kT
Le equazioni di Shockley sono utili in quanto, mediante la loro applica-

zione, si potrebbe cercare immediatamente il numero di elettroni e lacune in
funzione della posizione, in ogni punto della giunzione.
Data ora questa prima impostazione qualitativa dello studio della giun-
zione, vorremmo passare ad un’analisi più quantitativa, e quindi poter deter-
minare un’espressione che ci permetta di calcolare alcuni parametri: −xp0 ,
xn0 , e la barriera di potenziale Φi .
52
3.2 Studio elettrostatico della giunzione p-n
Iniziamo ora uno studio dettagliato e quantitativo della giunzione p-n, in
modo da poter determinare i valori dei parametri mancanti, e poterne quotare
ogni grandezza del diagramma a bande.
Le tre incognite sono le seguenti:
• −xp0 : ampiezza zona di svuotamento del lato p;
• xn0 : ampiezza zona di svuotamento del lato n;
• Φi : potenziale interno tra il lato p ed il lato n
Poichè abbiamo tre incognite, avremo bisogno di tre condizioni al contor-

no, e quindi di tre equazioni tra esse indipendenti, in modo da poter avere un
problema ben posto. Le tre idee che ora affronteremo al fine di poter ultimare
un modello quantitativo elettrostatico della giunzione, sono le seguenti:
1. L’applicazione della neutralità globale della giunzione p-n;
2. L’analisi della barriera come differenza tra i due lavori di estrazione dei
lati;
3. L’analisi formale dell’andamento di campo e potenziale della giunzione

in ogni zona.
3.2.1 Equazione di neutralità globale

In forma generale, l’equazione di neutralità globale ha forma:
Z 0 Z xn
− ρ(x)dx = ρ(x)dx
−xp 0
Nel nostro caso specifico, date le ipotesi di semiconduttore omogeneo, di

completa ionizzazione dei droganti e di completo svuotamento, l’equazione
si ridurrà semplicemente a:
qNA xp0 = qND xn0

Ci mancano ora altre due equazioni. Lavoriamo in tale senso, al fine di
poter completare il sistema.
53
3.2.2 Analisi della barriera di potenziale
Data la barriera di potenziale Φi , possiamo pensarla, come già anticipato,
come differenza dei lavori di estrazione del lato p, e del lato n:
Φi = qΦSp − qΦSn
Questa differenza si può pensare in termini della semplice differenza dei
soli livelli di Fermi intrinseci, in punti distanti dalla giunzione:
Φi = EFi (−∞) − EFi (+∞)

Algebricamente, possiamo aggiungere e togliere lo stesso numero ad un’e-
quazione ed essa rimarrà comunque invariata. Possiamo dunque aggiungere
e sottrarre la quantità EF :
Φi = EFi (−∞) − EF + EF − EFi (+∞)

Ma ora è possibile ricondurre alle equazioni di Shockley queste espressioni:
NA ND
(EFi (−∞) − EF ) + (EF − EFi (+∞)) = kT ln + kT ln =
ni ni
NA ND
= kT ln = qΦi
n2i
La barriera è l’energia positiva cosı̀ definita: qΦi . Si noti che la conven-
zione è particolare: parlando quantitativamente di potenziale, avevamo preso
come riferimento, ossia come massa, il punto −xp0 ; ora, parlando di energia,
consideriamo come punto di riferimento (ossia come una sorta di massa, par-
lando però di energia sarebbe più corretto parlare di una sorta di energia
iniziale) il punto xn0 : per questo, i segni risultano comunque essere positi-
vi, anche se in effetti il potenziale espresso in V è semplicemente l’opposto
dell’energia potenziale espressa in eV. Riassumendo dunque la convenzione:
• qΦi = U (−∞) − U (+∞)
• Φi = Φ(+∞) − Φ(−∞)
Ora, per terminare la formalizzazione, potremmo considerare la defini-

zione corretta di potenziale di contatto della giunzione p-n, non utilizzando
più la convenzione a ±∞, ma utilizzando al posto di −∞ il valore −xp0 , e al
posto di +∞ il valore xn0 :
54
Φi = Φ(xn0 ) − Φ(−xp0 )
Abbiamo cosı̀ trattato anche la seconda condizione del nostro sistema. Ci
manca ancora una condizione, ossia l’applicazione dell’equazione di Poisson.
3.2.3 Analisi formale dell’andamento di campo e po-

tenziale
Partiamo dall’equazione di Poisson, e consideriamo quindi le due equazioni:
Z
ρ(x)
ε(x) = dx
S
Z
Φ(x) = − ε(x)dx
Partendo dalla densità di carica ρ(x) studiamo l’andamento del campo

elettrico. Dobbiamo però definire innanzitutto la funzione di densità di carica
ρ(x) come una funzione a tratti:


 0 −∞ < x < −xp0
−qNA −xp0 < x < 0

ρ(x) =

 +qN D 0 < x < xn0
0 xn0 < x < +∞

Considerando che abbiamo a che fare con una funzione definita a tratti,
possiamo calcolare il campo elettrico integrando ogni singolo intervallo: ba-
sterà sfruttare l’equazione di Poisson ed il teorema fondamentale del calcolo
integrale, nel seguente modo: considerando l’integrazione in un intervallo
[a; x],
Z x
ρ(x)
ε(x) = ε(a) +
a S
Si consideri inoltre che il campo deve ovviamente essere continuo, e che le
espressioni trovate devono essere tutte riferite alla stessa massa. Per questo,
sarà necessario calcolare il valore finale del campo in un intervallo, e porlo
uguale al valore iniziale nell’intervallo successivo. Tenendo conto di queste
cose, studiamo ora ciascuna delle quattro zone:
• Per −∞ < x < −xp0 , ρ(x) = 0, quindi il campo sarà nullo nella regione;
si noti che il valore finale di quest’espressione sarà 0, poichè la funzione
integranda sarà sempre 0, quindi possiamo tranquillamente dire anche
senza calcoli che ε(−xp0 ) = 0.
55
• Per −xp0 < x < 0, abbiamo che ρ(x) = +qND ; applicando l’espressione
prima proposta,
Z x
qNA qNA
ε(x) = ε(−xp0 ) + − dx = − (x + xp0 )
xp0 S S
Questo poichè il valore iniziale ε(−xp0 ) = 0. Calcoliamo il valore finale

di quest’espressione, ossia nel punto x = 0, che diventerà il valore
iniziale della prossima zona:
qNA
ε(0) = − xp0
S
• Per −xp0 < x < 0, ρ = +qND , quindi calcoliamo che:
Z x
qND qNA qND
ε(x) = ε(0) + dx = − xp0 + x
0 S S S
Il valore finale di questo intervallo varrà:
qNA qND
ε(xn0 ) = − xp0 + xn0
S S
• Per xn0 < x < +∞, potremmo riapplicare tutti i ragionamenti ed i
risultati analitici finora ricavati, per poter ricavare il valore del campo
elettrico ε(x) nella regione. In realtà, possiamo ragionare in un modo
molto più qualitativo ma altrettanto efficace: applicando la neutralità,
se il campo elettrico è nullo a sinistra della regione di carica negativa,
se non fosse nullo a destra della regione di carica positiva, l’ipotesi di
neutralità sarebbe impossibile da applicare nella giunzione p-n. Appli-
cando in modo molto leggero l’ipotesi di neutralità, possiamo dunque
dire che
ε(x) = 0
Riassumendo, il valore del campo elettrico ε(x) sarà:
−∞ < x < −xp0


 0
 − qNA (x + x )

−xp0 < x < 0
S p0
ε(x) = qNA qND

 − S xp0 + S x 0 < x < xn0

0 xn0 < x < +∞
56
A questo punto, disponiamo di una funzione a tratti del campo elettrico
ε(x): possiamo ripetere un ragionamento analogo al precedente, utilizzando
la relazione:
Z x
Φ(x) = Φ(a) − ε(x)dx
a
Consideriamo dunque ciascuna delle quattro zone:
• Per −∞ < x < −xp0 , ε(x) = 0, dunque l’integrale varrà 0 in ogni punto
di questo primo intervallo. Anche il valore finale, Φ(−xp0 ) sarà 0.
• Per −xp0 < x < 0, abbiamo che ε(x) = − qN

S
A
(x + xp0 ). Integrando:
Z x
qNA qNA
Φ(x) = Φ(−xp0 ) − − (x + xp0 )dx = (x + xp0 )2
−xp0 S S
Il valore finale di quest’espressione, ossia il potenziale valutato in 0,

sarà:
qNA 2
Φ(0) = x
S p0
• Per 0 < x < xn0 , ε(x) = − qN

S
A
xp0 + qND
S
x. Integrando la precedente
espressione:
Z x
qNA qND qNA 2 qNA qND 2
Φ(x) = Φ(0)− − xp0 + x dx = xp0 + xp0 x− x
0 S S 2S S 2S
Il valore finale di questa espressione, ossia il potenziale valutato in xn0 ,

sarà:
qNA 2 qNA qND 2

Φ(xn0 ) = xp0 + xp0 xn0 − x = Φi
2S S 2S n0
• Per xn0 < x < +∞, applicando la neutralità come nel caso del campo
elettrico, vediamo che nulla può modificare l’andamento del potenziale,
che rimane dunque costante, e dunque pari al valore del potenziale di
barriera Φi .
57
Avremo un’espressione a tratti del potenziale:


 0 −∞ < x < −xp0
qNA
(x + xp0 )2 −xp0 < x < 0


S
Φ(x) = qNA 2

 x + qN
2S p0 S
A
xp0 x − qN D 2
2S
x 0 < x < xn0
qNA 2 qNA qND 2
x + S xp0 xn0 − 2S xn0


2S p0
xn0 < x < +∞
3.2.4 Risoluzione del sistema

Abbiamo già applicato nel nostro sistema una prima volta l’equazione di
neutralità, per semplificare alcuni conti; l’applicazione introdotta è stata
tuttavia molto leggera; per poter risolvere il sistema, sarà necessario fare di
più, mettendo a sistema tra loro tutte le tre condizioni, ottenendo risultati
precisi. Dallo studio del potenziale con l’equazione di Poisson, possiamo dire
che:
qNA 2 qND 2
Φi = xp0 + x = Φp + Φn
2S 2S n0
Ossia si può distinguere la barriera come somma di due contributi, dovuti
uno al lato p, ed uno al lato n. Le tre equazioni che abbiamo ricavato dalle
nostre congetture sono le seguenti:
1.
qNA xp0 = qND xn0
2.
kT NA ND
Φi = ln
q n2i
3.
qNA 2 qND 2
Φi = xp0 + x
2S 2S n0
Mettendo a sistema la prima e la terza equazione, possiamo ricavare xn0

o xp0 :
qNA 2 ND2

ND qND 2 qND NA + ND
xp0 = xn0 =⇒ Φi = xn0 2 + xn0 = x2n0
NA 2S NA 2S 2S NA
Poichè la seconda equazione ci fornisce un’espressione operativa della

barriera di potenziale Φi , possiamo facilmente ricavare che:
58
s
2S NA
xn0 = Φi
qND NA + ND
Possiamo ora dire di aver trovato ogni dato necessario per quotare il
diagramma a bande della giunzione p-n: ci imponiamo solo di mettere un
poco ordine nelle espressioni, esprimendo l’ultimo risultato trovato in modo
più saggio: anzichè considerare una singola ampiezza, consideriamo la totale
ampiezza (come somma delle due ampiezze) delle regioni di svuotamento,
xd0 :
xd0 = xn0 + xp0

Partendo da qua, scriviamo un’espressione di xd0 :
s 2
ND NA + ND NA + ND NA 2S
xd0 = xn0 + xn0 = xn0 = Φi ;
NA NA NA ND + NA qND
s
NA + ND 2S
xd0 = Φi
NA qND
Esprimendo ora la funzione con il concetto di drogaggio equivalente Neq ,
definito come somma armonica dei due drogaggi:
1 NA ND
Neq = 1 1 =
NA
+ ND
NA + ND
Si ottiene che:
s
2S
xd0 = Φi
qNeq
3.3 Applicazione di una tensione esterna alla

giunzione
Abbiamo finora studiato la giunzione p-n in un caso di equilibrio. Potremmo
ora pensare a casi in cui non vi è equilibrio, poichè esso viene perturba-
to dall’esterno, mediante l’applicazione di una batteria di tensione Va alla
giunzione.
Consideriamo la seguente convenzione: il + della batteria va collegato
al lato p, il - della batteria al lato n. I contatti di accesso alla giunzione
59
saranno metallici (supponiamo ad esempio di oro Au): un accesso ad un
semiconduttore (e quindi ad una giunzione) deve essere mediato da un con-
tatto ohmico, al fine di poter eliminare resistenze parassite. Avremo a che
fare quindi sostanzialmente con tre interfacce, e tre potenziali di contatto.
Potremmo dunque ridisegnare il diagramma a bande del nostro sistema Au-
Si-Au: supponendo di trovarci in uno stato di equilibrio, il livello di Fermi
sarà ovunque costante. Il metallo non potrà, a causa della natura fluida
del suo mare di elettroni, presentare concavità in prossimità dei contatti, e
quindi solo il diagramma a bande dei semiconduttori potrà subire curvature.
Lontano dalle interfacce, i materiali si comporteranno come isolati.
Cosa possiamo osservare: il metallo Au ha un livello di estrazione supe-
riore a quello del silicio; come già detto, il raccordo sarà solo da parte dei
semiconduttori poichè la natura fluida del mare di elettroni non permette
modifiche al materiale. Oltre alla barriera Φi , avremo altre due barriere di
potenziale, causate dalla differenza tra i lavori di estrazione. Ogni tensione di
contatto si può circuitalmente rappresentare mediante una batteria: il con-
tatto Au-Sip sarà una tensione positiva rispetto a p su n, poichè è dall’alto
verso il basso. Il contatto Sin -Au sarà una tensione dal basso verso l’alto ri-
spetto a p, e quindi sarà negativa. Circuitalmente, si può pensare al sistema
come una maglia di batterie.
L’equazione di questa maglia sarà la seguente:
ΦAu,p − Φi + Φn,Au = 0
Da ciò è facilmente ricavabile la tensione Φi :
Φi = Φn,Au − ΦAu,p
60
Supponiamo di poter avere un voltmetro ideale: esso non potrebe misu-
rare niente, poichè i potenziali di contatto bilanciano la tensione interna, che
quindi sarà nulla.
Collegando finalmente la tensione esterna Va , supponendo che i contatti
metallici siano dei buoni contatti, ossia a bassissima resistenza, e che quindi
provocano una bassa caduta di tensione per le correnti che vi entrano, pos-
siamo pensare che le due resistenze serie dei contatti ohmici siano nulle, e
che quindi la tensione alla giunzione subirà una variazione, raggiungendo un
valore Vj , a noi incognito. La maglia di batterie sarà modificata, ed avrà
un’equazione associata di questo tipo:
−Va − ΦAu,p − Vj + Φn,Au = 0
Vj = Φn,Au − ΦAu,p − Va
Ma noi abbiamo prima detto che Φi = Φn,Au − ΦAu,p ; dunque:
Vj = Φi − Va
Quando applico una tensione positiva sul lato p, si abbassa la tensio-
ne sulla giunzione. A questo punto, in seguito a questa notevole scoperta,
introduciamo due definizioni:
• Una giunzione polarizzata con una tensione esterna Va > 0 è detta

polarizzata direttamente;
• Una giunzione polarizzata con una tensione esterna Va < 0 è detta

polarizzata inversamente.
La tensione provoca alcune interessanti conseguenze: disegnamo, in un

grafico, la distribuzione della tensione all’equilibrio, con una polarizzazione
diretta, e con una polarizzazione inversa: la concavità della funzione rimarrà
61
sempre costante, ma quella che varierà sarà l’ampiezza delle regioni di svuo-
tamento, e quindi volendo dire in modo poco elegante, il punto di inizio ed
il punto di fine della funzione del potenziale (nonchè ovviamente l’altezza
della barriera, come già dimostrato mediante il calcolo delle equazioni delle
maglie): se si polarizza direttamente la giunzione, l’ampiezza della zona di
svuotamento xd diminuisce rispetto all’ampiezza di equilibrio xd0 , e la bar-
riera di potenziale, a queste condizioni, diminuisce; al contrario, con una
polarizzazione inversa, l’ampiezza xd aumenta rispetto a quella di equilibrio,
e la barriera di potenziale aumenta. Trascurando come da ipotesi cadute re-
sistive sulle interfacce metalliche, capita ciò: supponendo che le distribuzioni
di carica siano: −qNA xp (negative), e +qND xn (positive); le tensioni, data
l’ipotesi di buoni contatti, dipendono esclusivamente dagli ioni, ricavando a
partire dalla loro funzione di densità l’espressione operativa del campo e del
potenziale. Se la tensione esterna modula la barriera, allora essa modula po-
tenziale (tensione), campo e carica. Con una Va positiva ridurremo la regione
di svuotamento: l’applicazione di una tensione esterna però non è in grado di
modificare il drogaggio del semiconduttore, nella fatispecie le concentrazioni
NA ed ND , e tantomeno il valore della carica fondamentale q (quantizzata
come la carica di un protone o di un elettrone); Va quindi potrà solo varia-
re l’ampiezza della regione di svuotamento xd , ma i parametri delle curve,
ossia la pendenza delle rette che formano il triangolo (nel campo elettrico),
o la concavità del doppio andamento parabolico (nel potenziale), resteranno
sempre costanti, e in questo senso avremo sempre le stesse funzioni, con però
un’ampiezza di zona di svuotamento diversa.
Potremmo ora chiederci come calcolare, a partire dalla variazione di Φi
con l’applicazione della tensione esterna Va , la variazione della zona d’ampiez-
za xd . L’idea è semplicemente sostituire al posto della barriera di potenziale
Φi nell’espressione di xd la tensione finale sulla giunzione Vj :
s
2S
xd (Va ) = (Φi − Va )
qNeq
In realtà, l’effetto della tensione può essere molto più interessante di una
semplice variazione di xd : la tensione Va > 0 riduce la barriera di potenziale,
e cosı̀ il flusso dei portatori verrà modificato, e nello specifico verranno variate
le concentrazioni di portatori che attraverseranno la barriera, quindi generate
correnti. Dal punto di vista elettrostatico una tensione esterna fa variare le
regioni di svuotamento, e quindi la carica positiva Q+ e quella negativa Q− .
62
3.3.1 Capacità di svuotamento
Un effetto molto interessante della tensione è quello di rendere visibile una
sorta di capacità del semiconduttore: dato che Va modifica qND xn (Va ) e
−qNA xp (Va ), la situazione potrebbe ricordare quello che in elettrostatica si
studia come modello di un condensatore: rivediamolo.
Data una carica Q, si può definire una capacità C come:

dQ
C =
dV
Consideriamo come tensione la nostra Va , e come carica ad esempio quella
positiva, Q+ . Ci servirà una Q+ funzione di Va , al fine di poterne calcolare
la derivata in Va . Ma noi abbiamo già visto che:
Q+ = qND xn (Va )
s
2S NA
xn (Va ) = (Φi − Va )
qND (NA + ND )
s
2S NA q 2 ND2
q
Q+ (Va ) = (Φi − Va ) = 2qS Neq (Φi − Va )
qND (NA + ND )
Calcolando il modulo della derivata rispetto a Va , si trova che:

s
q 2 2S Neq
2
+
dQ (Va ) 2qS Neq
C= = p = =
dVa 2 2S qNeq 2S qNeq (Φi − Va )
s
qS Neq
= = C(Va )
2(Φi − Va )
Si noti che la capacità è una funzione della tensione Va : il condensatore
con il quale stiamo modellando la regione di svuotamento è dunque coman-
dabile in tensione, ossia la sua capacità varia con il variare della tensione che
gli viene applicata.
Cerchiamo ora però di ragionare in un modo diverso, al fine di ottenere
un risultato più semplice; abbiamo detto che:
s
2S S
xd (Va ) = (Φi − Va ) =⇒ C(Va ) =
qNeq xd (Va )
63
Abbiamo scoperto una cosa molto interessante: un semiconduttore si
può comportare come un condensatore a facce piane parallele, di costante
dielettrica S , e distanza xd tra le armature. Un semiconduttore svuotato
dunque è equivalente ad un materiale dielettrico.
3.4 Esercizio pratico

Data una giunzione p-n in silicio con i seguenti drogaggi: NA = 1016 ; ND =
5 · 1016 :
1. Disegnare il diagramma a bande dettagliato all’equilibrio.
2. Calcolare il campo elettrico massimo all’equilibrio.
3. Calcolare il valore della tensione esterna Va tale per cui il campo mas-
simo raddopi.
4. Calcolare il valore di capacità allo stato della giunzione nel punto

precedente.
5. Si metta a punto un metodo di misura sperimentale che tramite misura

di capacità permetta una valutazione del potenziale di contatto Φi
3.4.1 Risoluzione
Disegnare il diagramma a bande dettagliato all’equilibrio
Il primo punto è già stato risolto una volta, tuttavia lo discutiamo brevemen-
te: ricordando le proprietà dei semiconduttori e dei metalli, e il fatto che il
livello di Fermi deve essere sempre costante nel semiconduttore, una raffigu-
razione qualitativa è immediata. Per però poter quotare ogni singolo punto,
mancano alcuni dati: le posizioni delle regioni di svuotamento, l’ampiezza
della barriera, e i contributi di ogni lato alla barriera.
Si ricava immediatamente che:
kT NA ND
Φi = ln
q n2i
L’ampiezza della banda di svuotamento sarà:
s
2S
xd0 = xn0 + xp0 = Φi
Neq
Sappiamo che S = 0 rS = 11, 7 · 8, 854 · 10−14 . Neq = 8, 33 · 1015 .
64
Svolgendo i conti,
xd0 = 3, 4 · 10−7
Potremmo ora ragionare in due modi diversi: uno è quello di considerare
le espressioni operative per il calcolo delle singole ampiezze xp0 e xn0 . Un
altro modo, più intelligente, è quello di considerare il fatto che le distribuzioni
di carica sono rettangolari, e quindi che:
NA xn0
=
ND xp0
Si può ricavare dunque che:
xn0 = 58nm; xp0 = 292nm

Dunque, i valori dei contributi della barriera saranno:
qND 2
Φn = x = 0, 12V
2S n0
qNA 2
Φp = x = 0, 65V
2S p0
Abbiamo quotato tutte le grandezze utili al diagramma a bande.
Calcolare il campo elettrico massimo all’equilibrio

