Tesis

UNIVERSIDAD NACIONAL DEL LITORAL
FACULTAD DE INGENIERÍA QUÍMICA

Tesis presentada como parte de los requisitos de la
Universidad Nacional del Litoral para la obtención del grado académico de:
Doctor en Tecnología Química
Estudio de materiales nanoestructurados mediante

microscopia de efecto túnel
Laboratorio de Superficies e Interfaces (LASUI)

Instituto de Desarrollo Tecnológico para la Industria Química (INTEC)
Autor: Juan Carlos Moreno López
Director de tesis: Dr. Mario C. G. Passeggi (h) Codirector de tesis: Dr. Julio Ferrón
2010
Indice de contenidos
Indice de contenidos ...................................................................................................................... i

Prologo ......................................................................................................................................... iii
Resumen ....................................................................................................................................... vi
Introducción ................................................................................................................................ viii
Capítulo 1: El Sistema experimental ........................................................................................... 11
1.1 Características generales ............................................................................................ 11
1.2 Preparación de muestras. ............................................................................................. 4
1.2.1 Muestras de grafito tipo HOPG ..................................................................... 8
1.2.2 Muestras de Cu(100) ..................................................................................... 8
1.3 Preparación de puntas ................................................................................................ 13
1.3.1 Puntas de Pt‐Ir ............................................................................................. 15
1.3.2 Puntas de W ................................................................................................ 15
1.4 El Microscopio de efecto túnel (STM). ........................................................................ 18
1.5 Espectroscopia de electrones Auger (AES) ................................................................. 22
1.6 Difracción de electrones de baja energía (LEED) ........................................................ 23
1.7 Dispersión de átomos neutros con energías térmicas (TEAS) .................................... 24
Capítulo 2: Formación de superestructuras en grafito ............................................................... 27
2.1 Introducción ................................................................................................................ 27
2.2 Superestructuras en Grafito tipo HOPG...................................................................... 28
2.2.1 Superestructuras del tipo Moiré ................................................................. 30
2.2.2 Superestructuras del tipo (√3×√3)R30° ....................................................... 35
2.3 Superestructuras de grafito formadas por bombardeo iónico ................................... 38
2.3.1 Coexistencia de una superestructura Moiré con una (√3×√3)R30° ............ 40
2.3.2 Origen de la superestructura “honeycomb” ............................................... 44
2.4 Comentarios finales .................................................................................................... 47
Capítulo 3: Crecimiento de fluoruro de aluminio sobre Cu(100) ................................................ 48
3.1 Introducción ................................................................................................................ 48
3.2 Conceptos básicos del crecimiento de películas delgadas ......................................... 50
i
3.2.1 Formación de un núcleo estable ................................................................. 53
3.2.