Passiamo al punto successivo: il calcolo del campo elettrico massimo nella
giunzione. Anche qua ci vengono aperte notevoli strade, ma la teoria ci
insegna che il massimo del campo è in prossimità dell’origine degli assi, ergo
del punto di giunzione, e che equivale all’area del triangolo. Possiamo dunque
calcolarlo cosı̀:
qNA −qND
ε(0) = − xp0 = = 44kV /cm
S S
Calcolare il valore della tensione esterna Va tale per cui il campo

massimo raddopi
Risolto il punto 2, tentiamo di risolvere in modo altrettanto rapido il punto 3:
anche qua la teoria potrebbe spingerci a conti molto elaborati, ma in realtà
si tratta esclusivamente di risolvere un problema in cui abbiamo un triangolo
la cui area raddoppia, al raddoppiare della base. Quindi:
65
2xd ε(0) · 2
(Φi − Va ) = =⇒ Va = 2, 2eV
2
Calcolare il valore di capacità allo stato della giunzione nel punto

precedente
Il quarto punto potrebbe nuovamente trarci in inganno, ma anch’esso è de-
cisamente semplice: esiste un sistema banalissimo di calcolare la capacità
di svuotamento del semiconduttore, considerandolo (come la teoria ci può
suggerire) come un condensatore a facce piane parallele. Quindi:
S
CDEP = = 15nF/cm2
xd
Si metta a punto un metodo di misura sperimentale che trami-

te misura di capacità permetta una valutazione del potenziale di
contatto P hii
Il quinto punto è molto più interessante di quelli passati finora. Si noti come,
sfruttando le relazioni giuste e con qualche osservazione intelligente, i proble-
mi diventino molto più semplici. Questo punto però effettivamente richiede
osservazioni più importanti: vogliamo trovare un metodo per misurare, in
buona approssimazione, la tensione di contatto Φi . Dalla teoria, sappiamo
che è impossibile realizzare un voltmetro capace di ciò, quindi dovremmo affi-
darci a misure di tipo indiretto. La traccia dell’esercizio suggeriva di sfruttare
effetti capacitivi al fine di realizzare questo metodo. Dalla teoria sappiamo
che:
s
qS Neq
CDEP =
2(Φi − Va )
Vorremmo ora una funzione facile da studiare, a partire da questa, e che
non presenti il seguente problema: un’idea è prendere l’espressione di CDEP ,
−2
e considerare CDEP :
1 2(Φ − Va )
2
=
CDEP qS Neq
Quest’espressione è molto interessante da studiare in quanto di fatto non
è altri che una retta: la proprietà interessante è che l’intersezione con l’asse
delle ascisse di questa retta non è altri che Φi , e quindi questo metodo di
misura ci fornisce implicitamente due misure: Φi , ma anche Neq , poichè
la pendenza della retta f (Va ), e quindi è possibile calcolare con un’ottima
66
precisione entrambe le grandezze. Possiamo dunque considerare terminato
questo esercizio, e tornare a studiare gli effetti pratici dell’applicazione di
una tensione esterna, su di una giunzione p-n.
3.5 Effetti di una tensione su di una giunzio-

ne p-n
Vorremmo ora comprendere, aldilà degli effetti puramente elettrostatici, le
conseguenze dell’applicazione di una tensione esterna Va ad una giunzione.
Soprattutto, vorremmo studiare cosa capita ai flussi di portatori, in seguito
alla modulazione della barriera provocata dalla tensione. Introduciamo una
notazione che ci permetta di identificare univocamente i quattro flussi che
entrano in gioco nella giunzione p-n:
1. Elettroni da lato n a lato p;
2. Elettroni da lato p a lato n;
3. Lacune da lato p a lato n;
4. Lacune da lato n a lato p.
Se applichiamo alla giunzione una tensione Va > 0, e quindi siamo in un

caso di polarizzazione diretta, il lato p scenderà e quello n salirà, in modo che
la barriera sarà ridotta, il flusso 1 e il flusso 3 cresceranno, mentre gli altri
rimarranno inalterati. Il nostro obiettivo è ora quello di quantificare la tran-
sizione dei portatori, ponendoci alcune domande specifiche: vorremmo poter
quantificare la concentrazione dei portatori minoritari iniettati, e calcolare il
livello di iniezione; Va infatti determina l’iniezione di elettroni nel lato p, e
di lacune nel lato n, dunque un’iniezione elettrica. Studiando le concentra-
zioni dei minoritari, pariamo da una condizione di equilibrio: possiamo dire,
mediante le leggi dell’azione di massa (o mediante le equazioni di Shockley)
che:
n2i n2
np (−xp )|EQ = = i = np0
pp (−xp ) NA
n2i n2
pn (xn )|EQ = = i = pn0
nn (xn ) ND
Possiamo intuire che, polarizzando la giunzione, np (−xp ) e pn (−xn ) cre-
scono notevolmente. Siamo dunque in grado di studiare l’equilibrio, ma non
67
una condizione fuori equilibrio. Possiamo qualitativamente dire, come aveva-
mo già affermato prima, che per una polarizzazione diretta l’ampiezza della
regione di svuotamento si riduce, e che Vj < Φi . Lontano dalla giunzione sap-
piamo che non abbiamo effetto della barriera, e che quindi molto a sinistra
della giunzione il semiconduttore sarà tipo p neutro, molto a destra sarà tipo
n neutro. Lontano dalla giunzione, di fatto, vi saranno le stesse condizioni
che si trovano in una condizione di equilibrio. Volendo dunque calcolare le
concentrazioni lontano dalla barriera, possiamo usare come al solito, le equa-
zioni di Shockley. Dalle parti della barriera, in un suo intorno, nascono i
nostri problemi: il livello di Fermi presenta una discontinuità, come abbia-
mo visto nel precedente grafico qualitativo. La discontinuità sarà esprimibile
come un salto di ampiezza qVa tra i due livelli EF . In regioni neutre dunque
sappiamo esattamente come comportarci, ma in prossimità della giunzione,
e quindi in una zona fuori equilibrio, non sappiamo come procedere.
3.5.1 Quasi-Livelli di Fermi

L’idea vincente è la seguente: il livello di Fermi, quando si studiano problemi
di equilibrio, è sempre la base da cui partire per determinare le soluzioni: con
le equazioni di Shockley si possono infatti studiare, in funzione del livello di
Fermi EF , le concentrazioni di portatori. Come possiamo però descrivere un
semiconduttore in funzione del livello di Fermi, fuori equilibrio? Consideria-
mo un caso di basso livello di iniezione: in un semiconduttore drogato tipo
n, con ND , ed un’iniezione di portatori, capita che i maggioritari restano di
fatto inalterati, e che i minoritari subiscono una variazione sensibile. Ma
cosa capita al livello di Fermi? Poichè aumentano i minoritari, esso subirà
una variazione, poichè si ha una variazione dell’equilibrio finale, causata dal-
l’iniezione. L’idea che permette di studiare casi fuori equilibrio mediante il
livello di Fermi, è l’introduzione del concetto di quasi-livello di Fermi: in
prossimità di una zona di non equilibrio, sdoppiamo il livello di Fermi in due
livelli distinti: quello riferito ai maggioritari, nel nostro caso EFn = EF , coin-
ciderà con il livello all’equilibrio, poichè siamo in un regime di basso livello
di iniezione, e l’equilibrio dei maggioritari non viene alterato dall’iniezione.
Nei minoritari, si considererà un quasi livello di Fermi EFp , diverso da EF ,
che considera il fatto che l’iniezione ha notevolmente alterato l’equilibrio dei
minoritari, e quindi il loro livello di Fermi di riferimento.
Nello sdoppiamento dei livelli energetici consideriamo ad esempio per i
maggioritari il quasi-livello di Fermi EFn = EF e quindi una condizione coin-
cidente con l’equilibrio, mentre per i minoritari il quasi-livello di Fermi sarà
EFp . Distinguendo questi due quasi-livelli di Fermi (quello dei minoritari si
distingue sempre in quanto, nel diagramma a bande, è più spostato verso il
68
livello di Fermi intrinseco, EFi ), possiamo calcolare sia nn che pn , median-
te una banale applicazione delle equazioni di Shockley. Facendo le stesse
osservazioni per un semiconduttore drogato p con drogaggio NA , possiamo
dunque introdurre le equazioni di Shockley:
( EF −EF
i
nn0 = ni e kT
ND0 : EF −EF
i
pn0 = ni e− kT
( EF −EF
i
pp0 = ni e kT
NA0 : EF −EF
i
np0 = ni e− kT
In questi casi in equilibrio, la legge dell’azione di massa vale:

ND0 = nn0 pn0 = n2i
NA0 = np0 pp0 = n2i
Nei casi fuori equilibrio, le equazioni di Shockley saranno:
( EF −EF
n i
nn = ni e kT
ND : EF −EF
p i
pn = ni e− kT
( EF −EF
i p
pp = ni e kT
NA : EF −EF
i n
np = ni e− kT
69
In questi casi fuori equilibrio, vediamo che le leggi dell’azione di massa
subiranno una correzione (esponenziale) rispetto a quelle classiche in casi di
equilibrio:
( EF −EF
n p
ND : nn pn = n2i e kT
EF −EF
n p
NA : np pp = n2i e kT
Mediante questi strumenti teorici, ossia i quasi-livelli di Fermi, è possibile

studiare un semiconduttore con le equazioni di Shockley anche in condizioni
fuori equilibrio.
3.6 Leggi della Giunzione

Tornando allo studio della giunzione, cerchiamo di applicare quanto appena
introdotto, e di utilizzare dunque sulle regioni di svuotamento le equazioni di
Shockley. Ipotizziamo che lo svuotamento di queste induca un basso livello
di iniezione, e quindi che il vecchio livello di Fermi descriva senza problemi
la concentrazione dei maggioritari. Usando le equazioni di Shockley si vede
che la distanza EFn − EFi al variare di x, nel lato n, è costante fino a x = xn :
a partire dal punto xn , ossia a partire da quando si entra nella zona di
svuotamento, la differenza dei due livelli energetici crolla bruscamente, al
variare di x, man mano che ci si avvicina alla giunzione, per essere precisi
con un andamento esponenziale (come suggeriscono le equazioni di Shockley):
EF −EF (x)
i
nn (x) = ni e kT
Quando x = xn , nn (x) = nn0 ; per x < xn , vi è una diminuzione espo-

nenziale degli elettroni: questo perchè prima della zona di svuotamento la
neutralità è garantita dagli elettroni derivanti dagli ioni positivi (iniettati
come droganti). Per x > xn infatti, pn ' 0, e quindi ND+ − nn ' 0 (grazie
all’ipotesi di completa ionizzazione che si può applicare sempre).
Via via che ci si inoltra nella zona di svuotamento, nn (x) diminuisce
velocemente, poichè abbiamo la dipendenza dall’esponenziale della differenza
EF − EFi (x), quindi, dalla condizione di neutralità in cui nn0 ' ND , e ρ = 0,
si arriva a:
nn nn0 ; nn ND ; ρ ' ND
Questa è una verifica a posteriori della validità dell’ipotesi di completo
svuotamento. Si noti che nella regione di svuotamento esistono moltissimi
portatori, ma che sono in numero estremamente trascurabile rispetto a ND .
70
Stesso ragionamento, duale, per il lato p. Dire che non vi sono minoritari è un
errore gravissimo: dire che però l’ipotesi di completo svuotamento è attuabile,
può nascondere il fatto che i minoritari esistano, ma con una concentrazione
inferiore di diversi ordini di grandezza rispetto a quella dei maggioritari.
La transizione delle concentrazioni avverrà con una certa gradualità; par-
tendo dall’ipotesi di basso livello di iniezione, e dal fatto che i maggioritari
nel lato n sono descritti da EFn = EF , mentre nel lato p da EFp = EF ,
possiamo architettare le nostre congetture:
1. In equilibrio:
EF (−xp )−EF
i
np0 (−xp ) = ni e− kT
2. Fuori equilibrio:
EF (−xp )−EF
i n
np (−xp ) = ni e− kT
Ma, nel lato p all’equilibrio, EF = EFp , poichè trattiamo i maggioritari

e il basso livello di iniezione. Ricaviamo dunque dalla prima espressione ni ,
tenendo conto di quest’osservazione:
EF (−xp )−EF EF (−xp )−EF
i i
np0 = ni e− kT =⇒ ni = np0 e kT
Sostituendo nella seconda espressione, si ottiene che:

EF (−xp )−EF EF (−xp )−EF EF −EF
i n i p n
np (−xp ) = np0 e− kT e kT = np0 e− kT
Dualmente, nel lato n, considerando il punto di inizio della regione di

svuotamento x = xn , mediante gli stessi passaggi, si ricava che:
EF −EF
n p
pn (xn ) = pn0 e kT
Ma possiamo osservare che

EFn − EFp Va
=
kT VT
Abbiamo cosı̀ dimostrato in modo formale, a partire dai quasi-livelli di
Fermi, due equazioni fondamentali per lo studio della giunzione p-n:
Va n2i VVa
np (−xp ) = np0 e VT = e T
NA
71
Va n2i VVa
pn (xn ) = pn0 e VT = e T
ND
Cerchiamo di comprendere l’importanza ed il significato di queste due
equazioni cosı̀ fondamentali: l’esigenza iniziale era quella di capire quale
concentrazione di carica si originasse, ossia quanti elettroni andassero dal
lato n verso il lato p, e quante lacune dal lato p verso il lato n, in seguito
ad una modulazione della barriera, in prossimità delle zone di svuotamento,
ossia per x = xn e x = −xp . Siamo arrivati a capire, mediante la formulazione
delle leggi della giunzione, che la popolazione si sposta esponenzialmente con
la barriera, ossia man mano che ci si addentra nelle regioni di svuotamento,
si vede che si ha uno svuotamento con un andamento esponenziale. Al fine
di arrivare alle leggi della giunzione, abbiamo introdotto i quasi-livelli di
Fermi: possiamo immaginare che questi, all’aumentare della distanza dalla
giunzione, tendano asintoticamente ad unirsi, fino a coincidere nel livello di
Fermi all’equilibrio EF .
La legge della giunzione infesterà con gli andamenti esponenziali qua-
si tutte le equazioni di funzionamento dei dispositivi elettronici. Ciò deriva
dall’applicazione delle equazioni di Shockley (necessarie, quindi altre applica-
zioni non cambierebbero comunque questo tipo di andamento), che a loro vol-
ta derivano dalla prima approssimazione fatta, partendo dalla distribuzione
di Fermi-Dirac, a quella di Boltzmann.
3.7 Caratteristica statica della giunzione p-n

Vogliamo ora studiare, nell’ambito della giunzione p-n, l’espressione della
corrente I in funzione della tensione di polarizzazione Va : I(Va ). Cerchiamo,
a questo scopo, di riformulare tutte le nozioni finora apprese, applicando le
leggi della giunzione. All’equilibrio, i minoritari saranno:
n2i
np0 =
NA
n2i
pn0 =
ND
Polarizzando direttamente la giunzione, a sinistra del punto −xp ed a de-
stra del punto xn , le concentrazioni dei minoritari saranno costanti; in questi
punti però il valore della concentrazione di portatori minoritari aumenterà
esponenzialmente con la tensione, poichè vi è un abbassamento delle barriere
di potenziale; i minoritari sul lato p (nel punto −xp ) e sul lato n (in xn )
saranno rispettivamente:
72
Va
np (−xp ) = np0 e VT
Va
pn (xn ) = pn0 e VT
Cosa succede in parole povere: mediante l’applicazione della tensione,
vengono iniettati elettricamente portatori minoritari nel lato: dal lato n gli
elettroni (che in n sono maggioritari) vengono iniettati nel lato p (dove diven-
tano minoritari), e viceversa da p ad n le lacune da maggioritarie divengono
minoritarie. Studiamo dunque, lato per lato, l’iniezione di portatori, par-
tendo dallo studio delle funzioni pn (x) ed np (x), in posizioni generiche. Per
studiare le lacune iniettate dal lato p al lato n, dovremo studiare l’andamento
dell’eccesso di lacune nel lato n al variare della posizione x, ossia la differenza
tra le lacune presenti all’equilibrio e quelle iniettate dal lato p a quello n:
Va
Va
p0n (x) = pn (xn ) − pn0 = pn0 e VT − pn0 = pn0 e VT − 1
Avevamo accennato a p0n studiando la generazione ottica in un esempio

pratico precedentemente analizzato: anche in questo caso avviene un feno-
meno di iniezione, ma con cause e modalità differenti. Cerchiamo di meglio
definire la funzione p0n (x), sfruttando il modello matematico del semicondut-
tore: partendo dall’equazione di continuità, e dal modello di ricombinazione
diretta:
1 ∂Jp pn − pn0
0=− −
q ∂x τp
Consideriamo valida l’ipotesi di quasi neutralità del semiconduttore: ε '
0. La corrente di drift sarà dunque circa uguale a 0, ed avremo una corrente
puramente diffusiva. Quindi:
∂pn
Jp = Jdif f = −q Dp
∂x
Sostituendo nell’equazione di continuità, si ottiene, considerando l’eccesso
p0n = pn − pn0 :
∂ 2 p0n p0n
0 = Dp −
∂x2 τp
p
Considerando l’espressione della lunghezza di diffusione Lp = Dp τp , la
forma della soluzione dell’equazione differenziale sarà:
x
− Lx
73
Il semiconduttore si può considerare nell’ipotesi di lato lungo: la lunghez-
za del lato n rispetto alla lunghezza di diffusione Lp è molto elevata. Possia-
mo dunque confondere la lunghezza del lato Wn con +∞, e poter studiare le
solite condizioni al contorno:
p0n (Wn ) = 0 =⇒ A = 0
xn xn
−L
p0n (xn ) = Be p =⇒ B = p0n (xn )e Lp
Sostituendo nell’equazione i coefficienti A e B, si ottiene:
xn
− Lx − x−x n
p0n (x) = p0n (xn )e Lp e p = p0n (xn )e L p
Quindi p0n (x) dipende esclusivamente da un fenomeno di diffusione, su-

bisce un fenomeno di ricombinazione, e dopo poche lunghezze di diffusione
si potrà considerare nulla. Ciò avvalora a posteriori le nostre congetture
sul quasi-livello di Fermi: esso ci ha permesso di calcolare la concentrazione
delle lacune sul lato n; poichè l’esponenziale ha l’esponente normalizzato di
Lp , dopo che l’esponente sarà multiplo di Lp , il decadimento esponenziale di
portatori minoritari al variare della posizione dovuto alla ricombinazione an-
nullerà o quasi la presenza dei suddetti minoritari. Per questo il quasi-livello
di Fermi coinciderà con il livello di Fermi, poichè le lacune saranno tutte
ricombinate, come ci suggerisce l’espressione appena trovata. Considerando
il fatto che, come prima abbiam visto, abbiamo un’espressione dei minoritari
nel punto xn :
Va
p0n (xn ) = pn0 e VT − 1
Sostituendo nella nostra espressione ottenuta dal modello matematico
avremo che:
Va x−xn
0 −
pn (x) = pn0 e − 1 e Lp
VT
Sul lato p, si può dimostrare con gli stessi passaggi che capita qualcosa
di completamente duale:
1 ∂Jn n0p
0= −
q ∂x τn
∂np
Jn = Jdif f = qDn
∂x
1 ∂ 2 n0p n0p
=⇒ −
q ∂x2 τn
74
√
Data Ln = Dn τ n :
x x
n0p (x) = Ae Ln + Be− Ln
Questa volta ci interesserà confondere con −∞ la lunghezza del lato −Wp :
ad annullarsi sarà questa volta però il termine B, nella prima condizione al
contorno, poichè sostituendo nell’esponenziale x → −∞, il termine di A
tenderà a 0 da solo, mentre quello di B no.
n0p (Wp ) = 0 =⇒ B = 0
xp xp
n0p (−xp ) = Ae− Ln =⇒ A = n0p (−xp )e Ln
Sostituiamo nella soluzione il coefficiente A e ricaviamo, dualmente a
prima:
Va x+xp
n0p (x) = np0 e VT − 1 e Ln
Avendo svolto i passaggi più rapidamente poichè esattamente duali a
prima.
Riassumiamo ora ciò che abbiamo ricavato da questo studio dell’andamen-
to dei portatori mediante il fenomeno di diffusione in seguito all’iniezione:
• Lato p: i portatori saranno gli elettroni iniettati dal lato n, e dunque i

relativi valori deriveranno solo dalla diffusione di questi:
x+xp
n0p (x) = n0p (−xp )e Ln
Va
n0p (−xp ) = np0 e VT − 1
∂n0p qDn 0 x+xp

Jn = Jn,dif f (x) = −qDn = np (−xp )e Ln
∂x Ln
• Lato n: i portatori saranno le lacune iniettate dal lato p, e dunque i
relativi valori deriveranno solo dalla diffusione di queste:
− x−x n
p0n (x) = p0n (xn )e L p
Va
p0n (xn ) = pn0 e VT − 1
75
∂p0n qDp 0 − x−xn
Jp = Jp,dif f (x) = qDp = pn (xn )e Lp
∂x Lp
Le correnti avranno un andamento come quello appena descritto.
3.8 Studio delle correnti nella giunzione p-n

Riformuliamo ora meglio l’andamento delle correnti; possiamo infatti scri-
verle, nel seguente modo:
qDp pn0 VVa x−xn
−
Jp,dif f (x) = e − 1 e Lp
T
Lp
qDn np0 VVa x+xp
Jn,dif f (x) = e T − 1 e Ln
Ln
Abbiamo informazioni su di un intorno della giunzione; non sappiamo
però niente sulle correnti lontane da essa. Il fatto che vi sia una variazione di
corrente in prossimità della giunzione, garantisce il fatto che la corrente deve
essere globale, in tutto il semiconduttore, poichè altrimenti vi dovrebbero
essere infiniti accumuli di carica che permettono il mantenersi della corrente
solo localmente, e ciò va contro le leggi di conservazione della carica.
3.8.1 Polarizzazione diretta

Tentiamo di capire cosa capita nel nostro modello, quando alla giunzione è
collegata una batteria che le fornisce una polarizzazione diretta. Abbiamo
da sinistra una corrente di lacune che va verso destra, passa per la giunzio-
ne (dove consideriamo che non avvengono fenomeni di alcun tipo, in prima
approssimazione), e quindi viene ricombinata nel lato in cui diventa minori-
taria; dualmente da sinistra a destra vi è una corrente di elettroni che passa
per la giunzione, e viene ricombinata.
Ci chiediamo però da dove nascano queste due correnti: poichè abbiamo
escluso per conservazione della carica che vi sia corrente solo nella giunzio-
ne o nelle sue prossimità, nella fatispecie che le cariche che permettono la
conducibilità siano tutte nella zona di svuotamento [−xp ; xn ], ci chiediamo
cosa generi queste correnti. Analizzando la situazione, vediamo che dal lato
p giungono lacune, che vanno in n mediante un meccanismo diffusivo, prima
descritto quantitativamente. Ma cosa trasporta fino alla giunzione le cariche
che poi verranno inviate dall’altro lato della giunzione, mediante diffusione?
In altre parole, cosa permette la corrente?
76
In una giunzione polarizzata direttamente, vi è un campo elettrico dovuto
alla tensione applicata ai capi del dispositivo, che non è in grado di modifi-
care la mobilità dei minoritari, ma è in grado di muovere senza problemi una
corrente di maggioritari. Dal lato neutro della giunzione dunque proverrà
una corrente di drift, di trascinamento, di portatori maggioritari, che, giunta
in prossimità della zona di svuotamento, si dividerà in due sezioni: una si
preoccuperà di ricombinare la corrente arrivata dall’altro lato, un’altra sarà
inviata all’altro lato: dualmente capiterà nell’altro lato la stessa cosa, e in
questo modo sarà motivabile sia la presenza della corrente, che la presenza
della ricombinazione a partire della zona di svuotamento: il meccanismo chia-
ve della corrente in polarizzazione diretta è questa corrente di drift portata
dal campo, che ricombina la corrente giunta per diffusione dall’altro lato.
Riassumiamo ciò che abbiamo appena detto: abbiamo in precedenza
quantificato gli eccessi di carica di minoritari iniettati in un lato dall’altro,
seguendo un modello completamente diffusivo (in quanto parliamo di minori-
tari). Matematicamente si è verificato che, poichè la corrente di diffusione ha
un modello di decadimento esponenziale, dopo alcune lunghezze di diffusione
si potrà considerare sparita tutta la corrente iniettata: ciò è dovuto ad un
fenomeno di ricombinazione con portatori maggioritari del lato trasportati
mediante il campo elettrico della polarizzazione. I minoritari verranno satu-
rati, e cosı̀ si verificherà il moto di cariche globale in tutta la giunzione, e
quindi la corrente. La somma delle due correnti esterne alla giunzione sarà
la corrente totale in essa contenuta e mossa:

qDp pn0 qDn np0 Va

Jtot = Jp,dif f (xn ) + Jn,dif f (−xp ) = + e VT − 1
Lp Ln
Questa corrente totale Jtot sarà anche coincidente con la somma delle
due correnti di drift, lontane dalla giunzione. In questo modo, studiando
semplicemente le correnti di diffusione, è possibile calcolare le correnti di
drift in un punto qualsiasi del sistema lontano dalla giunzione. Introducendo
l’effetto del campo e della ricombinazione abbiamo cosı̀ esteso le correnti
ovunque nella giunzione p-n.
Questo è il meccanismo alla base di un diodo a giunzione (o almeno, metà
di esso, poichè stiamo solo considerando la corrente in polarizzazione diretta);
studiamolo ora sotto il punto di vista di altri fenomeno, considerando la
corrente nel diodo, I: data l’area della giunzione Aj , consideriamo la corrente
I nel diodo come:

2 qDp pn0 qDn np0 VVa
I = qni Aj + e −1
T
Lp Ln
77
Passiamo ora allo studio della seconda metà del modello del nostro diodo
a giunzione, studiandolo in regime di polarizzazione inversa.
3.8.2 Polarizzazione inversa: corrente inversa di satu-

razione
Data l’espressione appena analizzata, viene definito il termine I0 come cor-
rente inversa di saturazione:

2 Dp Dn
I0 = qni Aj +
Lp ND Ln NA
Questa è la corrente che sperimentalmente si può misurare applicando
una tensione esterna sufficientemente negativa al diodo: data infatti una
giunzione, essa, se polarizzata con una Va 0, e misurata la corrente pas-
sante in essa, avrà il valore I0 . Il meccanismo fisico dietro questo fenomeno è
differente da quello che abbiamo considerato in polarizzazione diretta, anche
se anche qua si può scorgere una dualità tra i due fenomeni.
Supponiamo dunque di polarizzare inversamente il nostro diodo: se di-
segnassimo il diagramma a bande della giunzione, essa dovrebbe presentare
il lato p molto rialzato rispetto al lato n. La barriera di potenziale deri-
vante dalla polarizzazione sarà molto elevata, e dunque i maggioritari non
avranno la possibilità di attraversarla. Saranno tuttavia possibili transizioni
di minoritari, che non avrebbero fatica ad attraversarla, poichè la barriera
per i maggioritari rappresenta una sorta di scivolo per i minoritari. Ciò ci
fa intuire che la corrente inversa di saturazione è provocata da un moto di
portatori minoritari, e dunque che abbia una forte dipendenza dalla tempe-
ratura (come meglio diremo dopo però): si inizi a considerare il fatto che
I0 ∝ n2i , ma che ni varia sensibilmente con la temperatura: esiste una regola
empirica che afferma che in un intorno di 300 K, per ogni incremento di 10
K la corrente raddoppi.
Anche in questo caso, in prossimità della giunzione, non consideriamo
effetti di alcun tipo: potremmo considerare ricombinazione o generazione
termica, che aumenterebbero o ridurrebbero la corrente. Ma l’efficacia di
questi due fenomeni dipende dalla temperatura: una volta che viene genera-
ta una coppia elettrone-lacuna all’interno della giunzione, questa viene im-
mediatamente separata dal campo, che allontana dalla giunzione i portatori.
Altri fenomeni quali la generazione ottica potrebbero comunque aumentare
la corrente inversa di saturazione, sempre generando nuove coppie elettrone-
lacuna. Ma noi non ci preoccupiamo di questi aspetti, per studiare quindi
solamente cosa capita a livello di correnti. Fenomeni additivi non verranno
78
considerati per ora nel nostro modello, anche se dispositivi quali fotodiodi o
celle fotovoltaiche si basano proprio su di essi.
Abbiamo detto che i minoritari sono in grado di transire la barriera,
divenendo maggioritari nel lato in cui arrivano; applicando la legge della
giunzione, sappiamo che:
Va
n0p (−xp ) = np0 e VT − 1
Va
p0n (xn ) = pn0 e VT − 1
Gli eccessi di minoritari, man mano che ci si allontana dalla giunzione,
tendono ad azzerarsi. Le correnti saranno tutte negative, in quanto conside-
riamo correnti di minoritari. Potremo dire che avremo, derivando i portatori
rispetto alla variabile spaziale x (applicando nuovamente dunque un modello
diffusivo), delle correnti, ma di segno opposto alle precedenti. Potremmo
raffigurare di nuovo un diagramma delle correnti diffusive, al fine di studiare
la corrente inversa di saturazione I0 :
Il campo di polarizzazione non è in grado di agire sui minoritari: se fosse

possibile, allora la corrente sarebbe opposta rispetto al verso che effettiva-
mente risulta avere. Giunti dall’altro lato, i minoritari diverranno maggio-
ritari. La situazione è del tutto duale alla precedente, ossia alla polarizza-
zione diretta: prima i maggioritari divenivano minoritari, ora i minoritari
divengono maggioritari. Prima il fenomeno che permetteva la corrente era
la ricombinazione delle correnti arrivate per diffusione unite ad un effetto
del campo; ora l’effetto del campo sarà sempre presente (anche se in modo
diverso), ma il fenomeno chiave del meccanismo sarà la generazione termica:
mediante generazione termica verranno a crearsi coppie elettrone-lacuna che
vengono immediatamente separate: i maggioritari rimarranno per qualche
tempo nel lato p, mentre i minoritari saranno iniettati nell’altro lato. Ad
evitare accumuli di carica, di maggioritari, che andrebbero cointro le leggi
di conservazione, è il campo elettrico: poichè il semiconduttore è polarizza-
to inversamente, la tensione tenderà ad allontanare il flusso di maggioritari
dalla barriera. Poichè questo eccesso di carica è esiguo, dal momento che la
79
sola sorgente di cariche lontano dalla giunzione è la generazione termica, in
questo ambito, I0 sarà esigua, a meno che non ci si trovi in alte temperatu-
re o regimi di generazione ottica. La tensione di polarizzazione inoltre non
è in grado di favorire il processo, poichè non varia la produzione di coppie
elettrone-lacuna con il variare della tensione. Al contrario iniettando dunque
termicamente od otticamente coppie elettrone-lacuna, le correnti di genera-
zione aumenteranno, e quindi anche la I0 , come proposto precedentemente
in un breve cenno.

Data una giunzione p-n simmetrica brusca, drogata p NA = 1016 , n ND =
5 · 1016 , sapendo che i tempi di vita dei portatori sono τn nel lato p, τp nel
lato n, τn (ND ) = 0, 5µs, τp (NA ) = 0, 3µs:
1. Si valuti la corrente inversa di saturazione I0 , e si disegni, quotan-
dole, le distribuzioni delle correnti, all’applicazione di una tensione
di polarizzazione Va = 0, 5 V, con area della giunzione Aj = 1mm2 ,
Wn = Wp = 1mm.
2. Si valutino i valori delle resistenze serie nel lato p e nel lato n e si
discuta il loro effetto sulla caratteristica statica del diodo, I(Va )
Una breve divagazione, prima di risolvere l’esercizio: cosa si intende pre-
cisamente per caratteristica statica? La risposta è semplice: la caratteristica
statica è una funzione della tensione Va che non considera fenomeni di tran-
sitorio: si considera, a tal fine, che la tensione Va vari molto lentamente, in
modo di poter vedere nel grafico della caratteristica statica esclusivamente i
valori di regime della corrente, e non eventuali picchi di corrente transitori.
Una giunzione simmetrica è una giunzione in cui i livelli di drogaggio
dei due lati sono confrontabili: per confrontabili, si intende una differen-
za di qualche ordine di grandezza. Se vi fosse un drogaggio tipico da una
parte (circa 1016 per esempio), e nell’altro lato un drogaggio dell’ordine di
1019 , la giunzione avrebbe una forte asimmetria, con effetti che più avanti
analizzeremo. Si arriva a parlare, in casi come quello appena accennato, di
semiconduttore degenere, poichè con un drogaggio elevato come 1019 il livello
di Fermi del semiconduttore arriva a coincidere con il livello EC della banda
di conduzione.
Una giunzione si definisce brusca quando il drogaggio cambia rapidamen-
te, ossia presenta un salto, come in tutte le giunzioni finora studiate; i tecno-
logi sono soliti definire una funzione del drogaggio al variare della posizione
x, N (x):
80
N (x) = ND (x) − NA (x)
Se N (x) presenta una discontinuità (che sarà ovviamente di tipo salto)
la giunzione è detta brusca; se al contrario N (x) è una funzione continua, si
parla di giunzione graduale. Lo studio del grafico di N (x) ci può ricordare
molto l’andamento delle densità di carica: mediante N (x) sarà infatti facile
dunque studiare le grandezze ρ, ε, Φ.
3.9.1 Risoluzione
Si valuti la corrente inversa di saturazione I0
Il calcolo della corrente I0 si può considerare fattibile come somma di due
contributi: il contributo del lato n, ed il contributo del lato p:
I0 = I0n + I0p
Possiamo dunque semplicemente calcolare in questo modo la corrente
inversa di saturazione:
Dn
I0n = qn2i Aj
Ln NA
Dp
I0p = qn2i Aj ND
Lp
Calcoliamo dunque i coefficienti di diffusione, mediante le relazioni di
Einstein:
kT
Dn = µn (NA ); µn (NA ) ∼ 1250 =⇒ Dn = 32, 5cm2 /s
q
kT
Dp = µp (ND ); µp (ND ) ∼ 300 =⇒ Dp = 7, 8cm2 /s
q
p
Ln = Dn τn = 40µm
p
Lp = Dp τp = 15µm
I0n = 2, 73 · 10−13 A
I0p = 0, 35 · 10−13 A
81
I0 = 3, 08 · 10−13 A
Ora che abbiamo calcolato il termine della corrente di saturazione in-
versa, quotare le correnti sarà molto semplice, in quanto possiamo usare
l’espressione della corrente del diodo:
Va
Ip,dif f = I0p e VT − 1 = 8µA
Va

In,dif f = I0n e VT
− 1 = 61µA
In toto, la corrente sul diodo con la tensione fornita dall’esercizio sarà:
I = Ip,dif f + In,dif f = 69µA
Si valutino i valori delle resistenze serie nel lato p e nel lato n

Passiamo ora alla soluzione del secondo punto del nostro esercizio: il calcolo
delle resistenze serie di accesso alla giunzione. Possiamo dire che, per ar-
rivare al punto di giunzione, attraverseremo infatti due resistenze, opposte
dalla lunghezza del lato p, e dalla lunghezza del lato n. Dalla legge di Ohm,
sappiamo che, per resistenze piccole e correnti piccole, vi è una caduta di
tensione molto piccola, e dunque si potrebbe considerare che tutta la tensio-
ne Va vada alla giunzione, per ottenere una tensione risultante Vj . Vogliamo
però comunque calcolare le resistenze opposte dai lati, al fine di capire ef-
fettivamente quanta tensione vi sia ai capi della giunzione, e comprendere in
modo più quantitativo l’effetto della presenza del semiconduttore nel circuito.
Possiamo considerare che:
Wp − xp 1 1
RSp = ρp = = = 1, 78 · 10 = 17, 8ω
Aj qµp ppv qµp NA
Con un ragionamento del tutto analogo,
Wn − xn 1 1
RSn = ρn = = = 0, 114 · 10 = 1, 14ω
Aj qµn nnv qµn ND
Il modello elettrico rappresentante il circuito sarà dunque quello del nostro

diodo, con in serie le due resistenze RSp ed RSn collegate, in serie, alla batteria
Va . Si verifica un problema nello studio della caratteristica statica: si dovrà
considerare, per alte tensioni, una Va0 considerata come la tensione sul solo
diodo, ID una corrente elevata sul diodo, al di sopra del quale, le resistenze
82
avranno un effetto non indifferente in quanto provocheranno una caduta di
tensione sempre meno trascurabile. La tensione sul diodo, sarà uguale a:
Va0 = Va − (RSp + RSn )ID

La corrente sul diodo avrà, basandoci sull’espressione della corrente del
diodo ricavata a partire delle leggi della giunzione, un’espressione del tipo:
Va −(R +R )I
Sp Sn D
ID = I0 e VT
−1
Si noti che quest’espressione è fortemente non lineare, in quanto la cor-

rente ID appare sia come variabile dipendente che come argomento dell’e-
sponenziale, e dunque sarebbe necessario sfruttare metodi numerici al fine di
determinare le soluzioni di quest’equazione in funzione di ID . Intuitivamen-
te, possiamo però fare un ragionamento molto più fine, pensando alla natura
del circuito: di base avremmo una corrente che varia esponenzialmente con
la tensione, ma le resistenze, facendo cadere tensione, al di sopra di un certo
valore, faranno stabilizzare il valore del rapporto VI , facendolo diventare da
esponenziale a lineare per grossi valori di Va . Al di sopra di questo valore di
Va , l’andamento della caratteristica statica sarà quello di una retta. In altre
parole, in queste condizioni, più Va sarà elevata, e sempre meno corrente in
proporzione percorrerà il diodo.
3.10 Cenni ad altri modelli della giunzione

Continuiamo a discutere la modellizzazione del diodo a giunzione; finora ab-
biamo considerato un modello statico, basato cioè sul non considerare feno-
meni di transitorio, effettuando lievi e lente variazioni di tensione, aspettando
che i valori si stabilizzassero ad un regime. Il vero problema del nostro mo-
dello statico però è il seguente: abbiamo descritto in modo abbastanza valido
il diodo a giunzione in zona diretta (anche se alcuni aspetti sono ancora da
chiarire), ma molto male in zona inversa; introduciamo dunque alcune idee
nuove, per poi approfondirle in seguito, in modo da estendere il nostro mo-
dello statico, accostandovi modelli più generali, quali quello di ampio segnale,
di piccolo segnale, ed altre osservazioni.
3.10.1 Modello di ampio segnale

Considerando un diodo, in polarizzazione diretta, esso presenta una cosa par-
ticolare: considerando una scala meno sensibile di quella che ci permetterebbe
di visualizzare chiaramente la corrente di saturazione inversa: consideriamo
83
ad esempio la scala del mA. Volendo ora disegnare un grafico della carat-
teristica statica, vedremmo che essa vale 0 fino ad un certo valore che noi
chiameremo Vγ , ossia la tensione di accensione del diodo, leggermente positi-
va. Questa è la tensione in cui l’esponenziale inizia ad attivarsi, e a curvare
la caratteristica statica, prima di stabilizzarsi ad una retta. Un veteroelet-
tronico, ossia un elettronico esperto, dotato di manualità, affermerebbe di
getto che se Va < Vγ , il diodo sarebbe spento, e modellabile con un circuito
aperto; se Va > Vγ , il diodo si modellerebbe con un generatore di tensione
Vγ ; questo valore, Vγ , sarà in seguito argomento di discussione, in quanto ora
bisogna accennare a qualcosa di molto più interessante.
Se consideriamo una tensione di polarizzazione inversa Va 0, molto in-
feriore a 0, al di sotto di un certo valore, che noi chiameremo VZ , o detta anche
tensione Zener (nel disegno seguente indicata con VBD ), si avrà un’ingente
corrente negativa: il diagramma corretto della caratteristica I(Va ) avrebbe
in realtà una forma del tipo:
Potremmo chiederci da dove provengono i valori Vγ e VZ ; per rispondere

a ciò, si è introdotto il modello di ampio segnale, che racchiude in sè tutte
queste fenomenologie fisiche per noi ancora inspiegabili. Alla base del mo-
dello di ampio segnale, vi è un concetto già precedentemente introdotto, di
elettrostatica: la capacità di svuotamento del semiconduttore CDEP . In pa-
rallelo col diodo, potremo infatti immaginare un condensatore comandato in
tensione, a capacità variabile. A ciò, si dovrà associare però un’ulteriore ca-
pacità variabile, sempre in parallelo al diodo: la capacità di diffusione CDEP .
Possiamo anticipare che essa è una capacità legata a fenomeni di diffusione
di minoritari, in uno stato di polarizzazione inversa del diodo.
Il modello circuitale del modello di ampio segnale sarà il seguente:
Come già detto, il diodo a giunzione è in parallelo alle capacità (coman-
84
date in tensione) di svuotamento CDEP e di diffusione CDEP , il tutto in serie
con le resistenze serie di accesso del semiconduttore.
Questo modello ci presenterà molti problemi, in quanto esso è un circuito
fortemente non lineare, e dunque impossibile da studiare se non mediante
simulatori numerici, che effettivamente fino a vent’anni fa non esistevano.
Esistevano tecniche ingegneristiche in grado di eliminare o quantomeno ac-
cantonare la non linearità del circuito, al fine di poterlo ugualmente studiare;
ora vedremo qualche cenno su questo.
3.10.2 Modello di piccolo segnale

La forte non linearità del circuito rende impossibile l’applicazione dell’elet-
trotecnica, e delle sue tecniche di analisi circuitale. La strategia vincente
sarà quella di considerare un preciso punto di funzionamento del circuito, e
di linearizzarlo in un intorno di questo valore, mediante una sorta di sviluppo
in serie troncato. Piccolo segnale deriva proprio dal fatto che questo metodo
funziona però solo localmente, a seconda del punto di lavoro che si utilizza.
Ricominciamo ora a trattare argomenti più dettagliati, e di risolvere
alcuni dubbi introdotti in questi cenni.
3.11 Valutazione di Vγ
Come già detto, Vγ è la tensione di accensione del diodo; il diodo sarà in
stato di polarizzazione diretta, e con una tensione sufficientemente elevata
da far attivare l’esponenziale che controlla la crescita della caratteristica del
diodo. Supponiamo di stabilire a 0, 1 mA la minima corrente sensibile da
uno strumento di misura: Vγ sarà la tensione tale per cui avremo garanzia
di poter osservare questa minima corrente (scelta in realtà arbitrariamente),
I0min . La tensione minima in questione sarà data da:
I0,min
Vγ = VT ln ∼ 0, 6V
I0
85
La scelta di I0min che noi abbiamo ipotizzato di 0, 1 mA per fare un
esempio in realtà è poco influente, poichè il logaritmo attenua molto questo
fattore. Si tratta solo di una scelta di corrente minima osservabile con un
valore sensato. Si noti che il valore che abbiamo osservato di Vγ è circa a
metà del valore dell’energy gap (1,12 eV). Questa è una regola empirica, ma
sensata, in quanto gli ingegneri di vent’anni fa potevano solo sfruttare tali
regole empiriche per semplificare i propri modelli. L’importanza storica di
Vγ è la sua caratteristica di rappresentare un limite, al di sotto del quale
non vi è crescita di corrente, al variare di Va , ma dopo il quale la crescita è
esponenziale, ossia quasi verticale potremmo dire. Poi, però, si stabilizza, e
per questo motivo un diodo è modellabile con una batteria: al di sopra di
un certo valore, la tensione resta sempre circa costante, poichè le resistenze
serie di accesso al diodo rendono circa costante la tensione.
Passiamo ora all’analisi più dettagliata del diodo a giunzione in stato di
polarizzazione inversa, analizzando i fenomeni di rottura della giunzione.
3.12 Meccanismi di rottura della giunzione

Se consideriamo una polarizzazione inversa con tensione Va 0, e quindi
una tensione molto negativa, ci aspettiamo, dal modello statico, una corrente
inversa di saturazione, e quindi costante. In realtà, al di sotto della tensione
Zener VZ , il diodo va in rottura (breakdown): vi è una rottura elettrostatica
del diodo a giunzione.
Si noti che questo fenomeno è reversibile: la rottura è un fenomeno pura-
mente elettrostatico, a meno che con una corrente troppo alta, si manifesti
un effetto Joule non indifferente che produca un forte innalzamento termico
del dispositivo provocando danni fisici, che però non dipendono dalle ca-
ratteristiche elettriche dispositivo, quanto dalla sua resistenza al calore che
verrebbe dissipato dalle resistenze. Esistono due fondamentali meccanismi
di breakdown della giunzione, che analizzeremo in modo però puramente
qualitativo:
• Effetto Valanga
• Effetto Tunnel
3.12.1 Effetto valanga

Data una giunzione polarizzata inversamente, il lato p risulta essere molto
rialzato rispetto al lato n: il campo elettrico, a causa della forte tensione,
sarà molto elevato, come già detto. Nella zona di svuotamento, ci saranno,
86
come di consueto, fenomeni di generazione termica, che regoleranno la cor-
rente di saturazione inversa: questi provocheranno la nascita di una coppia
elettrone-lacuna. Il forte campo elettrico potrà accelerare verso sinistra le
lacune (secondo la nostra usuale convenzione), e verso destra gli elettroni.
L’urto con il reticolo alla velocità acquisita dall’elettrone causata dall’in-
tensità del campo elettrico sarà cosı̀ violento da riuscire a provocare effetti
termici non trascurabili con esso, che daran luogo a due nuove coppie elet-
trone lacuna (una per la lacuna scontratasi, una per l’elettrone scontratosi):
a questo punto il campo separerà ed accelererà questi due nuovi elementi,
che causeranno a loro volta nuove generazioni, che a loro volta causeranno
nuove generazioni, e in questo modo vi sarà un effetto a valanga che provo-
cherà una corrente non trascurabile nel diodo, e inversa, a causa del campo
di polarizzazione.
3.12.2 Effetto tunnel

A causa della polarizzazione inversa, abbiamo una barriera di potenziale mol-
to elevata. La banda di valenza, nel lato p, è ricchissima di elettroni (per
definizione); poichè la barriera si alza, ma anche restringe, quando assume
uno spessore sufficientemente ridotto (alcuni amstrong), aumentano le proba-
bilità dell’effetto tunnel, ossia dal fatto che la funzione d’onda degli elettroni
contenga una buona probabilità dell’elettrone di superare la barriera nono-
stante essa abbia un potenziale molto più elevato di quello dell’elettrone.
Con una barriera sufficientemente stretta, dunque, il tunnelling diventerà
possibile e anzi probabile.
3.12.3 Diodi Zener

I diodi che funzionano prevalentemente in zona di breakdown sono detti diodi
Zener. Il loro simbolo è quello di un diodo, con due sorte di alette aggiuntive.
Essi vengono modellati, al di sotto del raggiungimento della zona Zener della
tensione, con una batteria. Si noti che la convenzione di utilizzatore del
diodo Zener è opposta rispetto a quella dei comuni diodi, poichè esso lavora
per l’appunto in zona inversa. Questo tipo di dispositivo è utilizzato molto
comunemente, in quanto con una certa corrente, esso fornirà sempre la stessa
tensione, rappresentando cosı̀ un ottimo punto di riferimento in un circuito.
Cosa ci garantisce un diodo a tunnel piuttosto che un diodo a valanga?
Esistono diversi aspetti, ma il più importante è il drogaggio: un diodo a
giunzione molto drogato, avrà una tensione Zener VZ molto piccola, e quindi
sarà a effetto tunnel; al contrario, un diodo a giunzione poco drogato, con
una tensione Zener abbastanza elevata, sarà a valanga.
87
3.13 Calcolo della capacità di diffusione
Parlando del nostro modello di ampio segnale, abbiamo detto che in parallelo
al diodo vi sono due capacità variabili: la capacità di svuotamento CDEP e la
capacità di diffusione CDIF , ma non abbiamo ancora analizzato e considerato
minimamente quest’ultima. Sappiamo solo che essa è legata all’accumulo di
carica dei minoritari nei due lati.
Le distribuzioni dei minoritari saranno:
− x−x n
p0n (x) = p0n (xn )e Lp
x+xp
n0p (x) = n0p (−xp )e Ln
Le cariche Q0p e Q0n sono gli integrali delle distribuzioni nello spazio in cui
agiscono gli eccessi di carica:
+∞
qn2i Lp VVa
Z +∞
− x−xn x−xn

−
Q0p = qp0n (xn )e Lp dx = −qp0n (xn )(−Lp )e Lp 0
= qpn (xn )Lp = e −1
T
ND

xn xn
−xp
−qn2i Ln VVa
Z −xp
x+xp x+xp

Q0n = qn0p (−xp )e dx = −qn0p (−xp )Ln e = −qn0p (−xp )Ln = e T −1
Ln Ln

NA

−∞ −∞
Vedendo un legame tra carica e tensione, potremmo voler introdurre a

questo punto una capacità. Per questo si definisce la capacità di diffusione,
come la somma dei moduli delle derivate delle cariche rispetto alla tensione
Va :
0 0
∂Qp ∂Qn
CDIF (Va ) = +
∂Va ∂Va
Da ciò, si ricava che:
qn2i Lp VVa qn2 Ln Va

CDIF (Va ) = e T + i e VT
ND NA
Si noti che se la giunzione è fortemente asimmetrica, il termine a drogaggio
superiore sarà trascurabile, poichè la zona di svuotamento sarà infinitesima.
Anche questa capacità è una quantità fortemente non lineare: essa dipen-
de esponenzialmente dalla tensione esterna Va .
Torniamo alle espressioni appena ricavate degli eccessi di carica Q0p e Q0n :
prendiamo ad esempio nello specifico la Q0p :
88
qn2i Lp VVa
Q0p = e T −1
ND
Si può facilmente notare una similitudine con la corrente di diffusione nel
punto xn , di lacune:
qDp n2i VVa

Jp (xn ) = e −1
T
ND Lp
Moltiplicando e dividendo il termine Lp all’espressione di Q0p , si ottiene:
Lp qn2i L2p VVa qn2 D τ

p p
Q0p · = e T −1 = i
Lp ND Lp ND Lp
Dunque, si può vedere facilmente che:
Q0p
Jp,dif f (xn ) =
τp
In modo del tutto duale, si può verificare facilmente che:
Q0n
Jn,dif f (−xp ) =
τn
Poichè la corrente totale nel diodo è la somma dei due contributi di carica,
possiamo dire che:
Q0p Q0n
Jtot = Jp,dif f + Jn,dif f = +
τp τn
Questa è la corrente totale nella giunzione in condizioni stazionarie. Ciò ci
può far intuire che la corrente nel diodo è controllata sostanzialmente da una
ricombinazione: questa è la base del modello del diodo a controllo di carica.
Manca però un fattore fondamentale: la dipendenza dal tempo. Dobbiamo
dunque meglio definire il nostro modello a controllo di carica, introducendo
una variazione della corrente nel tempo.
3.14 Modello a controllo di carica

Abbiamo finora considerato nel nostro diodo condizioni stazionarie; per poter
studiare il modello a controllo di carica, dovremo risolvere l’equazione di
continuità, in condizioni non stazionarie, e dunque con derivata temporale
della densità di carica non nulla. Considerando ad esempio la corrente dovuta
dalle sole lacune, nel lato n, vediamo che:
89
∂p0n 1 ∂ p0 (x)
=− Jp (x) − n
∂t q ∂x τp
Risulta essere sempre e comunque valida l’ipotesi di quasi neutralità, per
quanto riguarda i portatori minoritari, e dunque possiamo dire che la corrente
nel diodo in un intorno della giunzione è puramente diffusiva:
∂p0n ∂ 2 p0 ∂ p0 (x)
Jp = −qDp =⇒ Dp 2n = p0n (x) + n
∂x ∂x ∂t τp
Integriamo dunque quest’espressione sull’asse delle ascisse spaziali x, en-
trambi i membri, a partire dal punto xn in cui inizia la ricombinazione, fino
ad una generica posizione spaziale x > xn :
∂ x 0 1 x 0
0
∂p0n
Z Z
∂pn
Dp − = p (x)dx + p (x)dx
∂x x ∂x xn ∂t xn n τ p xn n
Moltiplicando ambo i membri per la carica fondamentale q, si ottiene che
il termine con derivata temporale diventa:
∂ x 0 1 x 0
Z Z
∂ 1
qpn (x)dx + qpn (x)dx = Q0p (x) + Q0p (x)
∂t xn τp xn ∂t τp
Al primo membro, invece, per x → +∞, il primo termine si annulla,
poichè la ricombinazione avrà annullato tutta la corrente di minoritari, e
quindi, considerando l’ipoteso di diodo lungo, potremo annullare il primo
termine, mentre il secondo sarà:
∂p0n

−qDp = Jp,dif f (xn )
∂x xn
Dualmente, effettuando lo stesso processo con la corrente di elettroni
derivanti dal lato n verso il lato p, si ottiene:
∂ 0 1
Jn,dif f (−xp ) = Qn + Q0n
∂t τn
Poichè la corrente totale nel diodo Jtot sarà data dalla somma dei due
contributi di corrente, il modello a controllo di carica sarà determinato dal-
l’equazione:
∂ 0 ∂ 0 Q0p Q0n
Jtot = Qp + Qn + +
∂t ∂t τp τn
Terminiamo ora la trattazione di questo modello, cambiando argomento,
e parlando di un altro modello del diodo a giunzione.
90
3.15 Modello di piccolo segnale
Il modello a controllo di carica è un sottocaso del modello ad ampio segnale,
che non considera effetti elettrostatici (quali le capacità prima discusse); il
modello ad ampio segnale è il modello che più interamente caratterizza un
dispositivo, nella fatispecie il diodo a giunzione nel nostro caso, però come già
accennato è molto difficile da utilizzare, a causa della sua forte non linearità.
L’idea del modello di piccolo segnale è quella di studiare solo un preciso
punto di lavoro del dispositivo, linearizzandolo in un intorno di quel punto,
mediante una sorta di sviluppo in serie di Taylor troncata.
Dovremo studiare una funzione I(Va ) per una certa Va = Vop +vSS : Vop (op
sta per Operating Point) è la tensione del punto di lavoro a cui ci portiamo, al
fine di sviluppare l’espressione della I; vSS è la rappresentazione dell’intorno,
del piccolo segnale (SS sta per Small Signal), ed è la cosiddetta tensione di
piccolo segnale.
Partiamo dalla corrente del diodo, dicendo che:
Va
I = I0 e VT − 1
Poichè consideriamo Va = Vop + vSS , possiamo sviluppare fino al primo
ordine, e quindi linearmente in un intorno del punto di lavoro la funzione
della caratteristica come:
V
op ∂ h VVa i
I(Vop + vSS ) = I0 e − 1 +
VT
I0 e − 1
T
∂Va
Di fatto la tensione Vop è una componente costante, mentre vSS il suo
intorno in cui possiamo considerare valida la linearizzazione effettuata. La
derivatà della corrente I0 nel punto di lavoro Vop sarà:
Vop
∂ h VVa i I0 e VT
I0 e T − 1 = = gd

∂Va Vo p VT
Il termine gd è anche detto conduttanza differenziale; ad essa associata è
la resistenza differenziale, come il suo reciproco:
1
rd =
gd
Vop
Spesso gli elettronici scambiano tra loro il termine I0 e VT con Iop . Con-
siderando questa definizione della corrente Iop come corrente del punto di
lavoro Vop , sarà:
91
I(V (t)) = I(Vop + vSS (t)) ' Iop + gd vSS (t) = I(Vop ) + iSS (t)
In un intorno di Vop , è possibile dunque linearizzare il diodo, sostituendolo
con la resistenza differenziale rd : questa non sarà altro che la pendenza della
retta osculatrice I(Va ) nel punto di lavoro Vop , con un intorno di piccolo
segnale vSS . Il termine iSS sarà dato dall’approssimazione di I(Va ) al punto
di lavoro Vop , I(Vop ) = Iop ; possiamo dunque definire ora la corrente di piccolo
segnale come il semplice intorno-ordinata della caratteristica, ossia l’intera
caratteristica considerata in Va = Vop + vSS sottraendo la componente di
offset I(Vop ) = Iop :
iSS (t) = Itot (Va ) − Iop = gd vss

Abbiamo cosı̀ trattato in modo assolutamente completo il diodo, analiz-
zato sotto il punto di vista del metodo di piccolo segnale. Cerchiamo ora di
trattare brevemente allo stesso modo le capacità di svuotamento e di diffu-
sione CDEP e CDIF , considerandole sempre ad un punto di funzionamento
Va = Vop + vSS ; possiamo dire che:

∂QDEP
QDEP (Vop + vSS (t)) ' QDEP (Vop ) + · vSS
∂Va Vop

∂QDIF
QDIF (Vop + vSS (t)) ' QDIF (Vop ) + · vSS
∂Va Vop
Utilizzando le espressioni operative già ricavate in precedenza delle cariche
di svuotamento e di diffusione, si possono facilmente ricavare le espressioni
delle capacità di svuotamento e di diffusione.
Il modello di piccolo segnale riduce dunque, in un intorno del punto di
lavoro Vop , il circuito di ampio segnale ad un resistore (resistenza differenziale
rd ) in parallelo a due capacità: questo, in serie con le resistenze serie dei
lati della giunzione (che non hanno bisogno di essere linearizzate in quanto
sono quantità costanti). Si noti che, per Va < 0, ossia in polarizzazione
inversa, la rd avrà su di sè pochissima corrente, e diventerà cosı̀ dell’ordine dei
MΩ, assimilabile dunque con un circuito aperto; la diffusione sarà pressochè
nulla, poichè tutti i minoritari saranno solo nella zona di svuotamento, e la
capacità relativa alla diffusione sarà circa nulla: CDIF ' 0. Possiamo dunque
ulteriormente semplificare il modello di piccolo segnale, per una tensione
Va < 0, con un condensatore (nella fatispecie, il condensatore con cui si
modellano le zone di svuotamento, CDEP ), in serie alle due resistenze dovute
ai lati del semiconduttore. Ovviamente, non si parla di una tensione di lavoro
92
negativa paragonabile a quella Zener, altrimenti la corrente è molto elevata
e questa semplificazione non è fattibile.
3.16 Esercizio pratico

Data una giunzione p-n cosı̀ descritta: Wn = 200µm, Wp = 2µm, Aj =
100µm2 , µp (NA ) = 300, µn (NA ) = 100, µn (ND ) = 600, µp (ND ) = 150,
τp = 0, 2µs, τn = 1µs , Va = 0, 2V , ND = 1018 , NA = 1016 , considerata con la
convenzione inversa: lato n a sinistra, lato p a destra:
1. Disegnare il diagramma a bande quotato (ampiezza regioni di svuota-

mento, quasi-livelli di Fermi, etc.);
2. Disegnare e quotare il diagramma delle correnti;
3. Calcolare il modello di ampio segnale del diodo a giunzione;
4. Calcolare il modello di piccolo segnale considerando Va come punto di

lavoro.
3.16.1 Risoluzione
Disegnare il diagramma a bande quotato
Per il primo punto del problema potremmo adottare le solite strategie di
risoluzione, oppure ragionare in un modo più fine: osservando i dati del pro-
blema, notiamo che Wn Wp , e che ND NA . Questi dati ci permettono
di introdurre da un lato l’ipotesi di diodo corto, e dall’altro lato la forte diffe-
renza di drogaggio fa praticamente ridurre la zona di svuotamento ad una δ
(idealizzando, poichè l’ampiezza della regione di svuotamento del lato n sarà
molto inferiore a quella nel lato p). Possiamo trascurare nei nostri conti xn ,
e dunque dire che l’ampiezza della regione di svuotamento sia:
s
2S (Φi − Va )
xd ' xd =
qNA
Poichè ci manca per ora la barriera Φi , calcoliamola, considerando questa
convenzione: poichè il lato n è un semiconduttore n+ , ossia molto drogato,
possiamo dire in buona approssimazione che il livello di Fermi coincida con
il livello di partenza della banda di conduzione EC . Dunque:
qΦSn+ ' qχ
93
Confondiamo dunque senza problemi il lavoro di estrazione con l’affinità
elettronica del silicio n+ (che è un parametro costante, e noto).
Possiamo dunque calcolare la barriera nel lato p, confrontando il livel-
lo di Fermi intrinseco in zona di neutralità, con il quasi-livello di Fermi,
aggiungendo al conto metà dell’energy gap:
Eg Eg NA
qΦi = + EFi (+∞) − EFp = + kT ln
2 2 Ni
Si può dunque trascurare il termine al lato n, e ripetere il ragionamento
geometrico fatto sul diagramma a bande della giunzione già esposto nella
teoria.
Disegnare e quotare il diagramma delle correnti

Passiamo al punto successivo: il calcolo delle correnti nella giunzione. Ab-
biamo una situazione molto particolare, poichè abbiamo a che fare con un
diodo metà lungo, e metà corto; calcoliamo dunque, in entrambi i lati, la
distribuzione dei minoritari, al fine di calcolare le correnti di diffusione come
derivata della distribuzione. La distribuzione di lacune iniettate nel lato n
(ricordando che la nostra convenzione abituale è invertita) sarà:
x+xn
p0n (x) = p0n (−xn )e Lp
Per l’altro lato le cose si fanno più difficili, in quanto le condizioni al con-
torno abituali per la risoluzione dell’equazione di continuità non valgono. Da
un altro esercizio teorico abbiamo però già ricavato il risultato fondamentale
considerante le condizioni al contorno al fine di studiare il semiconduttore
corto, e quindi possiamo dire che:
sinh L−x
Ln
n0p (x) = n0p (xp )
sinh LLn
Poichè nel nostro caso consideriamo il fatto che la lunghezza effettiva
del lato parta aldilà della regione di svuotamento, e quindi L = Wp − xp ,
possiamo dire che, poichè x xp generalmente,
sinh WLpn−x
n0p (x) = n0p (xp )
sinh WpL−x
n
p
Partendo dalle due espressioni delle correnti ora ricavate possiamo, me-
diante la loro derivazione, ricavare le espressioni operative delle correnti:
94
∂p0n (x) −qDp n2i VVa x+xn
Jp,dif f (x) = −qDp = e T − 1 e Lp
∂x ND Lp
∂n0p (x) −qDn n2i VVa − cosh Wp −x

Ln
Jn,dif f (x) = −qDn = e T −1 Wp −xp
∂x NA Ln sinh L n
Ciò che si potrebbe notare facendo il grafico delle due correnti, è che Jp,dif f
è una corrente del tutto trascurabile; inoltre, la decrescita che si potrebbe
analizzare osservando l’andamento di Jn,dif f è altrettanto trascurabile, quindi
di fatto la corrente totale nel diodo è regolata dalla sola Jn,dif f , che è una
corrente praticamente costante. Possiamo a questo punto chiederci quale sia
l’andamento della caratteristica statica del diodo; dal momento che abbiamo
usato per esperienza (e tornerà utile in seguito) questa convenzione opposta
della giunzione, invertiamo il senso di percorrenza degli assi, per comodità,
considerando −Itot , ed i segni − nelle espressioni potranno essere annullati:
−Itot = Aj (Jp,dif f (−xn ) + Jn,dif f (xp ))
Wp −xp
!
−qDp n2i qDn n2i cosh Ln Wp − xp Va

I = Aj + e VT − 1
ND Lp NA Ln sinh WpL−xp Ln
n
In realtà, però, il lato è corto, quindi possiamo sviluppare seno e coseno

iperbolico, come rispettivamente argomento del seno e 1:
Wp − xp
n0p (x) ' n0p (xp )
Ln
In un dispositivo di questo tipo, si annulla l’usuale andamento della ricom-
binazione: l’andamento è approssimabile a lineare, ed anzi costante, poichè il
lato corto annulla gli effetti ricombinativi. Nel lato n invece l’unica particola-
rità introdotta nell’esercizio è un forte drogaggio, che di fatto non modifica il
fenomeno di ricombinazione (se non rendendolo più rapido). Nel transistore
bipolare, l’uso del lato corto sarà proprio ciò che servirà per gestire le correnti
nel modo più corretto, in modo da aumentare l’effetto transistor.
Calcolare il modello di ampio segnale del diodo a giunzione

Terminiamo l’esercizio calcolando i modelli di ampio e piccolo segnale: sap-
piamo che le nostre ipotesi di lato corto ci permettono di dire che:
S S
CDEP = Aj ' Aj
xd xp (Va )
95
La capacità di diffusione si potrà calcolare mediante il modello a controllo
di carica, calcolando la derivata parziale rispetto alla variazione di tensione di
polarizzazione esterna Va ; in questo caso l’ipotesi semplificatrice sarà quella
di grosso drogaggio: poichè il drogaggio è molto più elevato al lato n che al
lato p, possiamo dire che il contributo della carica Q0p sarà trascurabile.
0
∂Q
CDIF ' Aj n
∂Va
Possiamo inoltre, come già detto, approssimare la distribuzione degli elet-
troni ad una retta, a causa dello sviluppo in polinomio di Taylor del seno
iperbolico; possiamo dunque ulteriormente semplificare il modello a control-
lo di carica, calcolando l’area del triangolo il cui lato è il lato del diodo, e
l’altezza la carica in questione è la distribuzione di carica; quindi:
−qn2i (Wp − xp ) VVa

Q0n = e −1
T
2NA
Considerando il modulo della derivata parziale di quest’espressione ri-
spetto alla tensione Va , si otterrà:
0
∂Qn qn2i (Wp − xp ) Va
∂Va = e VT

2NA VT
Il modello di piccolo segnale sarà una semplice linearizzazione di questo,
considerando il punto di lavoro scelto (ossia la Va ).
96
Capitolo 4
Il transistore bipolare
Il transistore bipolare è una geniale applicazione della giunzione p-n: esso è

composto da una doppia giunzione n-p-n (oppure p-n-p); ma qual è il senso
di fare una giunzione doppia?
Sappiamo che, per poter aumentare la corrente inversa di saturazione I0 ,
servirebbe un’iniezione di portatori mediante via termica, od ottica, oppure
utilizzare iniettori di altro tipo: la giunzione p-n. Abbiamo infatti studia-
to che una giunzione è un iniettore di cariche, poichè è possibile iniettare
portatori mediante essa, e quindi incrementare la corrente inversa di satura-
zione. Possiamo dunque suddividere in tre principali zone questo dispositivo:
emettitore, base, collettore.
Consideriamo come emettitore per ora un semiconduttore drogato n, come

base un semiconduttore drogato p, come collettore un altro semiconduttore
drogato n. L’emettitore emette elettroni nel lato p ad esso adiacente, ossia
alla base, e questo mediante l’applicazione di una polarizzazione diretta. Da p
a n, vi sarà una polarizzazione inversa, ma gli elettroni, giunti in abbondanza
97
dall’emettitore, andranno verso il collettore passando dalla base, mediante
una corrente di tipo diffusivo. Riassumendo, la barriera bassa dall’emettitore
E alla base B permette il passaggio di elettroni; dalla base B al collettore C
questi scivoleranno dalla barriera, arrivando senza problemi alla meta. Ma
qual è il senso dell’utilizzo di questo dispositivo?
Si noti che la corrente di elettroni dall’emettitore E, alla base B è rego-
labile dalla tensione sulla prima giunzione; ciò che poi capita, è che si possa
controllare la corrente che viene iniettata dalla base al collettore (poichè essa
dipende da quanta ne è stata iniettata dalla base, e questa è regolabile dalla
tensione tra E e B), ma senza doverla riprendere tutta: di solito dobbiamo
pagare tutta la carica inviata da un semiconduttore ad un altro, con altret-
tanta carica dal secondo semiconduttore verso il primo, come abbiamo visto
nei meccanismi alla base del diodo a giunzione; di fatto, non sarà necessaria
una grossa contropartita di corrente dalla base all’emettitore, o meglio ne sarà
necessaria una quantità minima, come vedremo: vi sarà una grossa corrente
da E a B, ma infinitesima da B ad E (in un buon transistore, alle condizioni
che introdurremo). L’astuzia si basa sul fatto che, tendenzialmente, gli elet-
troni derivanti dall’emettitore E verso la base B non dovranno ricombinarsi,
ma andare verso il collettore C, dove saranno comunque maggioritari (poichè
il collettore è un semiconduttore drogato tipo n).
Riassumendo, il transistore bipolare permette di controllare una corrente
tra emettitore e collettore senza dover pagare con una corrente troppo ingente
tra base ed emettitore, bensı̀ solo con una minima corrente inversa.
4.1 Analisi delle correnti

Cerchiamo ora di rappresentare in modo qualitativo il modello delle correnti
in un transistore bipolare; consideriamo la giunzione da emettitore E a base B
polarizzata direttamente, e da base B a collettore C polarizzata inversamente:
VBE > 0, VBC < 0.
98
Nel dispositivo in studio, esistono cinque correnti; analizziamole una per
una:
1. InE è una corrente di diffusione di elettroni che vengono iniettati dal-
l’emettitore E alla base B;
2. InC è la frazione di InE che non si è ricombinata nella base; essa in un
dispositivo ben funzionante deve essere più elevata possibile, poichè la
ricombinazione in base deve essere minima, e poichè essa sarà destinata
a terminare nel collettore; InE ed InC sono le due correnti fondamentali
ai fini del funzionamento del transistore bipolare;
3. IrB è una corrente di diffusione di lacune iniettata nella base a partire
dall’emettitore, che va a ricombinarsi interamente: è una frazione di
InE , che deve essere limitata, in quanto essa limita la corrente principale
InC ;
4. IpB è una corrente di diffusione di lacune iniettate nell’emettitore a
partire dalla base; questa corrente deve essere piccola, in un buon di-
spositivo, poichè dipende dalla ricombinazione di InE , che deve essere
minore possibile per garantire un buon funzionamento;
5. IpC è una corrente inversa di lacune diretta dal collettore C verso la
base B, molto ridotta, e spesso trascurabile nello studio dei transistori.
Ragioniamo ora su queste correnti: la corrente di ingresso nell’emettitore
dalla batteria, IE , è data da:
IE = InE + IpB
La corrente IE è la somma delle due correnti InE e IpB , la seconda de-
rivante dalla base. Poichè una delle due correnti principali del transistore è
quella totale che va dall’emettitore verso la base, la corrente da base a emet-
titore, IpB , sarà da limitare. Si definisce sull’emettitore un parametro γF che
determina l’efficienza del transistore, all’emettitore (F sta per Forward):
InE
γF =
InE + IpB
Il parametro γF è dunque detto efficienza di emettitore, e in un buon
dispositivo deve tendere a 1, poichè IpB dovrà tendere a 0; ciò è tecnologica-
mente fattibile, aumentando il drogaggio del lato emettitore n (come si può
facilmente verificare dalla legge della giunzione). Possiamo dunque dire che:
InE = γF IE
99
Ci interessa ora sapere, di questa γF IE , quanta finirà nel collettore, e
quindi quanta non verrà ricombinata. Possiamo ricavare facilmente che:
InC = InE − IrB

Possiamo dunque definire il parametro αT come:
InE − IrB
αT =
InE
Anche in questo caso, in un buon dispositivo, αT deve tendere a 1. In
questo caso, tecnologicamente il trucco per far tendere a 1 il coefficiente
αT , è quello di usare una base corta: se la lunghezza del semiconduttore
WB Ln , la ricombinazione non avrà il tempo di agire efficacemente sulla
carica, e dunque αT → 1.
La corrente IpC ' 0 e quindi possiamo considerarla ora come ora trascu-
rabile.
Definiamo αF il prodotto dei due coefficienti di efficienza:
αF = γF αT
La corrente del collettore, IC , sarà pari a:
IC = −αF IE
Possiamo considerare il transistore come un nodo generalizzato, e dunque
studiare mediante le leggi di Kirchhoff le tre correnti su emettitore, collettore,
base: anche la base infatti avrà una corrente, che andrà ridotta mediante i
metodi tecnologici accennati, in un dispositivo valido:
IE + IB + IC = 0
Considerando l’espressione precedentemente vista in funzione di IE , so-
stituiamo nella relazione appena trovata:
IC IC
IE = − =⇒ − + IC + IB = 0
αF αF
Quindi:
IC (1 − αF ) IC αF
IB = =⇒ = = βF
αF IB 1 − αF
Questo parametro, βF , è detto guadagno in corrente. Abbiamo visto che
αF è il prodotto di due numeri vicini ad 1, e dunque βF potrebbe essere un
numero molto elevato (da 100 a 300 o anche molto più in un buon dispositivo).
100
Possiamo dire che:
IC = βF IB
Con il prezzo di una corrente di base di soli pochi mA, è possibile control-
lare correnti molto elevate, modulabili mediante la tensione tra emettitore
e base, VBE . Possiamo considerare IB come un prezzo da pagare, al fine di
poter liberamente modulare mediante la tensione la corrente del transistore.
Passiamo ora ad un calcolo più quantitativo, al fine di studiare le correnti.
4.2 Calcolo delle correnti

Consideriamo alcune ipotesi preliminari: scegliamo come origine del nostro
sistema di assi cartesiani rappresentante la posizione spaziale sul dispositi-
vo il punto di inizio della regione di svuotamento sulla base, alla giunzione
con l’emettitore E; consideriamo inoltre la larghezza della base WB uguale
alla distanza tra le due regioni di svuotamento. Questa seconda ipotesi è
molto approssimativa, in quanto di fatto la distanza tra le due regioni di
svuotamento varia con le regioni di svuotamento stesse, le quali sono modu-
labili mediante le tensioni esterne che controllano il dispositivo; poichè però
utilizziamo l’ipotesi di lato corto, possiamo considerare come non troppo er-
rata questa approssimazione, anche se di fatto confondiamo una grandezza
variabile con la tensione con una costante.
I quattro punti del dispositivo interessanti per il nostro studio in questo
ambito saranno: −xdE , 0, WB , xd C, ossia il punto di inizio della zona di svuo-
tamento della giunzione tra emettitore e base, dal lato della base, l’origine
prima definita, la posizione della giunzione con il lato n (collettore), confusa
con l’inizio della relativa zona di svuotamento, e il punto di inizio della regio-
ne di svuotamento nel collettore. Studiamo dunque le leggi delle giunzioni,
applicandole nei suddetti punti; consideriamo NDE come la concentrazione
di drogaggio tipo n ND nell’emettitore E, e NAB come la concentrazione di
drogaggio tipo p NA nella base B:
n2i
V
BE
0
pn (−xdE ) = e VT
−1
NDE
n2i
V
BE
0
np (0) = e VT
−1
NAB
n2i
V
BC
0
np (WB ) = e VT
−1
NAB
101
In un transistore, i fenomeni di interesse avvengono soprattutto nella
base: in essa, ci dedicheremo allo studio dettagliato dei portatori di carica.
Supponiamo di conoscere come condizioni al contorno i portatori nei punti
0 e WB : essi saranno le grandezze appena ricavate mediante le leggi della
giunzione. Applichiamo ora alla base il modello matematico, ricordando che
ci troviamo in ipotesi di lato corto.
Consideriamo dunque le equazioni di continuità, nella base; si noti che
le nostre due equazioni al contorno sono però entrambe non nulle, quindi
avremo a che fare con conti algebrici di difficoltà non indifferente.
Dal modello matematico, sappiamo che:
∂ 2 n0p (x) n0p (x)

Dn =
∂x2 τn
∂ 2 p0n (x) p0n (x)
Dp =
∂x2 τp
La soluzione generale delle equazioni differenziali avrà come al solito una
forma del tipo (consideriamo la diffusione dentro alla base di elettroni, e
quindi l’eccesso di elettroni n0p (x)):
x x
n0p (x) = Ae Ln + Be− Ln
Applichiamo ora le due condizioni al contorno, che abbiamo precedente-
mente studiato:
n2i
V
BE
0
np (0) = e VT
− 1 =⇒ A + B
NAB
n2i
V
BC WB WB
0
np (WB ) = e VT
− 1 =⇒ Ae Ln + Be− Ln
NAB
Ora, possiamo ricavare dalla prima delle due condizioni:
B = n0p (0) − A
Sostituendo nella seconda, otteniamo che:
WB WB
n0p (WB ) = Ae Ln + (n0p (0) − A)e− Ln
Da ciò, possiamo ricavare un’espressione del coefficiente A:
WB
n0p (WB ) − n0p (0)e− Ln
A= WB WB
e Ln − e− Ln
102
Sostituiamo ora l’espressione di A nella prima equazione, trovando il
valore di B:
WB WB WB
n0p (0)e Ln − n0p (0)e− Ln − n0p (WB ) + n0p (0)e− Ln
B= n0p (0) −A= WB WB =
−
e Ln −e Ln
WB
n0p (0)e Ln − n0p (WB )
=
2 sinh W
Ln
B
Ora, considerando la soluzione generale dell’equazione differenziale, inse-

riamo le condizioni al contorno ricavate mediante i nostri artifici, e ricaviamo:
x −WB +x WB −x −x
n0p (WB )e Ln − n0p (0)e Ln + n0p (0)e Ln − n0p (WB )e Ln
n0p (x) =
2 sinh W
Ln
B
sinh WLBn−x sinh −x

Ln
n0p (x) = n0p (0) + n0p (WB )
sinh WB
Ln
sinh WB
Ln
Derivando l’espressione dei portatori cosı̀ ricavata, possiamo studiare i
flussi delle correnti nella base. Si noti che le correnti che raggiungono il
collettore, lo faranno mediante un meccanismo diffusivo, come già detto,
regolato dalle espressioni appena ricavate.
4.3 Modello statico del transistore bipolare

Abbiamo già detto che il transistore bipolare è un dispositivo dominato dalle
correnti di diffusione di minoritari in base; consideriamo d’ora in avanti una
convenzione semplificata: dal momento che non abbiamo a che fare con altro
che regioni di svuotamento, consideriamo xdE = xE , 0, e il punto xC come
punto di fine della regione di svuotamento nel collettore.
Le equazioni dei portatori nelle tre regioni, come abbiamo già ricavato,
saranno: nell’emettitore E:
2
V x+x
0 0
x+xE
n i BE E
pn,E (x) = pn (−xE )e Lp = e VT − 1 e Lp
NDE
Nella base B:
sinh WLBn−x sinh Lxn

n0p,B (x) = n0p (0) WB
+ n0p (WB ) WB
Ln Ln
103
Nel collettore C:
n2
V x−x
BC − C
p0n,C (x) = i e VT
− 1 e Lp
NDC
Partendo dalle precedenti espressioni, interessandoci nella fatispecie di
quelle concernenti la base B e l’emettitore E, ricaviamo le correnti Ip,dif f (x)
e In,dif f (x), che verranno tra poco riutilizzate in un’applicazione pratica;
ricordando le relazioni di Einstein per il calcolo delle correnti a partire dai
portatori:
∂n
In = qADn
∂x
∂p
Ip = −qADp
∂x
Ricaviamo:
−qAE n2i cosh WLBn−x qAE n2i cosh Lxn

V V
BE BC
InB,dif f (x) = e VT − 1 + e VT − 1
NAB Ln sinh WB
Ln
NDE Ln sinh WLn
B
x+xE
−qAE n2i e Lp
V
BE
IpE,dif f (x) = e VT − 1
Lp NDC
Per quanto riguarda invece la corrente di lacune nel collettore, C possiamo
dire che:
x−xC
qAE n2i e Lp
V
BC
IpC,dif f (x) = e VT − 1
NDC Lp
Queste espressioni delle correnti, al variare della posizione spaziale x, ci
torneranno presto utili: dal punto di vista dei soli emettitore o collettore,
il transistore non avrebbe infatti molte differenze da una comunissima giun-
zione; poichè la base è già un caso diverso, in quanto è un lato corto, e si
comporta in modo molto anomalo per una giunzione p-n. Tenendo conto
di questi fatti, vogliamo determinare un modello statico per il transistore
bipolare; sarà più complesso rispetto al modello della giunzione, in quanto
questa volta si ha a che fare con tre correnti (di cui possiamo semplicemente
studiarne due, in quanto comunque la terza è data dalla somma delle altre
due, cambiata di segno):

IC (VBE ; VBC )
IE (VBE ; VBC )
104
Dal momento che, come detto:
IB = −IC − IE
Ricavando le due caratteristiche indicate alla parentesi graffa, il modello
statico del transistore bipolare sarà di fatto completo. Come nel caso della
giunzione p-n, possiamo considerare, al posto delle correnti in zone lontane
dalla giunzione, le correnti valutate ai punti di inizio della regione di svuo-
tamento: sappiamo infatti che, lontano dalla giunzione, la corrente sarà del
tutto equivalente, in quanto sarà la corrente in grado di ricombinare i por-
tatori giunti dalle regioni di svuotamento, e quindi esattamente le correnti
valutate nei punti di inizio della regione di svuotamento, punti in cui non so-
no di fatto ancora iniziati fenomeni di ricombinazione. Per quanto riguarda
la caratteristica IE :
IE = Ip,dif f (−xE ) + In,dif f (0)

Studiando la caratteristica statica della giunzione p-n, avevamo fatto lo
stesso ragionamento: usando le espressioni delle correnti appena ricavate
come derivazione da quelle dei portatori, otterremo:
∂p0n (x) ∂n0p (x)

IE = AE (−q)Dp + AE (+q)Dn =
∂x xE ∂x 0
−qAE Dp n2i 2 cosh W B

−x +x V
VBE E E −qAE Dn n i BE
Ln
= e VT
−1 e VT
+ e VT
−1 +
NDE Lp NAB Ln sinh W
L
B
n
−qAE Dn n2i
V
BC cosh(0)
+ e VT − 1
NAB Ln sinh W
L
B
n
Ordinando l’espressione:
−qAE Dp n2i −qAE Dn n2i

V
WB BE
IE = + cotgh e VT
−1 +
NDE Lp NAB Ln Ln
qAE Dn n2i
V
BC
+ e VT
−1
NAB Ln sinh W B
Ln
In maniera del tutto analoga, si può effettuare lo studio di IC : possiamo

infatti vedere facilmente che:
IC = In,dif f (WB ) + Ip,dif f (xC )
105
Riprendendo anche ora le espressioni delle correnti appena ricavate, pos-
siamo ottenere che:
∂n0p (x) 0

∂p n (x)
IC = AE (+q)Dn + AE (−q)Dp =
∂x WB ∂x xC
!
n2i cosh WBL−W B

1 VBE
= qAE Dn − n
e VT − 1 +
NAB sinh W
Ln
B L n
W
n2 cosh LnB 1 qAE Dp n2i
VBC
V
BC
+qAE Dn i e VT
−1 + e VT
−1
NAB sinh W
L
B L
n NDE Lp
n
Ordinando:
qAE Dn n2i
V
BE
IC = e VT − 1 +
NAB sinh W B
Ln n
L
−qAE Dn n2i WB −qAE Dp n2i
V
BC
+ cotgh + e VT
−1
NAB Ln Ln NDC Lp
Confrontando le due espressioni, vediamo che esse, ossia il modello statico
del transistore bipolare, presentano tra loro alcune similitudini.
4.3.1 Equazioni di Ebers-Moll

Le equazioni appena ricavate del modello statico di un transistore bipolare
sono le cosiddette equazioni di Ebers-Moll, in onore agli scopritori del modello
statico del dispositivo in trattazione. Si è soliti esprimere queste equazioni
nella seguente forma:
V V
BE BC
IE = a1,1 e VT
− 1 + a1,2 e VT
−1
VBE
V
BC
IC = a2,1 e VT
− 1 + a2,2 e VT
−1
I quattro coefficienti in questione sono:
−qAE Dp n2i qAE Dn n2i WB

a1,1 = − cotgh
NDE Lp NAB Ln Ln
qAE Dn n2i
a1,2 =
NAB Ln sinh W B
Ln
106
qAE Dn n2i
a2,1 =
NAB Ln sinh W B
Ln
qAE Dn n2i WB qAE Dp n2i

a2,2 = cotgh −
NAB Ln Ln NDC Lp
Si noti che questo modello risulti essere corretto a meno di una variazione
di WB (che abbiamo ipotizzato coincidente con la distanza tra le due zone
di svuotamento nella base); questo modello trascura dunque l’effetto delle
tensioni sulla lunghezza del lato di base B, ossia sull’appena citato WB . Si
noti però un’altra cosa: abbiamo iniziato a sviluppare questo modello consi-
derando esclusivamente il caso di VBE > 0, VBC < 0; abbiamo però ricavato
equazioni che risultano essere valide indipendentemente dalle due tensioni (a
meno di particolari fenomeni quali il breakdown delle giunzioni, o cose di
questo tipo), esattamente come nello studio del diodo a giunzione: avevamo
infatti al tempo considerato la giunzione in stato di polarizzazione diretta, ma
ottenuto equazioni valide anche per la polarizzazione inversa. Siamo dunque
in grado di studiare, mediante le equazioni di Ebers-Moll, qualsiasi coppia
di tensione (VBE ; VBC ). Consideriamo dunque le quattro (che poi vedremo
diventare cinque) zone di tensione:
• VBE > 0, VBC < 0: è la zona che abbiamo sinora studiato: il tran-
sistore provoca fenomeni di guadagno della corrente, regolati dai vari
coefficienti γF , αT , αF , βF , dove la F significa Forward: italianizzando,
possiamo tradurre con Diretta. La regione, che è la regione di fun-
zionamento più tipica del transistore bipolare, è detta regione attiva
diretta.
• VBE < 0, VBC > 0: di fatto, il collettore diventa l’emettitore, e l’emet-

titore diventa il collettore. Fisicamente, il significato, il funzionamento
del dispositivo sarà del tutto uguale a prima, a meno del seguente fat-
to: il transistore è progettato sia geometricamente che sotto il punto
di vista dell’iniezione di impurità drogante in modo da funzionare con
l’emettitore e il collettore in grado di svolgere i propri relativi compi-
ti nativi, quindi il funzionamento vi sarà, ma il guadagno in corrente
nella zona, βR (R da Reverse, italianizzando Inversa), sarà una decina
di volte inferiore rispetto al guadagno in zona diretta. Questa zona è
detta regione attiva inversa.
• VBE < 0, VBC < 0: nella base arriverà dall’emettitore un contributo

di corrente infinitesimo, ossia la corrente di polarizzazione inversa. Dal
107
momento che anche la tensione che modula le correnti è negativa, dun-
que, il dispositivo sarà di fatto su OFF: questa zona è detta regione di
interdizione, e nel transistore non passa corrente.
• VBE > 0, VBC > 0: è la zona più complicata da studiare, delle quattro
(anche se vedremo che essa si sdoppierà): essa è detta regione di sa-
turazione: entrambe le giunzioni sono polarizzate direttamente, ma in
questo caso esistono due ulteriori sottopossibilità:
– VBE > VBC : il diagramma a bande ricorda quello della regione

attiva diretta, ma senza avere un guadagno in corrente: poichè la
tensione tra base ed emettitore è superiore a quella tra base e col-
lettore, l’iniezione in base dalla parte dell’emettitore partirà da un
punto a potenziale più elevato rispetto a quella da base a colletto-
re, quindi di fatto avremo una corrente, nella nostra convenzione,
da sinistra verso destra.
– VBE < VBC : si ha una situazione duale a quella appena descritta:
il potenziale tra base e collettore è maggiore a quello tra base ed
emettitore, dunque si può dire che la corrente vada da destra verso
sinistra, e si ha comunque un guadagno pressochè nullo (caso duale
a prima, in tutto e per tutto, come già accennato)
Esiste un guadagno in corrente minimo, però non ha senso definirlo,

sia per il fatto che esso è veramente trascurabile (e quindi si può ap-
prossimare ad un regime di saturazione), non presentando un effetto
transistor, sia per motivi che analizzeremo in seguito.
In regione attiva (diretta o inversa che sia) il transistore bipolare si com-
porta come un amplificatore di corrente: il guadagno, definibile e modificabile
mediante la tensione di modulazione, è costante, e permette di utilizzare l’ef-
fetto transistor; in zona di interdizione o di saturazione il transistore si usava,
un tempo, come interruttore OFF/ON (una sorta di diodo); la prima elet-
tronica digitale si basava sul transistore bipolare, sfruttando anche queste
zone di interdizione e saturazione; ora la tecnologia MOS ha soppiantato la
tecnologia BJT, a causa dei progressi tecnologici fatti in tal senso.
4.4 Modello circuitale statico del transistore

bipolare
Abbiamo parlato delle equazioni di Ebers-Moll, rappresentanti il modello
statico del transistore bipolare. Cerchiamo ora di estrarre da esse, mediante
108
semplificazioni in ciascuna zona, un modello circuitale del dispositivo elettro-
nico, partendo dall’idea che esso è interpretabile come un nodo generalizzato
in cui convergono tre lati: Base, Emettitore, Collettore. Abbiamo quattro
regioni sostanzialmente da distinguere: occupiamoci di ciascuna di esse.
• Regione attiva diretta: abbiamo un nodo generalizzato con B, C, ed E.

Sappiamo che, a partire dalla corrente di base IB , si ha un guadagno
in corrente. Circuitalmente, l’elettrotecnica ci insegna che un buon
modello per rappresentare un guadagno di questo genere è il generatore
pilotato di corrente: considerando il guadagno βF , possiamo dire che tra
collettore C ed emettitore E vi sarà una corrente IC = βF IB , esprimibile
come un generatore pilotato dal pilota IB , corrente che dalla base B
va verso l’emettitore E. Dall’altra parte, si può considerare la totale
analogia con una comune giunzione p-n polarizzata direttamente, e
quindi con un diodo; ricordiamo che, in questo modello, si introduceva
un generatore di tensione Vγ , dove in questo caso la nostra tensione di
attivazione del transistore coincide con VBE . Questo modello presenta
alcune debolezze, che però possiamo per ora tralasciare.
• Regione attiva inversa: situazione del tutto uguale alla precedente, con-
siderando semplicemente le seguenti variazioni: al posto dell’emettitore
E vi sarà il collettore C, al posto del collettore C vi sarà l’emettitore
E, il guadagno in corrente sarà βR , ed in questo caso la giunzione as-
similabile come diodo polarizzato direttamente sarà quella tra base e
collettore, dunque il nostro generatore Vγ sarà la tensione di attivazione
VBC .
• Regione di interdizione: non essendovi contatto tra le tre regioni, pos-

siamo immaginare i tre nodi separati tra loro a due a due.
• Regione di saturazione: abbiamo due giunzioni polarizzate direttamen-

te, e quindi di fatto avremo due diodi in stato ON, con le relative Vγ .
Una sarà la tensione tra base ed emettitore, VBE , l’altra tra emettitore
e collettore, VCE = VBE − VBC .
Possiamo dunque dire, per quanto scontato sia, che i modelli circuitali
valgono se e solo se ci troviamo nelle opportune condizioni di tensione: si
tratta di quattro casi singoli, che però devono essere considerati nel punto in
cui sono stati definiti.
109
4.4.1 Andamento della caratteristica statica
Abbiamo terminato la descrizione del funzionamento del transistore bipola-
re nelle quattro regioni, ci dedichiamo ora a studiarne l’andamento grafico,
facendo alcune osservazioni che ci mancano.
Avendo diverse opzioni da rappresentare, ne scegliamo una fondamentale:
l’uscita di emettitore comune, IC (VCE ), dove VCE = VBE − VBC . Algebrica-
mente, possiamo fare un’osservazione: sappiamo che VBC < 0, e VBE ∼ Vγ ;
consideriamo inoltre un parametro variabile, IB , ossia la corrente di base, che
viene amplificata dal guadagno in corrente βF . Si otterrà di fatto una serie
di curve parametriche, in funzione della tensione VCE . Possiamo considerare
in base ad osservazioni algebriche questo fatto: la caratteristica statica avrà
due zone di interesse, ossia VCE < Vγ e VCE > Vγ : se infatti VCE > Vγ , poichè
sappiamo che il valore di VBE ∼ Vγ , allora di sicuro la tensione VBC sarà suffi-
cientemente negativa da poterci permettere di essere sicuri di trovarci in una
regione attiva diretta. Secondo il modello statico, derivante dalle equazioni
di Ebers-Moll, la caratteristica statica del transistore si presenta come una
retta parallela all’asse delle x (dunque una funzione costante), all’aumentare
di VCE , poichè il guadagno in corrente resta costante, al di sopra della tensio-
ne VBE . Per valori di VCE inferiori alla tensione Vγ , si ha invece una funzione
decrescente a 0, e si noti il seguente dettaglio: al variare del parametro IB ,
le curve, da un certo punto di funzionamento VCE in indietro verso l’origine
degli assi, tendono asintoticamente allo stesso andamento: da tutte parallele
tra loro, convergono tutte a zero, asintoticamente, allo stesso modo:
Questo andamento del grafico ci potrebbe far pensare al seguente fatto:
se tutte le curve parametriche di IB al variare di VCE , parallele tra loro,
sono tutte costanti dal punto Vγ in poi, potremmo dire che mediante un
transistore bipolare si può realizzare un generatore di corrente pilotato ideale:
poichè il guadagno secondo il modello di Ebers-Moll è una costante, poichè
la caratteristica è una funzione costante, potremmo pensare di aver ottenuto
110
un componente ideale.
Osservando il grafico a sinistra del valore Vγ , osserviamo che questo an-
damento asintotico di tutte le curve parametriche al variare di IB , tendono
asintoticamente allo stesso modo ad andare a 0. Possiamo vedere algebrica-
mente che, se VCE < Vγ , allora significa che se VBE ∼ Vγ , dunque VBC > 0,
e ci troviamo in una zona di saturazione. L’andamento asintotico di tutte le
curve parametriche ci fa intuire il fatto che non ha senso definire un guadagno
in corrente in zona di saturazione non solo per il fatto che sarebbe minimo,
ma anche perchè non è possibile identificare univocamente la curva presente
in un determinato punto della suddetta zona: lo stesso livello di corrente,
può equivalere a diversi valori di IB , poichè se le curve parametriche passano
tutte per lo stesso punto di corrente alla stessa tensione, allora significa che
il guadagno non è univoco, come effettivamente lo è in regione attiva diretta,
dove le curve non si intersecano (in quanto tutte parallele tra loro).
4.4.2 Effetto Early

Le vere cattive notizie arrivano però su di un altro fronte: tutto ciò che ab-
biamo finora descritto, è l’andamento della corrente IC previsto dal modello
statico, e, come abbiamo detto, sembrerebbe in grado di simulare l’anda-
mento di un generatore pilotato ideale: al variare della tensione, corrente
costante. Qua vengono però evidenziati i veri limiti del modello statico di
Ebers-Moll del transitore bipolare: se analizzassimo in laboratorio la caratte-
ristica statica del transistore, osserveremmo in realtà il fatto che la pendenza
delle caratteristiche in regione attiva diretta è non nulla, ma positiva di poco:
Questo dipende dal fatto che l’effetto statico si fonda sulla famosa ipotesi
di considerare l’ampiezza della regione di svuotamento in base non variabile,
ma assimilabile con la lunghezza della base WB : la tensione VCE però è in
grado di modulare l’ampiezza di svuotamento (poichè essa dipende da VBC ,
quindi di fatto, variando la regione di svuotamento, gli effetti ricombinativi
111
diventano sempre meno trascurabili, e quindi di fatto si vedrà una pendenza
positiva. Il modello come generatore pilotato è dunque fallimentare, ma nella
cattiva notizia c’è una buona notizia: man mano che aumenta la tensione, il
transistore continua a guadagnare sempre più corrente, potremmo dire che
funziona sempre meglio, e quindi pur non avendo l’idealità, siamo riusciti a
costruire con questo dispositivo un buon amplificatore di corrente.
L’effetto che tiene conto di questa variazione delle regioni di svuotamen-
to è detto Effetto Early: esso prevede l’aumentare di facilità dei portatori
ad attraversare la barriera di potenziale, grazie all’aumento della regione di
svuotamento provocato dall’aumento della tensione VCE . Si noti che anche
per il transistore bipolare esiste un fenomeno di breakdown: esso è legato al
fatto che, alzando molto la tensione VCE (o, dualmente, abbassandola mol-
to), è possibile far toccare, sovrapporre le due regioni di svuotamento, ed in
questo modo di fatto eliminare del tutto fattori ricombinativi, far coincidere
i lati, e perdere il controllo del dispositivo, la cui caratteristica schizzerebbe
aumentando improvvisamente di pendenza.
Analizziamo ora un esercizio pratico, riguardante il transistore bipola-
re, nel quale faremo alcuni approfondimenti e tratteremo alcuni aspetti non
ancora analizzati.

Cominciamo ancora prima di fornire i dati dell’esercizio con una piccola
divagazione: dato un transistore bipolare, vale sempre la diseguaglianza a
3:
NDE > NAB > NDC

Questo perchè:
• NDE > NAB : perchè il coefficiente αF tenda a 1, un buon drogaggio
permette di migliorare l’efficienza di emettitore del transistore;
112
• NAB > NDC : aumentando il drogaggio in base rispetto a quello in
collettore, si fa sı̀ che l’ampiezza della regione di svuotamento in base
sia più difficile da incrementare, in questo modo si riesce ad arginare
l’effetto Early ed anche (e soprattutto) il breakdown.
Considerati dunque, come dati del transistore bipolare: NDE = 1018 ;

NAB = 5 · 1016 ; NDC = 1016 ; WB = 0, 2µm; WE = 0, 5µm; AE = 100µm,
τp = 100ns, µp (NDE ) = 150, τn = 1µs, µn (NAB ) = 1200
1. Si determini il diagramma a bande all’equilibrio
2. Supponendo che l’ampiezza della base sia quella all’equilibrio, si valu-

tino i parametri γF , αT , αF , βF
3. Supponendo una tensione di polarizzazione VBE = 0, 6 V tra base ed

emettitore, e VCE = 1 V tra emettitore e collettore, si valuti il modello
di piccolo segnale del transistore bipolare.
4.5.1 Risoluzione
Si determini il diagramma a bande all’equilibrio
In questo esercizio affronteremo diversi modi per calcolare alcuni parametri
del transistore, utilizzando idee di base completamente diverse. Incomincia-
mo con il calcolare, in modo classico, i valori di estrazione, in modo da poter
stimare le barriere di potenziale, all’equilibrio.
Poichè l’emettitore del transistore bipolare è un semiconduttore estrema-
mente drogato, quasi degenere, possiamo assumere alcune ipotesi semplifi-
cative: dal momento che in esso il livello di Fermi tende a coincidere con il
livello energetico EC , possiamo dire che il lavoro di estrazione coincida con
l’affinità elettronica del silicio, nell’emettitore E:
qΦSn+ E ' qχ = 4, 05eV

Nella base B:
Eg NAB
qΦSp B ' qχ + + kT ln ' 5eV
2 ni
Nel collettore C:
Eg NDC
qΦSn C ' qχ + − kT ln ' 4, 26eV
2 ni
113
Che senso cercare in questo ambito le quotature del diagramma a ban-
de? Aldilà del mero esercizio, possiamo renderci conto di un fatto importante:
all’equilibrio le regioni di svuotamento permettono una zona neutra sufficien-
temente estesa; e nella base? Analizziamole: considerando che l’emettitore
è estremamente drogato, nel calcolo si potrà considerare Neq ' NAB , per le
proprietà della somma armonica di due termini: un termine molto grande e
uno molto piccolo, sommati armonicamente, daran vita ad un termine molto
vicino a quello piccolo.
s
2S Φi,BE
xdEB ' xpEB = = 0, 15µm
qNAB
s
2S Φi,BC
xdBC = = 0, 34µm
qNeq
Poichè della regione di svuotamento tra base ed emettitore sappiamo
che essa è decisamente più ampia nella base, ma non abbiamo informazio-
ni aggiuntive su quella di base-collettore, consideriamo la proporzione dei
drogaggi, con la proporzione delle ampiezze delle regioni di svuotamento: le
ampiezze delle regioni di svuotamento sono inversamente proporzionali alla
concentrazione di drogaggio:
xnBC NAB 1
= =⇒ xpBC = xdBC = 0, 057µm
xpBC NBC 6
Si noti che se sommiamo le due ampiezze di svuotamento, otteniamo:
0, 15 + 0, 057 = 0, 207µm
Dal momento che WB = 0, 2µm, già all’equilibrio abbiamo una condizio-
ne di breakdown: le regioni di svuotamento si toccano, in questo modo il
transistore ha una condizione di rottura e non vi è sostanzialmente base.
Scegliamo di modificare il testo del problema, considerando WB = 0, 4µm:
in questo modo, pur avendo allungato il lato della base, e quindi peggiorato
il fattore di efficienza, avremo un lato di base neutro pari a 400 − 207 nm.
Si valutino i parametri γF , αT , αF , βF
Consideriamo dopo queste prime osservazioni e decisioni, il calcolo dei para-
metri richiesti dal problema. Partiamo dall’efficienza di emettitore, γF :
InE Indif f |0
γF = =
InE + IpB Indif f |0 + IpB |−xE
114
Studiamo dunque queste espressioni, ricavate in precedenza:
qAE Dp n2i
V
BE
Ipdif f (−xE ) = − e VT
−1
NDE Lp
Possiamo semplificare la nostra espressione, osservando il fatto che, dal
VBE
momento che ci troviamo in polarizzazione diretta, VBE > 0, e VT
1;
sappiamo che la lunghezza di diffusione Lp è cosı̀ definita:
p
Lp = Dp τp = 6µm
Osserviamo che anche il lato di emettitore è corto: WE Lp .
Ciò può essere un bene in un transistore bipolare, in quanto lato corto
implica riduzione della resistenza di accesso al transistore, e quindi siamo
anche in grado di dire che WE ∼ Lp :
−qAE Dp n2i VVBE

Ipdif f |−xE = e T
NDE WE
Semplifichiamo a questo punto anche l’espressione della corrente di elet-
troni in 0:
−qAE Dn n2i qAE Dn n2i

V V
BE WB BC
Indif f |0 = e VT
− 1 cotgh + e VT
−1
NAB Ln Ln NAB Ln sinh W B
Ln
Il secondo termine è trascurabile rispetto al primo; inoltre, nel primo

termine, oltre a semplificare in precedenza il −1, siamo in grado di fare dei
ragionamenti simili al precedente, sul termine WB : poichè:
p
Ln = Dn τn = 56µm WB
Possiamo dire di nuovo di trovarci in ipotesi di lato corto (come è ovvio
che sia la base), e dunque possiamo sviluppare il coseno iperbolico come 1,
ed il seno iperbolico come il proprio argomento:
WB WB WB
' 1; sinh
cosh '
Ln Ln Ln
Possiamo dunque dire che:
qAE Dn n2i VVBE qAE Dn n2i VVBE

Indif f (0) ' − e T = − e T
NAB Ln W
Ln
B NAB WB
Possiamo dunque ora riprendere la definizione di efficienza di emettitore,
e, sostituendo, si ottiene che:
115
VBE
−qAE Dp n2i
NDE WE
e VT
γF = VBE VBE
−qAE Dp n2i −qAE Dn n2i
NDE WE
e VT
+ NAB WB
e VT
1
γF = NAB Dp WB
1+ NDE Dn WE
Possiamo calcolare che γF = 0, 9976.

Abbiamo calcolato mediante questa nuova formula l’efficienza di emetti-
tore, semplificando notevolmente i nostri conti. Passiamo ora al calcolo di
un’espressione in grado di fornire il valore del parametro αT , ossia del fattore
di trasporto; sappiamo che:
Indif f (0) − IRB Indif f (WB )

αT = =
Indif f (0) Indif f (0)
Abbiamo in precedenza effettuato alcune approssimazioni nel termine di
corrente di diffusione di elettroni in base, nel punto x = 0. Queste approssi-
mazioni sono da rivedere, per questo motivo: vediamo che in questo ambito,
è coinvolta anche la grandezza In,dif f (WB ), che coinvolge un cosh(0), che vale
esattamente 1, tende e non solo a 1, come precedentemente. Di fatto, non sarà
più possibile approssimare il coseno iperbolico a 1, considerando WB Ln ,
in quanto otterremo un’approssimazione troppo grossolana; questa volta un
coseno iperbolico tenderà naturalmente a 1, l’altro sarà sviluppato in serie
di Taylor, ma troncato al secondo ordine; consideriamo dunque le espressioni
in gioco:
−qAE Dn n2i −qAE Dn n2i cosh W B

VBE WB Ln
VBE
Indif f (0) = e VT
− 1 cotgh ' e VT
NAB Ln Ln NAB Ln sinh W B
Ln
Abbiamo dunque considerato come unica approssimazione, per ora, l’ef-

fetto dell’esponenziale che prevale enormemente sul termine −1 in parentesi;
consideriamo ora l’espressione della corrente di diffusione di elettroni in base,
nel punto WB : in questo ambito, come già anticipato, il coseno iperbolico
avrà argomento algebricamente 0, e non solo tendente a 0:
−qAE Dn n2i cosh(0) −qAE Dn n2i

VBE
VBE
Indif f (WB ) = e VT
−1 ' e VT
NAB sinh W B
L
Ln n
NAB sinh WB
L
Ln n
Consideriamo ora il rapporto tra le due funzioni, ai fini di calcolare il

parametro αT :
116
VBE
−qAE Dn n2i
WB e VT
NAB sinh Ln
Ln 1
αT = =
cosh W
W VBE
−qAE Dn n2i cosh L B B
W
n
e VT Ln
NAB Ln sinh L B
n
Solo ora sfruttiamo il fatto che ci troviamo in semiconduttore corto, consi-

derando il fatto che WB Ln , ma, come anticipato, lo sviluppo considerato
sarà quello troncato non al primo, ma al secondo ordine:
1 WB2
αT = 2 =1− = 0, 999994
1+ 1 WB 2L2n
2 L2n
Abbiamo ottenuto, anche per il fattore di trasporto αT , un’espressione

operativa molto più utile (in caso di un transistore bipolare come quello
proposto dall’esercizio, ma che comunque rappresenta il transistore ottimale:
emettitore corto e molto drogato, base corta), e facile da utilizzare, rispetto
alla definizione. Possiamo ora, partendo da ciò, calcolare il guadagno in
corrente del transistore:
αF = γF αT ' 0, 997
αF
βF = ' 413
1 − αF
Permettiamoci ora una divagazione, ragionando in modo diverso sul coef-
ficiente di trasporto, αT : possiamo infatti importare anche nel transisto-
re bipolare il modello a controllo di carica precedentemente studiato nella
giunzione p-n. Ciò risulta molto interessante, soprattutto poichè è possibile
linearizzare la concentrazione degli elettroni in base, n0p (x):
WB −x
n2 VBE n2 VBE

Ln x
n0p (x) ' i e VT WB
= i e VT 1−
NAB Ln
NAB WB
Abbiamo dunque ridotto ad una semplice retta la distribuzione di carica,
sfruttando l’ipotesi di lato corto, la distribuzione dei portatori minoritari in
base. Potremmo chiederci come mai non abbiamo effettuato in precedenza
una semplificazione di questo tipo: linearizzare una funzione, ossia ridurla
a retta, implica ridurre la sua derivata ad una costante, o addirittura a 0,
perdendo informazioni su di essa. Il modello a controllo di carica però non
richiede la derivazione delle distribuzioni di portatori, bensı̀ l’integrazione, al
fine di ottenere la carica totale in eccesso nel semiconduttore. Poichè siamo
in un caso di retta decrescente, la totale corrente di ricombinazione sarà
117
assimilabile al calcolo dell’area di un triangolo: considerando la lunghezza
del lato di base come base, e la concentrazione di carica come altezza:
n2i VVBE WB
Q0n= e T (−qAE )
NAB 2
Da ciò, sappiamo semplicemente che la corrente di ricombinazione in base
vale:
Q0n n2 VBE −qAE WB

IRB = = i e VT
τn NAB 2τn
Da ciò, è possibile calcolare il coefficiente di trasporto come:
VBE
−qAE WB n2i
In,dif f (0) − IRB IRB 2NAB τn
e VT
WB2
αT = =1− =1− VBE =1−
In,dif f (0) In,dif f (0) −qAE Dn n2i
e VT 2Ln
2NAB WB
Abbiamo ottenuto lo stesso risultato espresso precedentemente, mediante

un processo completamente diverso. In realtà, esiste una via ulteriore, e
ancora più comoda: partendo dalle equazioni di Ebers-Moll, si può vedere
che:
V V
BE BC
IE = a1,1 e VT
− 1 + a1,2 e VT
−1
VBE
V
BC
IC = a2,1 e VT
− 1 + a2,2 e VT
−1
Poichè ci troviamo in regione attiva diretta, VBC < 0, possiamo dire che
il secondo termine sia in questo ambito del tutto trascurabile, per entrambe
le equazioni:
V
BE
IE ' a1,1 e VT − 1
V
BE
IC ' a2,1 e VT
−1
Da ciò, si può semplicemente ricavare che:

a1,1 a1,1
IE ' IC =⇒ αF = −
a2,1 a2,1
Possiamo terminare questa divagazione, ed essere soddisfatti per tutte le
tecniche finora acquisite per il calcolo dei parametri del transistore bipolare:
abbiamo visto che, mediante ipotesi e tecniche completamente diverse, si
arriva a ottenere risultati assolutamente analoghi.
118
Si valuti il modello di piccolo segnale del transistore bipolare
Parliamo ora del terzo punto del problema, ossia lo studio di un modello di
piccolo segnale del transistore bipolare. Come dati abbiamo che VBE = 0, 6
V, che VCE = 1 V, ma poichè VCE = VBE − VBC , sappiamo che VBC = −0, 4
V. Usiamo quello che viene detto il modello a π semplificato, utile in quanto
tornerà utile in seguito nello studio di sistemi MOS. Nella regione attiva
diretta, IE dipende molto da VBE , mentre IC è rappresentabile come:
IC = −αF IE
Il modello di piccolo segnale si basa, come abbiamo già visto preceden-
temente, su piccolissime variazioni di tensione; per analzizare la variazione
di corrente IC , varieremo la tensione che la modula, indirettamente: VBE (si
discuterà meglio sul significato della parola ’indirettamente’).
Abbiamo, nel transistore bipolare, un dispositivo che dal mondo esterno si
vede come un diodo, ed un collettore che di fatto non fa altro che raccogliere
la corrente. Consideriamo, a partire dalle equazioni di Ebers-Moll, che, per
la stessa ipotesi considerata precedentemente,
IC (VBE ; VBC ) ' IC (VBE )
VBE
IC = a2,1 e VT
Si noti che, poichè adottiamo il modello statico introdotto da Ebers-Moll,

consideriamo trascurato l’effetto Early. Possiamo al solito trascurare i termini
dipendenti dalla tensione tra base e collettore, VBC , poichè siamo ijn regione
attiva diretta. Linearizziamo dunque il nostro modello, considerando una
variazione infinitesima della corrente IC rispetto alla tensione di controllo,
VBE :

∂IC a2,1 VBEop
= e VT
∂VBE VBEop VT
Definiamo dunque la corrente del punto di lavoro, ICop , come:

∂IC
ICop ,
∂VBE VBEop
Essendo noi in un modello di piccolo segnale, modificando infinitesi-
mamente la tensione VBEop con un piccolo segnale vbe , possiamo vedere
che:
119
ICop
= gm
VT
Dove questa gm rappresenta una conduttanza analoga a quella preceden-
temente studiata nel diodo a giunzione. Si noti il seguente fatto: togliendo
gli offset verticali ed orizzontali ICop e VBEop , si vedrebbe che gm rappresenta
una retta, e dunque una resistenza, o almeno potremmo pensarlo. In realtà,
VBE come già detto modula solo indirettamente il valore di gm , poichè è la
tensione di controllo, ma è la tensione sulla giunzione tra base e collettore,
mentre gm si trova tra base ed emettitore; si parla dunque di gm come di una
transconduttanza, ossia, come di un parametro che, moltiplicato per il pilota
vbe , permette di ottenere IC , anche se non vi è una relazione diretta.
Ci manca un ulteriore parametro: ciò che collega la base B all’emettitore
E. Potremmo ripetere le operazioni precedenti, considerando IB :

IC 1 ∂IC gm
IB = =⇒ =
βF βF ∂VBE VBEop
βF
Possiamo dunque definire la resistenza del nostro modello π, rπ , come:
βF
rπ =
gm
Il modello di piccolo segnale del transistore bipolare sarà semplicemente
rappresentato da un nodo generalizzato, in cui tra B ed E sta la rπ , tra E e
C il generatore pilotato di valore IC = gm vbe , dove vbe , ossia il piccolo segnale
del nostro modello, rappresenta la tensione sulla rπ .
Divaghiamo, accennando al modello di ampio segnale del transistore bi-
polare: consideriamo il fatto che ci troviamo semplicemente in una doppia
giunzione, e dunque dovremo considerare capacità di svuotamento e capacità
di diffusione per ognuna delle giunzioni. Dal momento che il punto di funzio-
namento del transistore interessante è la regione attiva diretta, e quindi in
cui VBE > 0, e VBC < 0, possiamo dire che un parametro sarà trascurabile:
CDIF (VBC ) ' 0 poichè ci troviamo in una zona di polarizzazione inversa della
giunzione base-collettore, e quindi possiamo trascurare.
Possiamo calcolare i parametri linearizzati, a partire dal modello di ampio
segnale, al fine di terminare del tutto il modello di piccolo segnale:
ICop VBEop
qAE Dn n2i qAE Dn n2i
gm = ; ICop = a2,1 e VT ; a2,1 = '
VT Ln NAB sinh W B
Ln
NAB WB
120
s s
βF qS NA qS Neq
rπ = ; CDEP (VBEop ) = ; CDEP,BC =
gm 2(Φi − VBEop ) 2(ΦBC − VBCop )
Possiamo infine linearizzare la carica totale, considerando come al solito

le ipotesi di lato corto. Poichè inoltre il lato dell’emettitore è estremamente
drogato (cosa già sfruttata nel calcolo di CDEP (VBEop ), possiamo dire che il
contributo di carica di diffusione in base sia trascurabile. Calcoliamo dunque
nella base B la carica totale come area del triangolo, per poi derivare rispetto
alla tensione e cosı̀ trovare la capacità di diffusione:
WB qn2 WB AE VVBE
Q0 = Q0p + Q0n ' Q0n = −qAE n0p (0) =− i e T
2 2NAB
Derivando:
∂Q0n qn2i WB AE VBE

CDIF = = e VT
∂VBE 2NAB VT
121
Capitolo 5
Sistemi MOS
L’acronimo MOS significa Metallo-Ossido-Semiconduttore (o meglio in ingle-

se Metal-Oxide-Semiconductor); per costruire dispositivi basati sulla tecno-
logia MOS, si usano:
• Come metalli: in principio Alluminio (Al), poi Silicio (Si) policristallino

molto drogato;
• Come ossido: biossido di silicio (SiO2 ), comunemente detto quarzo

(notoriamente isolante);
• Come semiconduttore: Silicio (Si-p o Si-n).
Per ora, fino a quando non si affermerà il contrario, si considererà una

struttura di alluminio, quarzo, e silicio drogato tipo p.
Siamo in grado di tracciare il diagramma a bande del dispositivo appena
unito, ancora fuori dall’equilibrio, considerando come facemmo in precedenza
il livello del vuoto E0 continuo, e tutti gli altri livelli discontinui.
Unendo i tre materiali, i livelli di Fermi dovrebbero tendere a parificarsi,
per poter ottenere una condizione di equilibrio. Il problema che fa variare
questa situazione rispetto a quelle precedentemente studiate, è la presenza
dell’ossido, che è un isolante, e dunque impedirà il passaggio di carica al suo
interno, a causa del suo enorme gap di energia (e non solo come vedremo tra
pochissimo). Poichè si raggiunga l’equilibrio si può ipotizzare, con le nostre
attuali conoscenze, che serva un tempo infinito. Supponendo che l’equilibrio
sia già stato raggiunto, il diagramma a bande sarà di questo tipo:
Il metallo a causa della propria natura non può subire modifiche o pieghe
dei livelli energetici; il semiconduttore, poichè ha lavoro di estrazione più
elevato, si svuota parzialmente, di lacune. Poichè del dielettrico sappiamo
122
che esso è in mezzo ai due, possiamo assimilare il sistema ad un condensato-
re, il cui campo è dunque costante ovunque, ed il potenziale varia in modo
intuitivamente lineare. Cosa si è originata dunque? Una struttura dota-
ta di barriere di potenziale all’interfaccia con l’ossido: conosciamo il lavoro
di estrazione del metallo, e del semiconduttore, e sappiamo che nell’ossido
qΦOX ' qχ, quindi possiamo dire che E0 − qχ = EC ; ma EC non è costante,
e anzi in prossimità delle interfacce con l’ossido presenta discontinuità, per
essere precisi di 3,3 eV (con il metallo), e di 3,25 eV (con il semicondutto-
re), come si può calcolare semplicemente mediante l’approssimazione appena
presentata del lavoro di estrazione dell’ossido con la sua affinità elettronica.
Una barriera di potenziale cosı̀ elevata non può essere saltata, e nei nostri casi
neanche attraversata per effetto tunnel, poichè i dispositivi che consideriamo
hanno strati di ossido il cui spessore TOX ' 100 amstrong.
5.1 Analisi Elettrostatica

Introduciamo un primo discorso sullo studio del sistema MOS; alcuni detta-
gli per ora trascurati, saranno comunque in seguito ripresi ed approfonditi.
Consideriamo nel sistema una convenzione che prevede l’asse x con l’origine
nell’interfaccia metallo-ossido, e con verso positivo da sinistra verso destra.
Dalle equazioni di Maxwell si può studiare che, in un qualsiasi sistema, il
prodotto della costante dielettrica e del campo elettrico nel medesimo pun-
to è una funzione continua (teorema dello spostamento dielettrico). L’ossido
sarà privo di cariche in principio, il semiconduttore p in questione avrà invece
una carica pari a ρ = −qNA xd0 .
Il metallo per definizione non potrà avere eccessi locali di carica, ma,
123
poichè deve essere rispettata la neutralità globale nel semiconduttore, si può
pensare che, in prossimità dell’interfaccia metallo-ossido, vi sia una δ di ca-
rica che permetta un impulso di carica pari a qNA xd0 , e cioè in grado di
neutralizzare la carica di svuotamento del semiconduttore. Poichè vale la
legge dello spostamento dielettrico, possiamo dire che:
εOX OX = εS (0)S

Poichè OX = 3, 9, e S = 11, 7, vi sarà una barriera, come già accenna-
to. Il campo presenterà una discontinuità nella posizione 0 dell’asse delle x,
affinchè lo spostamento dielettrico sia verificato; applicando l’equazione di
Poisson, integriamo rapidamente la carica di svuotamento, ottenendo:
S S qNA
εOX = εS (0) = xd0
OX OX S
124
Per il calcolo del potenziale, introduciamo un’ulteriore convenzione: con-
sideriamo la massa del sistema in +∞, e quindi:
Z
Φ(+∞) = 0; Φ = − εdx
Qualitativamente, il potenziale avrà un andamento quadratico dall’ini-

zio della zona di svuotamento all’interfaccia con l’ossido, per poi crescere
linearmente, e quindi stabilizzarsi nel metallo. Si definisce, nel metallo, il
potenziale ΦM S come il potenziale di contatto tra metallo e semicondutto-
re: questa definizione è priva di senso fisico in quanto non vi è un contatto,
impedito dall’ossido, ma tornerà estremamente utile come definizione.
Il potenziale tra silicio e metallo, sarà:
qΦM − qΦSp
ΦM S = ∼ 0, 9V
−q
Il potenziale di contatto ha due contributi: VS , ossia quello provocato
dalla zona di svuotamento del semiconduttore, e VOX , ossia quello provocato
dall’appena citato andamento lineare del potenziale nell’ossido. Per quotare
tutto il diagramma a bande, mancano ancora alcuni parametri: xd0 , VS , VOX .
Consideriamo una sorta di equazione alla maglia:
ΦM S = VOX + VS
Possiamo anche esprimere le due tensioni come funzioni di xd0 :
qNA 2
VS = x
2S d0
qNA
VOX = xd0 TOX
OX
Si noti che però possiamo identificare, come già detto, lo spazio compreso
tra metallo e semiconduttore come un condensatore, e dunque identificare
nell’ossido una capacità, ossia con un condensatore a facce piane parallele:
εOX qNA xd0
COX = =⇒ VOX =
TOX COX
Sostituendo, l’equazione alla maglia diverrà:
qNA xd0 qNA 2 2S 2S

ΦM S = + xd0 =⇒ x2d0 + xd0 − ΦM S =0
COX 2S COX qNA
125
Risolvendo l’equazione in funzione dell’incognita xd0 , e considerando solo
la radice positiva:
s 2
OX S 2S ΦM S
xd0 = − + +
COX COX qNA
Tipicamente, la zona di svuotamento xd0 ha un valore intorno ai 0,1 µm;
nelle condizioni che stiamo studiando ora (equilibrio), ΦM S sarà per metà
dovuta a tensioni dell’ossido VOX , e per metà alla VS del semiconduttore.
Possiamo dire di aver quotato il diagramma a bande all’equilibrio di questa
prima struttura MOS.
Passiamo ora al considerare il semiconduttore MOS in situazioni fuori
equilibrio, e quindi consideriamo l’applicazione sul metallo M e sul semi-
conduttore S di una tensione esterna Va , considerando, in coerenza con la
precedente convenzione introdotta, il − sul verso del semiconduttore, e il +
verso il metallo.
Abbiamo sostanzialmente due possibilità da studiare, ossia Va < 0, e
Va > 0.
5.1.1 Polarizzazione di un sistema MOS con tensione

negativa
Se consideriamo una Va < 0, dalle nostre attuali conoscenze sappiamo esclusi-
vamente che i lati del semiconduttore saranno abbassati: con una tensione di
polarizzazione esterna negativa infatti i livelli energetici dei lati si alzeranno
rispetto al lato semiconduttivo, la curvatura del semiconduttore si ridurrà,
e con essa la regione di svuotamento. Per una determinata tensione, pre-
cisamente per Va = −ΦM S , la tensione esterna compenserà interamente il
potenziale di contatto, e cosı̀ il livello di barriera E0 sarà allo stesso livello
per i tre materiali, e quindi avremo interamente compensato il potenziale di
contatto ΦM S (come suggerisce anche la definizione della tensione). Questa
situazione si dice di Flat Band (ossia condizione di banda piatta); questa
è una condizione che non abbiamo ancora incontrato in precedenza, infatti
il fatto che l’ossido separi metallo e semiconduttore, impedisce il raggiun-
gimento della giunzione di non possibile raddrizzamento dei livelli, a causa
dell’irrefrenabile flusso di portatori di carica, che in questo caso vengono
bloccati dalla barriera di potenziale dell’ossido. Si è soliti dunque definire la
tensione di banda piatta, VF B , come:
VF B , −ΦM S
126
Abbassando ulteriormente la tensione, e quindi per Va < VF B , vi è il
sorpasso del livello E0 del metallo rispetto a quello del semiconduttore: ciò
indurrà una carica positiva nel semiconduttore drogato tipo p (come si po-
trebbe anche vedere dal diagramma a bande), dando vita ad una regione
duale a quella di svuotamento: la regione di accumulo. In questo caso, la
δ di carica del metallo diventerebbe negativa, poichè dovrebbe compensare
la carica di accumulo positiva nel semiconduttore. Non ci interessa ad ogni
modo lo studio del sistema MOS in condizioni di accumulo, quindi questo
cenno sulla condizione di Va < 0 non rappresenterà il punto di funzionamento
dei dispositivi basati su tecnologie di questo tipo, o almeno non di quelle da
noi trattate.
5.1.2 Inversione di popolazione

Considerando una Va > 0, rispetto alla condizione di equilibrio, aumenterà
la flessione del livello energetico del semiconduttore, che si innalzerà ulte-
riormente rispetto a quello del metallo e dell’ossido. Progressivamente con
l’aumentare di Va , aumenterà progressivamente l’ampiezza della regione di
svuotamento, ma vi saranno fenomeni che non siamo in grado di prevede-
re finora: lontani dal punto xd si ha la neutralità, la più totale normalità,
come in uno stato di equilibrio; avvicinandoci però all’ossido, notiamo che
la distanza EFi (x) − EF continua a diminuire, addirittura, a certe tensioni
Va , diventando negativa; mediante le equazioni di Shockley, si può di fatto
studiare (come faremo tra non molto) fenomeni interessanti legati a ciò. Sap-
piamo per ora che per x → +∞, np (+∞) → np0 , e che pp (+∞) → NA ; la
distanza varia, come già detto in precedenza per la giunzione, solo in regione
di svuotamento. Continuiamo a proporre definizioni e osservazioni, prima di
passare a calcoli rigorosi, definendo il parametro:
qΦp , EFi (+∞) − EF
127
Possiamo qualitativamente osservare che, se la Va flette a sufficienza le
bande al punto da far sı̀ che EFi (0) − EF = −qΦp , allora nel punto 0,
np (0) = pp (+∞). Sostituendo i dati nelle equazioni di Shockley si può
avere riscontro formale di questo fatto, straordinario: dato un drogaggio
NA = 1017 , in un semiconduttore in cui quindi gli elettroni sono minoritari,
si avrebbe una densità di elettroni pari a NA , in prossimità dell’interfaccia
con l’ossido. Questo meccanismo è detto inversione di popolazione, ed è in-
teressantissimo per creare dispositivi molto particolari: la densità enorme di
inversione np (x) si viene a formare in uno spazio ridottissimo, in una nicchia
provocata dall’estremo curvamento dei livelli energetici causato dalla tensio-
ne esterna Va : questa è di fatto una zona confinata stracolma di elettroni
(zona di inversione), e dunque fortemente conduttiva. Questa zona è alla ba-
se del funzionamento del transistore MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor
Field-Effect-Transistor), dispositivo cosı̀ costruito: su di un substrato droga-
to p (seguendo il nostro caso, poi ovviamente è possibile invertire i drogaggi),
vengono impiantate due zone, due pozzetti fortemente drogati tipo n+ , uno
detto source, l’altro detto drain. Metteremo a contatto ossido e metallo con
questi pozzetti, in modo che il canale scorra, per cosı̀ dire, sotto l’ossido. Il
canale è proprio questa zona di inversione, questa nicchia creata dalla for-
te tensione di cui abbiamo parlato. Vi saranno due tensioni alla base del
funzionamento di un MOSFET:
• VGS : la tensione del gate metallico, ossia quella che finora abbiamo
chiamato Va : essa è la tensione che permette la creazione di un canale
di elettroni, nel semiconduttore;
• VDS : è la tensione positiva tra drain D e source S, che sposta gli elet-
troni, passando nel canale che si viene a creare per inversione permessa
dalla VGS , appunto prendendoli dal source e spostandoli verso il drain
(poichè il + è sul drain, gli elettroni andranno in questo senso).
128
5.2 Calcolo della carica di inversione
Consideriamo d’ora in poi un’analisi più quantitativa: per poter calcolare
eventuali correnti infatti è necessario conoscere la concentrazione complessiva
della carica di inversione (di cui ora non abbiamo un’espressione operativa).
Per fare ciò, avremo a disposizione mezzi matematici molto ridotti e basilari:
equazione di continuità, equazioni di Shockley, equazione di Poisson.
Sappiamo che:
ρ(x) = q(pp (x) − np (x) − NA )

Vorremmo esplicitare, in funzione della tensione complessiva del semi-
conduttore, le due concentrazioni di portatori, pp (x) e np (x); partiamo dalle
equazioni di Shockley:
EF (x)−EF EF (x)−EF
i i
pp (x) = ni e kT ; np (x) = ni e− kT
Definiamo per comodità il parametro qΦ(x) , EFi (x) − EF :

qΦ(x) qΦ(x)
=⇒ pp (x) = ni e kT ; np (x) = ni e− kT
Sappiamo che, molto lontani dall’interfaccia con l’ossido:

qΦp qΦp
pp (+∞) = pp0 = ni e kT ; np (+∞) = np0 = ni e− kT
Ricaviamo, ora, da queste ultime due espressioni, ni , per poi sostituirlo
nelle equazioni di partenza:
qΦp qΦp
ni = pp0 e− kT ; ni = np0 e kT
Tornando finalmente alle equazioni di Shockley iniziali:
qΦ(x)−qΦp qΦ(x)−qΦp
pp (x) = pp0 e kT ; np (x) = np0 e− kT
Possiamo, ora, per comodità, definire una funzione che studi il potenziale,
con riferimento a +∞:
qΦ(x) − qΦp
Ψ(x) =
−q
In un certo senso potremmo dire che Ψ(x) rappresenta il nostro voltmetro
ideale: fissata la massa in un punto di neutralità (come un ideale +∞),
spostandoci in diverse x avremo la tensione nel punto interessato. Si noti che
Ψ(0) = VS (poichè misuriamo semplicemente in questo modo il contributo
del solo semiconduttore al potenziale di contatto);
129
Possiamo dunque riscrivere ordinatamente le equazioni di Shockley, nel
seguente modo:
Ψ(x)
−
pp (x) = pp0 e VT
Ψ(x)
np (x) = pp0 e VT
In condizioni di banda piatta, Ψ(x) = 0 a tappeto, per qualsiasi x; in

inversione, invece, Ψ(x) sarà una funzione crescente, muovendoci da de-
stra verso sinistra. Possiamo dunque dire che essa ben modellizza ciò che
intendevamo modellizzare.
Torniamo ora a parlare della ρ; possiamo dire, poichè lontano dall’inter-
faccia con l’ossido vi è neutralità, che ρ(+∞) = 0. Possiamo però quindi
anche dire che:
ρ(+∞) = 0 =⇒ q(pp (+∞) − np (+∞) − NA ) = 0 =⇒ pp0 − np0 − NA = 0
Possiamo dunque ricavare NA :
NA = pp0 − np0
Sostituendo ciò nell’espressione della densità di carica, otteniamo che:

Ψ(x) Ψ(x)
− V
ρ(x) = +q pp0 e T − np0 e VT
− pp0 + np0
Quindi, ordinando:

Ψ(x) Ψ(x)
−
ρ(x) = q pp0 e VT
− 1 − np0 e VT − 1
Ora che abbiamo un’espressione della carica più interessante, possiamo

considerare l’equazione di Poisson con la funzione Ψ(x) come tensione varia-
bile. Nella fatispecie, il nostro scopo sarà risolvere l’equazione differenziale:
∂ 2 Ψ(x)

q Ψ(x)
− V
Ψ(x)
=− pp0 e T − 1 − np0 e VT − 1
∂x2 S
Vogliamo dunque capire in che situazione ci verremo a trovare, in segui-
to all’integrazione. Incominciamo rappresentando qualitativamente carica e
campo elettrico: l’effetto della tensione applicata aumenta infatti progres-
sivamente l’ampiezza della zona svuotata; se Va è abbastanza positiva, si
formerà, interfacciata con l’ossido, una linguetta di carica, la famosa nicchia
che abbiamo prima nominato, ossia la zona di inversione, sottile alcuni nm.
130
Partendo da un generico x0 > xp , sappiamo per certo, avendo noi fissato
la nostra massa, che ε(x0 ) = 0, e Ψ(x0 ) = 0. Possiamo dunque applicare la
legge di Poisson, per ottenere il campo come integrale della densità di carica
ρ; consideriamo un cambio di variabili, ed una moltiplicazione membro a
2 Ψ(x)
membro per il fattore ∂Ψ(x)
∂x
, il cui differenziale sarà ∂y = ∂ ∂x2 ∂x, al fine di
risolvere l’integrale per sostituzione:
∂Ψ ∂ 2Ψ
y= ; dy = ∂x
∂x ∂x2
Notiamo che dunque, sostituendo, abbiamo semplicemente, al primo mem-
bro, ydy. Integrando dunque ambo i membri, incominciamo con il discutere
il primo:
−ε(x)
y2 (−ε(x))2
Z
ydy =⇒ ydy = =
−ε(x0 ) 2 2
Gli intervalli di integrazione considerano il fatto che, per l’equazione di
Poisson,
∂Ψ
y= = −ε(x)
∂x
Risolto questo dettaglio, passiamo al secondo membro, integrato:
Z Ψ(x)
q Ψ(x)
− V
Ψ(x)
− pp0 e T − 1 − np0 e T − 1 ∂Ψ =
V
Ψ(x0 ) S

q Ψ(x)
− V
Ψ(x)
=− pp0 −VT e T + VT − pp0 Ψ(x) − np0 VT e T − VT + np0 Ψ(x) =
V
S
(−ε(x))2

q Ψ(x)
− V
Ψ(x)
=− pp0 VT 1 − e T + np0 VT 1 − e T + Ψ(x)(np0 − pp0 ) =
V
S 2
Abbiamo ottenuto un risultato molto importante: abbiamo espresso il
campo elettrico ε(x) in funzione del potenziale Ψ(x): infatti:
s
2q Ψ(x)
− V
Ψ(x)
ε(x) = ± pp0 VT 1 − e T + np0 VT 1 − e T + Ψ(x)(np0 − pp0 )
V
S
Si noti però un fatto: in precedenza, avevamo già calcolato, velocemente,

il campo nel punto x = 0, sfruttando le nostre competenze elettrostatiche
131
riguardanti lo studio di un semiconduttore. Come mai abbiamo rieffettua-
to questa operazione, complicandola oltretutto notevolmente? In effetti, le
nostre precedenti competenze erano insufficienti ad esprimere interamente
la fenomenologia nascosta dietro ciò che capita nel semiconduttore drogato
tipo p che stiamo studiando: il precedente studio, teneva esclusivamente con-
to della carica di svuotamento, ignorando totalmente la linguetta, la carica
di inversione. Questa avrà un’influenza assolutamente non trascurabile, in
quanto provocherà un picco del campo ε, in un intorno del punto x=0.
Consideriamo il seguente fatto: se applicassimo il teorema di Gauss al
sistema in studio, appoggiando un cilindro sull’ossido, vedremmo che sulla
superficie laterale del cilindro, e sulla base sospesa, il campo sarebbe nullo. Di
fatto, l’unica zona a campo elettrico non nullo è proprio la faccia appoggiata
sull’ossido. Applicando dunque anche matematicamente il teorema, vediamo
che la carica totale del semiconduttore S, è esprimibile come:
QS = −ε(0)S
QS è una funzione della carica totale nel semiconduttore, in funzione di
VS , rappresentante la carica su cm2 . Ricordando che abbiamo precedente-
mente detto che Ψ(0) rappresenta VS , ossia il contributo del semiconduttore
al potenziale di contatto, possiamo dire che il campo in 0 vale:
s
q V
− VS
VS
ε(0) = f (Ψ(0)) = f (VS ) = ± pp0 VT 1 − e T + np0 VT 1 − e VT + VS (np0 − pp0 )
S
Vedendo l’andamento del campo, vediamo che esso è funzione della tensio-
ne VS , ma dunque anche QS sarà una funzione di VS . Si è soliti rappresentare
a questo punto il modulo della funzione QS , fondamentale per lo studio di
un sistema MOS:
Quando VS = 0, ci troviamo in zona di banda piatta. Quando VS < 0,
siamo in regione di accumulo, come abbiamo precedentemente introdotto.
La parte interessante verrà dopo, quando VS > 0: quando VS ∼ 0, 45 V
siamo in una zona di equilibrio. Man mano√ che andiamo avanti, da 0 in poi,
avremo prima un regime governato da VS . Crescendo però la tensione VS ,
si attivano, dentro la radice, gli esponenziali, che instaurano il regime di in-
versione dapprima debole, per poi stabilizzarsi nel regime di forte inversione.
L’esponenziale è talmente potente che cresce praticamente verticalmente, da
una certa tensione in poi, e in questo modo blocca la tensione: aldilà di un
certo valore, si avrebbe una QS elevatissima, senza controllo, quindi abbiamo
un blocco della tensione di controllo in questione. Il valore in cui la tensione
132
si blocca è, nella fatispecie, VS = 2Φp . Questa è l’informazione fondamentale
che ci fornisce lo studio della funzione di QS .
Dall’andamento del grafico di QS possiamo dunque affermare che se un
sistema MOS entra in stato di forte inversione (SI, Strong Inversion), pos-
siamo considerare costante la tensione VS , e uguale a 2Φp . Questo accade
perchè, fino a questo limite, il semiconduttore riesce di fatto a contribuire al
potenziale di contatto, prendendosi a carico metà della sua tensione, mentre
l’altra metà andrà a carico dell’ossido (la VOX ). Aldilà del valore limite da
noi descritto, il semiconduttore continuerà a prendere in carico esclusicamen-
te VS = 2Φp , mentre continuerà a crescere la tensione a carico dell’ossido,
VOX , in grado di sostenerla, grazie alle proprie caratteristiche dielettriche.
5.3 Determinazione della tensione di soglia di

un sistema MOS
Abbiamo parlato largamente della tensione VS , ma non abbiamo idea di come
studiare il suo andamento, al variare della tensione applicata al gate metal-
lico, ossia al variare della nostra Va esterna. Abbiamo infatti finora parlato
dettagliatamente di tensioni interne al semiconduttore, e al dispositivo MOS
in generale, ma senza creare collegamenti con l’esterno. Vogliamo dunque
studiare la tensione di soglia nominale, ossia la minima tensione che porta
un sistema MOS in stato di strong inversion.
133
L’idea che possiamo sfruttare è la seguente: studiare la distribuzione delle
tensioni in un MOS partendo dal punto di equilibrio, per arrivare al valore
critico di VS = 2Φp . Graficamente, possiamo immaginare che continui ad
alzarsi il potenziale del metallo rispetto a quello del semiconduttore, e che
al di sopra di una certa tensione, il semiconduttore non sia più in grado di
sostenere VS , e dunque Va andrà interamente a ripartirsi sull’ossido, mentre
a rimanere ferma a 2Φp sul semiconduttore.
Possiamo scrivere un’equazione alla maglia di questo dispositivo:
Va − VF B = VOX + VS
Da qui, possiamo dire che:
VOX = Va − VF B − 2Φp
Come abbiamo già affermato in precedenza, l’ossido funziona come un
condensatore a facce piane parallele dotato di un dielettrico tra le armature;
la carica sul metallo, è di fatto come già affermato una δ, di carica uguale
ed opposta a quella del semiconduttore (al fine di mantenere la neutralità
globale).
Possiamo dividere il contributo della carica totale al semiconduttore,
QS , come somma di due contributi: cariche dovute allo svuotamento, Qd ,
e cariche dovute all’inversione, Qn . Possiamo dire che:
QS = −(Qd + Qn ) = COX VOX =⇒ QS = COX (Va − VF B − 2Φp )
Sappiamo che:
OX
COX =
TOX
Dunque, possiamo dire che la carica di inversione, Qn , valga:
Qn = −COX (Va − VF B − 2Φp ) − Qd

Ma Qd in questo ambito, è la carica di svuotamento, in stato di strong
inversion. Se VS = 2Φp , ed è bloccata, allora possiamo dire che anche la
variazione di ampiezza di regione di svuotamento, xdSI , si blocchi:
s
2S VS
xdSI =
qNA
In generale, è possibile esprimere la tensione VS come area del triangolo
rappresentante il campo elettrico nel semiconduttore:
134
qNA x2d
VS =
2S
Possiamo dunque dire che la carica di svuotamento in queste condizioni
valga:
p
QdSI = −qNA xdSI = − 2S qNA 2Φp
E quindi, la carica di inversione Qn sarà:
p
Qn = −COX (Va − VF B − 2Φp ) + 2S qNA 2Φp
5.3.1 Calcolo della tensione di soglia

Prima di terminare il calcolo della tensione di soglia, forniamo la definizione
precisa di tensione nominale di soglia, VT (nella fatispecie, si parlerà di VT n
in caso di MOS a zona di inversione contenente elettroni, e dunque con
un semiconduttore drogato p, e di VT p in un MOS con zona di inversione
contenente lacune (e dunque semiconduttore drogato tipo n): VT è la tensione
che, applicata ad un sistema MOS, porta il sistema in forte inversione pur
potendo considerare ancora quasi nulla la carica di inversione.
Cosa significa questa definizione? Partendo dall’equazione appena rica-
vata, ed imponendo una carica di inversione nulla, quindi Qn = 0, vediamo
che:
1 p
VT n = VF B + 2Φp + 2qS NA 2Φp
COX
Questa è la tensione di soglia nominale: il limite che separa la strong
inversion e la weak inversion.
Possiamo dunque riscrivere l’espressione della carica di inversione come:
Qn = −COX (Va − VT n )
Cosa abbiamo scoperto, da quest’ultima riscrittura della carica di inver-
sione? Di fatto il sistema MOS si comporta come un condensatore molto
particolare: esso richiede una tensione di attivazione, pari alla tensione di
soglia VT n , dopodichè è assimilabile a tutti gli effetti ad una capacità; nella
fatispecie, (Va − VT n ) sarà proprio la tensione presente nel dispositivo MOS
funzionante.
Alcune precisazioni sulla tensione di soglia: la tensione
1 p
COX
135
è di norma positiva, altrimenti il MOS sarebbe costruito male. Se abbia-
mo una tensione Va < VT n , non si ha uno strato di inversione. Valori tipici
della tensione VT n variano da 0,2 a 1 V.
Abbiamo finora trattato solo ed esclusivamente n-MOS, ossia MOS con
semiconduttore drogato tipo p, e dunque canale di inversione pieno di elet-
troni. Esiste una situazione del tutto duale, ossia il p-MOS, in cui la tensione
di soglia varrà:
1 p
VT p = VF B − 2Φn − 2qS ND 2Φn
COX
kT ND
Φn = ln
q ni
Attualmente, vengono utilizzate sia tecnologie n-MOS che p-MOS, in una
tecnologia unica chiamata CMOS (Complementary MOS): si possono rea-
lizzare dispositivi MOS cioè con inversioni sia n che p: tecnologicamente,
basandosi su di un unico substrato semiconduttivo debolmente drogato o co-
munque tendenzialmente intrinseco, si impiantano vaschette p-Well (per gli
n-MOS), o n-Well (per i p-MOS): qua si costruiranno i transistori, mediante
processi tecnologici.
Abbiamo parlato abbastanza in dettaglio del sistema MOS; descriviamo
da ora in poi una trattazione della sua più interessante applicazione, ossia il
transistore a effetto di campo basato sulla tecnologia MOS, il MOSFET.
5.4 Il transistore MOSFET

Abbiamo già sommariamente parlato del transistore MOSFET, dicendo che
esso rappresenta un sistema MOS il cui canale di inversione è adiacente a
due pozzetti fortemente drogati (tipo n nel caso dell’n-MOS che stiamo stu-
diando), uno di source ed uno di drain. La tensione Va che abbiamo finora
studiato è la tensione di gate, VGS ; si prenderà in considerazione inoltre un’al-
tra tensione, VDS , ossia la tensione tra source e drain, positiva verso il drain.
Una prima differenza con il transistore bipolare che si nota, è il fatto che i
due pozzetti, source e drain, sono esattamente identici, a parte il potenziale
in cui si trovano. In tutto il dispositivo, il source è il punto a potenziale più
basso. La tensione VDS è proprio la tensione:
VDS = VD − VS
Dove normalmente però VS si può anche considerare come punto a poten-
ziale 0. La tensione VDS sarà dunque sempre positiva: VDS ≥ 0. Ulteriore
136
fatto da considerare, è che tutti i transistori MOS che studieremo, avranno
una tensione VBS = 0: questa è una semplificazione che noi presentiamo,
circuitalmente introducendo un corto circuito tra il terminale B (di Bulk, o
Body), ed il terminale S del source. Circuitalmente come già detto S sarà
collegato ad una massa (anche se qua sotto non lo indichiamo, consideriamolo
come ipotesi).
VDS sarà entrante verso il drain, e dunque gli elettroni saranno spinti dal
source verso il drain: VDS > 0, IDS ≥ 0.
Trascuriamo abbastanza nella nostra trattazione dei MOS i transistori
p-MOS: possiamo velocemente dire che in un dispositivo di questo tipo, la
regola operativa è invertire le tensioni: poichè il canale di inversione è infatti
popolato da lacune, al fine di poter effettuare la transizione di carica, le
tensioni saranno invertite, ed invertite saranno anche le convenzioni:
VDSp < 0; VT p ≤ 0; IDSp ≤ 0

La trattazione si baserà sul trattare generalmente un sistema n-MOS,
talvolta citando il p-MOS.
5.5 Caratteristica statica del MOSFET: Ana-

lisi a canale graduale
Vogliamo trovare un’espressione operativa in grado di fornirci la caratteri-
stica statica del MOSFET, nel caso di n-MOS, ossia l’andamento della sua
corrente principale al variare delle tensioni. La corrente che interessa il di-
spositivo MOS sarà la corrente di canale di inversione, tra drain e source,
IDS . Possiamo dire che questa dipenda di fatto da due tensioni: VGS , ossia
la tensione che regola l’apertura del canale di inversione, e VDS , ossia la ten-
sione che permette il moto dei portatori all’interno del canale di inversione,
dal source verso il drain.
137
IDS = f (VGS ; VDS )
In realtà vi sarebbe anche una dipendenza della corrente dalla tensione tra
bulk e source, VBS , che noi abbiamo per semplificazione annullato mediante
un cortocircuito tra i due terminali. Spesso ciò non è vero, quindi si ricordi
che ci troviamo in un’ipotesi semplificativa, ma non sempre verificabile. Non
consideriamo infatti, cosı̀ facendo, un’eventuale polarizzazione del substrato.
Sappiamo che la corrente nel canale di un MOS c’è solo con VGS > VT n :
bisogna infatti far sı̀ che il canale di inversione sia creato nel dispositivo, e
perchè ciò sia sicuramente verificato, la tensione al gate deve essere almeno
pari alla tensione di soglia, al fine di poter indurre lo stato di strong inversion
nel sistema MOS. Cosa capita ora? Vorremmo capire cosa succede con una
VDS > 0, per vedere e studiare il moto degli elettroni nel canale. Possiamo
intuire facilmente che il fatto che una tensione muova degli elettroni, significhi
che la corrente è una corrente di trascinamento, di drift, e che quindi la
tensione generi la corrente in questo modo. Si noti però un dettaglio non
trascurabile: il canale di inversione è un canale resistivo, e con una resistenza
non trascurabile, in quanto R è dell’ordine dei KΩ. Il fatto che si abbia a che
fare con resistenze cosı̀ elevate, ci fa capire che una corrente di qualche mA,
sia in grado di provocare una caduta di tensione dell’ordine dei V. Questo
problema inoltre è reso ancora più difficile da analizzare dal fatto che la
resistenza del canale non è uniforme.
Consideriamo ora il nostro sistema in due dimensioni: poichè l’asse delle
x è già stato occupato dallo spostamento sul gate per andare fino al termine
del bulk di silicio, consideriamo che la distanza tra i due canali sia su di
un asse ortogonale ad x, e chiamiamolo y. Possiamo considerare nel punto
y=0 il source, e ad una distanza L, nel punto y=L, il drain. Sappiamo solo
dire una cosa, della funzione del potenziale del canale, ΦCH : essa in 0 vale
ΦCH (0) = 0, mentre in L, punto in cui si localizza il drain, ΦCH (L) = VDS ;
non abbiamo la benchè minima idea di come vari però la tensione tra i due
punti, quindi consideriamo per ora incognita la funzione ΦCH (y).
Faremo quella che si dice analisi a canale graduale del dispositivo MO-
SFET: supponiamo di applicare una VGS > VT n , al fine di trovarci in stato
di strong inversion e dunque di aver la certezza di avere il canale di inversio-
ne aperto. Consideriamo una tensione positiva tra source e drain, e quindi
VDS > 0. Tentando di rappresentare in tre dimensioni il grafico, noteremmo
ciò: per y=0, e cioè in prossimità del source, avremmo il nostro andamento
del potenziale già noto. Al variare di y, però, il potenziale aumenta sempre
di più, poichè abbiamo applicato una tensione VDS tra drain e source. Capi-
tano alcuni effetti interessanti: se la tensione massima sopportabile al source
138
è 2Φp per y=0, questa man mano cresce spostandoci nelle y, e, arrivando a
x=0, y=L, si avrebbe 2Φp + VDS . Una tensione da sopportare per il semi-
conduttore si può interpretare come aumento dell’ampiezza della regione di
svuotamento, che quindi avrà un’ampiezza variabile con y.
L’andamento di ΦCH influenza pesantemente tutto il grafico.
Ci interesserebbe dunque esprimere un’equazione dell’andamento del po-
tenziale, ad una generica posizione y. Possiamo dire che:
VGS − VF B = VOX (y) + VS (y)

Dall’analisi a canale graduale, sappiamo che:
VS (y) = 2Φp + ΦCH (y)

Sostituendo nella precedente:
VGS −VF B = VOX (y)+2Φp +ΦCH (y) =⇒ VOX (y) = VGS −VF B −2Φp −ΦCH (y)
Possiamo tentare di introdurre, dal momento che conosciamo esattamen-

te la capacità dell’ossido interpretato come dielettrico in un condensatore,
la carica totale nel semiconduttore, considerabile come somma di carica di
svuotamento Qd e di carica di inversione Qn :
−(Qd (y) + Qn (y)) = COX VOX

Da qui, sostituendo:
−(Qd (y) + Qn (y)) = COX (VGS − VF B − 2Φp − ΦCH (y))

La carica di inversione avrà un’espressione del tipo:
Qn (y) = −COX (VGS − VF B − 2Φp + ΦCH (y)) − Qd (y)

Mediante dunque queste equazioni alla maglia, abbiamo trovato un’e-
spressione della carica di inversione in una generica posizione y. Questa però
è ancora incompleta: non siamo ancora riusciti ad esplicitare la carica di
svuotamento nella generica posizione y, Qd (y).
Riflettiamo un attimo: le cariche di svuotamento sono strettamente legate
alle zone di svuotamento, del dispositivo. Come sono fatte queste, nello stato
che stiamo studiando? La tensione VDS è positiva dal source S al drain D, e
quindi vedremo una regione di svuotamento crescente nel canale da S a D, ed
una zona molto estesa al drain, poichè una polarizzazione positiva su di un
semiconduttore drogato tipo n provoca un allargamento della sua tensione di
139
svuotamento, poichè si effettua una polarizzazione di tipo inverso. La regione
di svuotamento come abbiamo detto sarà dunque crescente, per culminare
nel drain. Spostiamo dunque temporaneamente l’attenzione dalle cariche
di svuotamento, all’ampiezza delle regioni di svuotamento: vogliamo ora
determinare un’espressione di xd (y), ossia una funzione in grado di fornirci,
in una generica y, l’ampiezza della regione di svuotamento in quel punto.
Possiamo dire che xd sia una funzione non direttamente di y, quanto della
funzione del potenziale sul canale: come sappiamo il potenziale del canale è
un valore aggiunto alla tensione totale nel dispositivo, e che effettivamente
l’ampiezza della regione di svuotamento ne risenta molto:
s
2S (2Φp − ΦCH (y))
xd (y) ' xd (ΦCH (y)) =
qNA
Questo risultato è semplicemente un’applicazione dei classici studi elet-
trostatici effettuati sul semiconduttore, precedentemente.
Possiamo dire che la carica di svuotamento al variare di y sia semplice-
mente l’area del rettangolo, il prodotto tra l’altezza (carica in un punto) e
di ampiezza della regione di svuotamento, utilizzando l’ipotesi di completo
svuotamento:
q
Qd (y) = −qNA xd (y) = − 2qS NA (2Φp + ΦCH (y))
Possiamo, dunque, ora che abbiamo ottenuto un’espressione operativa
della Qd (y), ricavare la Qn , sostituendo nell’equazione ricavata in precedenza.
Ricordandola, dunque:
Qn (y) = −COX (VGS − VF B − 2Φp − ΦCH (y)) − Qd

Vediamo:
q
Qn (y) = −COX (VGS − VF B − 2Φp − ΦCH (y)) + 2qS NA (2Φp + ΦCH (y))
Esiste un modo alternativo di esprimere quest’equazione,

√ mediante alcuni
artifici algebrici: se sommiamo e sottraiamo il termine 2qS NA , si ottiene
che:
q
p p
Qn (y) = −COX (VGS −FF B −ΦCH (y))+ 2qS NA 2Φp + ΦCH (y) − 2Φp )
Ora che abbiamo studiato dettagliatamente le cariche, vogliamo finalmen-

te passare al calcolo delle correnti, e nella fatispecie di IDS . Come già detto,
140
la corrente in un MOSFET è prevalentemente di trascinamento; in condizio-
ni statiche deve esserci in ogni punto del dispositivo, la stessa corrente. La
corrente che consideriamo parte dal source ed arriva al drain, quindi procede
in verso positivo sulla direzione dell’asse delle y. Consideriamo dunque tra
source e drain un punto generico y, ed un punto ad esso vicinissimo, y + dy.
Poichè la corrente in questa situazione è di drift, possiamo quantificarla in
questo punto dicendo che:
Idrif t (y) = −qµn nIN V (y)ε(y)W TIN V = −IDS

Cosa significa ciò che abbiamo fatto: il numero di cariche di inversione
nIN V (y) nel generico punto y moltiplicato per la carica fondamentale q e per
la mobilità µn , con trascinamento dovuto al campo elettrico nel punto y, ε(y),
moltiplicato per la sezione attraversata, ossia il prodotto del lato W e dello
spessore dello strato di inversione TIN V , ci fornisce, con una convenzione di
segno opposto, la corrente desiderata.
Quest’espressione contiene due termini che non abbiamo mai discusso o
nominato, ossia lo spessore dello strato di inversione, e il numero di elettroni
nello strato di inversione, rispettivamente TIN V e nIN V . Possiamo però dire
che
−qTIN V (y)nIN V (y) = Qn (y)

Infatti la funzione Qn (y), precedentemente ricavata, è proprio la carica
totale di inversione nello straterello, per centimetro quadrato. Di fatto, non
conosciamo le due funzioni richieste, ma conosciamo il loro prodotto, e cosı̀
possiamo sostituirvi l’espressione della carica totale per centimetro quadro
precedentemente introdotta, al fine di calcolare la corrente:
−IDS = µn Qn (y)ε(y)
Sappiamo anche un’altra cosa: il campo elettrico trascinante gli elettroni
è la derivata del potenziale di canale rispetto alla generica posizione y:
∂ΦCH (y)
ε(y) = −
∂y
Possiamo dunque dire una cosa: sappiamo, qualitativamente, che il poten-
ziale nel canale è una funzione monotona crescente, e che quindi la derivata
sarà una funzione sempre positiva. Possiamo dunque mantenere i segni come
abbiamo fatto, poichè rispetteranno la convenzione utilizzata.
Sostituiamo tutto, e vediamo che:
141

∂ΦCH (y)
−IDS = µn W (−Qn (y)) −
∂y
Integrando ambo i membri per tutta la lunghezza del canale di inversione,
e quindi da 0 ad L:
Z L Z ΦCH (L)
IDS ∂y = − Qn (y)∂ΦCH (y)
0 ΦCH (0)
Ma noi sappiamo che ΦCH (0) = 0, e che ΦCH (L) = VDS . Possiamo
dunque dire che:
Z ΦCH (L)
µn W
IDS =− Qn (y)∂ΦCH (y)
L ΦCH (0)
Abbiamo tutti i dati: la funzione Qn (y) infatti sarebbe:
p q p
Qn (y) = −COX (VGS − VF B − ΦCH (y)) + 2qS NA 2Φp + ΦCH (y) − 2Φp )
La letteratura classica di dispositivistica è solita trascurare, nell’integra-

zione, tutti i termini sotto radice, al fine di semplificare i conti. Questa è
un’approssimazione molto brutale, e molto grossolana, ma che semplifica a
tal punto i conti da essere comunemente usata. Un simulatore numerico per
circuiti, quale ad esempio SPICE, considera la formula nella sua forma più
completa. Considerando ad ogni modo esclusivamente i termini polinomiali:
2

µn COX W VDS
IDS = (VGS − VT n )VDS −
L 2
Questa è la caratteristica statica del transistore MOSFET, ed è il risultato
che utilizzeremo in applicazioni pratiche. A partire da qua, possiamo trovare
una grandissima differenza con il transistore bipolare: il MOSFET ha il gate
isolato, ossia in cui non scorre una corrente. Nella base del BJT, invece, vi è
una minima corrente.
Ci chiediamo ora, leggendo l’equazione della caratteristica statica di un
n-MOS, quale sia il suo andamento. Poichè non abbiamo un’equivalente
della IB , non avremo un parametro in corrente da regolare. Lo studio della
caratteristica statica, si può effettuare in questo modo: la variazione di IDS ,
al variare della tensione VDS . Se applichiamo diverse tensioni di gate, tutte
in grado di indurre uno stato di strong inversion, ad esempio:
VT n < VGS1 < VGS2 < VGS3
142
Possiamo vedere che per piccole VDS , il MOS si comporta all’incirca come
una resistenza. Si ha, crescendo la VDS , una zona detta regione quadratica,
dove l’andamento della corrente è parabolico, ossia raffigurante una para-
bola con coefficiente quadratico negativo (parabola rivolta verso il basso).
Sappiamo che quindi la funzione dovrebbe essere monotona crescente fino al
massimo, per poi divenire decrescente. Calcoliamo dunque il massimo della
funzione, derivandola rispetto alla variabile VDS , e ponendola nulla:
∂IDS µn W COX
= 0 =⇒ [(VGS − VT n ) − VDS ] = 0
∂VDS L
Questo si verifica quando:
VDS = VGS − VT n
Sostituendo dunque l’espressione del massimo appena ricavata nella fun-
zione di IDS , si ottiene:
(VGS − VT n )2

µn W COX
IDS,M ax (VDS ) = (VGS − VT n )(VGS − VT n ) − ;
L 2
µn W COX
IDS,M ax (VDS ) = (VGS − VT n )2
2L
A seconda della tensione VGS applicata sul gate, abbiamo dunque un
diverso valore del massimo della corrente, quantificato. Dopo il massimo
però, la caratteristica dovrebbe essere decrescente.
Sperimentalmente, si verifica un andamento molto simile a quello che
effettivamente avveniva nel BJT:
Le caratteristiche crescono tutte, al variare del parametro della tensione
di gate VGS , e si passa cosı̀ dalla regione quadratica, ad una regione detta di
saturazione (si noti che non centra niente con la regione di saturazione del
BJT: quella che qua è la regione di saturazione, corrisponde alla regione attiva
diretta del BJT). Possiamo dunque dire che, per VDS > VDSM ax , IDS,Sat =
IDS,M ax . Possiamo dunque riassumere il modello statico, esprimendolo in
modo purtroppo non elegante per quanto corretto (a parte per la grossolana
approssimazione precedentemente fatta e criticata), mediante una funzione
a tratti:
• Per VGS < VT n , la IDS = 0, ed il transistore MOSFET è OFF;
• Per VGS > VT n , e VDS < VGS − VT n , il transistore è in zona quadratica,

e:
143
2

µn COX W VDS
IDS = (VGS − VT n )VDS −
L 2
• Per VGS > VT n , e VDS > VGS − VT n , il transistore è in zona di satura-

zione, e dunque:
µn W COX
IDS = IDS,Sat = (VGS − VT n )2
2L
Possiamo ora cercare di rispondere all’ultimo dei nostri dubbi, prima di
considerare del tutto terminata la trattazione della caratteristica statica in un
MOSFET: perchè la corrente aldilà del valore di massimo diviene costante?
(Anche se si ha un effetto duale dell’effetto Early, che accenneremo).
Proviamo a pensare alla distribuzione delle cariche nel sistema n-MOS
che stiamo studiando, esaminando le varie zone che abbiamo espresso nella
definizione della funzione a tratti della caratteristica statica.
• Date VGS = 0, VDS = 0, non abbiamo variazioni delle zone di svuota-

mento rispetto alla condizione di equilibrio, quindi possiamo pensare
che la carica sia interamente di svuotamento poichè non abbiamo uno
stato di strong inversion;
• Data VGS > VT n , VDS = 0, capita che il sistema n-MOS va in stato di

strong inversion, vi è un aumento dello spessore del canale, dal momen-
to che si induce la carica di inversione Qn (precedentemente nulla), e
144
si ha un aumento generale della tensione, che porta anche all’aumento
della zona di svuotamento. In prossimità dei pozzetti drain e source
però non si ha una variazione sostanziale della zona di svuotamento.
• Se VGS > VT n , VDS < VGS −VT n , capita che si entra nella zona di condu-
zione del canale, le cariche si spostano dal source al drain, e cosı̀ si ha il
dispositivo in zona di saturazione. Vediamo che la zona di svuotamento
tenderà molto a crescere andando dal source verso il drain, per effetto
della tensione di canale ΦCH , o se vogliamo della VDS che polarizza il
drain. Ma ciò che sarà interessante non sarà solo la crescita della ca-
rica di svuotamento (associata alla crescita dell’ampiezza della regione
di svuotamento), bensı̀ anche la diminuzione della carica di inversione:
man mano che la tensione aumenta, la carica di inversione diminuisce,
quindi, man mano che si procede dal source verso il drain, la carica di
inversione tenderà a diminuire. Questo perchè capita il seguente fatto:
aumentando la tensione sul drain, questo per reggerla deve ridurre la
carica di inversione, e cosı̀ in prossimità del drain, l’andamento della ca-
rica andrà a strozzarsi. Per un caso limite, VGS > VT n , VDS = VGS −VT n ,
la carica di inversione si annullerà sul drain, e cosı̀ si avrà una sorta di
triangolo con base al source e vertice al drain. Considerando una ten-
sione ancora più elevata, VGS > VT n , VDS > VGS − VT n , avviene quello
che si chiama Channel Lenght Modulation (modulazione di ampiezza di
canale): questo è il duale dell’effetto Early del BJT: il punto ottenuto
dalla precedente osservazione alla tensione limite, tende ad arretrare,
cosı̀ che la lunghezza del canale resistivo anzichè L sarà L’, e la zo-
na (L-L’) restante dalla parte del drain sarà una zona ad alto campo
elettrico, causato dalla forte tensione applicata sul drain. Gli elettroni
giunti in questa zona verranno sparati nel drain da questo fortissimo
campo provocato dal forte potenziale applicato, tuttavia la corrente
non aumenterà. Questo modello si può assimilare ad un modello idro-
dinamico: data una cascata la cui pendenza aumenta, ipotizziamo come
la nostra tensione, arrivata ad un certo limite si fermerà, e non potrà
più aumentare la corrente d’acqua. Questo avviene perchè l’entità della
corrente viene regolata dalla zona resistiva, e, al di sopra di un certo
limite, il flusso di portatori non aumenterà.

Dato un sistema MOS costituito da un gate di polisilicio drogato n+ , un
ossido di spessore 300 Amstrong di quarzo, ed un substrato di silicio drogato
145
5 · 1016 , con un lato L di 1µm, W = 5 µm, ed una mobilità elettronica
µn = 400:
1. Si determini il diagramma a bande all’equilibrio quotato, e si stabilisca

in quale condizione si trova il semiconduttore.
2. Si calcoli la tensione di soglia.
3. Supponendo di disporre di una tensione di alimentazione pari a 5 V, si

calcoli la massima corrente erogabile dal dispositivo MOSFET.
4. Costruire un modello di ampio segnale del dispositivo MOSFET.
5. Si valuti il modello di piccolo segnale alle condizioni del punto 3.
5.6.1 Risoluzione
Diagramma a bande all’equilibrio quotato
Partiamo con una considerazione: al posto del gate metallico, ne abbiamo uno
di silicio policristallino. Ciò non ci provoca alcun problema, in quanto esso è
del tutto analogo ad un metallo, sotto ogni punto di vista, a parte per l’af-
finità elettronica, che al posto di 4, 1 varrà 4, 05. Possiamo immediatamente
valutare il lavoro di estrazione partendo da qΦp , come:
NA
qΦp = EFi (∞) − EF = kT ln = 0, 39eV
ni
Eg
qΦSp = qΦp + qχ + = 5eV
2
Possiamo dunque dire che il potenziale di contatto, ossia la differenza tra
i potenziali di metallo e semiconduttore, valga:
qΦSp − qΦM = 0, 95eV

Sappiamo che il potenziale di contatto allora, analogamente, ΦM S , varrà
0,95 eV.
Calcoliamo la capacità dell’ossido, COX :
OS
COX =
TOX
Possiamo ora calcolare l’ampiezza della regione di svuotamento nel semi-
conduttore, come:
146
s 2
2S 2S ΦM S 2S
xd0 = + − = 90nm
COX COX qNA
Sappiamo che:
qNA x2d0
VS = = 0, 32V ; VOX = ΦM S − VS = 0, 63V
2S
Ci troviamo in una zona circa di equilibrio, quindi di fatto siamo in ottime
condizioni: il nostro dispositivo MOS è costruito ottimamente.
Si calcoli la tensione di soglia

Possiamo passare al secondo punto, ossia al calcolo della tensione di soglia.
Questo è semplicemente una banale applicazione della teoria; ricordando che:
1 p
COX
Essa si può anche esprimere come:
p
VT n = VF B + 2Φp + γB 2Φp
Dove il termine γB è il body factor, ed è uguale a:
√
2qS NA
γB =
COX
Il significato del body factor può tornare molto utile, in quanto abbiamo
calcolato la tensione di soglia, nella teoria, considerando VBS = 0 (per il
solito discorso del cortocircuito tra body/bulk e source. Di fatto, il body
factor considera anche eventuali tensioni tra body e source, quindi possiamo
tenere conto di questa relazione, che potrebbe aiutarci in casistiche generali.
Usando una qualsiasi delle due relazioni, si può facilmente verificare che:
VT n = 4, 18V
Data alimentazione di 5 V, si calcoli la massima corrente erogabile

dal dispositivo MOSFET
Passando al terzo punto, il problema ci fornisce come tensione massima 5 V.
Dalla teoria, sappiamo che, più elevata è VGS , più potremo ottenere correnti
elevate. Possiamo dunque porre senza molti dubbi, VGS = 5 V.
147
Per quanto riguarda invece la tensione tra drain e source, VDS , è sufficiente
che essa sia maggiore o uguale del massimo:
VDS ≥ VGS − VT n = 5 − 0, 82 = 4, 18
Possiamo dunque considerare per comodità VDS = 4, 18V , e calcolare la
corrente in saturazione, come il massimo della regione quadratica:
µn COX W
IDS = (VGS − VT )2 = 230µAV −2
2L
ID,Sat = 2mA
Costruire un modello di ampio segnale del dispositivo MOSFET

Passiamo al quarto punto, più teorico, dell’esercizio: la costruzione di un
modello di ampio segnale del MOSFET. Il modello di ampio segnale come
sappiamo deve saper prevedere le condizioni del dispositivo considerando
qualsiasi variazione di tensione con qualsiasi rapidità. Il modello di ampio
segnale deve essere il più generale di un dispositivo e anche in grado di preve-
dere comportamenti statici. Da un punto di vista logico, tutto il modello si
baserà su di un generatore di corrente IDS , attorno al quale inseriremo ulte-
riori elementi. Conosciamo già l’andamento di questo, considerando staticità.
In realtà abbiamo però effetti capacitivi, e due diodi (dovuti ai pozzetti di
source e drain). Esiste dunque una capacità di svuotamento sia per il source
(CDEP (0)), che per il drain (CDEP (−VDS )). Si noti che si usa −VDS poichè,
dal momento che il pozzetto di drain è drogato n+, e la tensione su di esso
è positiva, allora avremo una polarizzazione inversa sul drain.
Non abbiamo ancora fatto considerazioni sul gate: sul gate abbiamo in-
fatti un condensatore a capacità variabile, poichè anche il gate ha la sua
capacità: dal gate si vedono due dielettrici: se il transistore è spento, per VS
in zona di equilibrio, siamo in zona di svuotamento nel grafico della QS , ossia
della carica del semiconduttore. Man mano che si aumenta la VS , si arriva
in zona di weak e poi di strong inversion, e cosı̀ varia radicalmente la carica
contenuta nel semiconduttore.
Sappiamo che la capacità dell’ossido è costante, e che del semiconduttore
conosciamo l’andamento della carica complessiva, QS (VS ). Possiamo dunque
calcolare la capacità variabile del semiconduttore, come:
∂QS
CS =
∂VS
148
Semplicemente, sarà sufficiente mettere la capacità CS in serie con la
capacità COX , per completare il modello di ampio segnale.
Si valuti il modello di piccolo segnale alle condizioni del punto 3

Passiamo al modello di piccolo segnale, alle condizioni del terzo punto del
problema: in quelle condizioni, il transistore era saturo, e quindi il modello
di piccolo segnale è sensato. Scegliamo di considerare come segnale variabile
per il modello, la VGS : al fine di modulare la corrente IDS , scegliamo sempli-
cemente di modificare l’apertura del canale di inversione. Possiamo dunque
dire che:
VGS (t) = VGSop + vgs (t)

Sappiamo che:
βn
IDS = (VGS − VT )2
2
Da ciò, linearizzando:

βn 2 ∂IDS
IDS ' (VGSop − VT ) + · vgs (t)
2 ∂VGS VGSop
Possiamo dire che ids (t) = IDS (VGS ) − IDSop ; da ciò, possiamo definire
il parametro del generatore che useremo in un modello a π analogo o quasi
a quello del BJT, ma con una capacità tra gate e source, al posto di una
resistenza.
149

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1 Proprietà elettriche dei materiali 2

2 Modello matematico delle correnti nei semiconduttori 20

5 Sistemi MOS 120

Proprietà elettriche dei

• EC : Livello energetico in cui inizia la banda di conduzione;

• EB : Livello del vuoto, ossia livello energetico da superare per estrarre

• qΦM : Lavoro di estrazione del metallo;

• γn : Parametro della funzione di densità degli stati energetici.

Facciamo alcune osservazioni: l’inizio della banda di conduzione dei me-

ρn (E) = N (E)f (E; T )

Noi consideriamo però di trovarci ad una temperatura T ' 300 K, ossia

In un metallo, abbiamo quindi a disposizione circa 1022 elettroni per cm3 .

• EC : Inizio della banda di conduzione;

• EV : Termine della banda di valenza;

• Eg : Energy Gap, ossia distanza energetica tra banda di conduzione e

Il livello di Fermi si trova, in un semiconduttore intrinseco, a metà tra

Ma, come ci suggeriscono i pedici i, ci troviamo in un caso intrinseco, e

I due termini NEF F sarebbero termini efficaci, che si riferiscono alla

Sfruttiamo ora le condizioni di neutralità del semiconduttore intrinseco,

Valori fondamentali da ricordare, nel silicio, sono:

• Eg : Energy Gap (1,12 eV nel Silicio);

• qχ: Affinità Elettronica (4,05 eV nel Silicio);

• qΦS : Lavoro di estrazione.

Abbiamo definito anche nel semiconduttore il lavoro di estrazione, qΦS ;

• Generazione Termica (Gth): una temperatura non nulla muove un certo

• Ricombinazione (R): gli elettroni, una volta separatisi dalle lacune,

Possiamo qualitativamente dire che i termini ni e pi rappresentino il punto

1.3 Caratterizzazione dei semiconduttori dro-

Drogare significa introdurre nel semiconduttore un fenomeno di ionizza-

• Non tutti gli atomi sono in grado di drogare un substrato semicon-

• L’effetto del drogaggio provoca una notevole alterazione della popola-

1.3.1 Calcolo di n e p in un semiconduttore drogato

Consideriamo nuovamente, come prima, il prodotto delle due equazioni

q(pn + ND+ − nn ) = 0 =⇒ pn + ND+ − nn = 0

1. Regime di congelamento: per temperature inferiori ai 100 K, l’atti-

3. Regime intrinseco: per temperature alte, le interazioni fononiche, ossia

Abbiamo largamente discusso l’andamento della funzione nn (T ); potrem-

q(pP − NA− − np ) = 0 =⇒ pp − NA− − np = 0

L’andamento è dunque del tutto analogo al precedente, esistono i tre

• ND > NA : i donatori prevalgono sugli accettori, e cosı̀ il drogante tipo

Un esempio pratico di semiconduttore drogato sia n che p è il transistore

1.3.2 Equazioni di Shockley

I simboli usati sono sempre i soliti; si può considerare valida l’ipote-

Considerate in un semiconduttore intrinseco, esse saranno:

Ricaviamo ora da queste ultime due, NC ed NV , tenendo conto che in un

Sostituendo le espressioni appena trovate a partire dalle equazioni in-

Ordinando e semplificando alcuni termini, si ricavano le cosiddette Equa-

Queste equazioni sono particolarmente interessanti in quanto in esse spari-

Modello matematico delle

Come varierà l’energia potenziale di un elettrone in questo condensatore?

J = Φx,e− (−q) + Φx,e+ (+q)

• Maggiore sarà la temperatura, maggiore sarà l’interazione fononica coi

• Maggiore sarà il numero di imperfezioni del reticolo, minore sarà la

• Maggiore sarà il drogaggio, e dunque la somma delle concentrazioni

E’ possibile spesso trovare dei grafici dei degradamenti di µn e µp :

Jd = (qµn n + qµp p)ε = σε

2.1 Correnti di diffusione

Jn,dif f = −qΦx,e− dif f

Jp,dif f = qΦx,e+ dif f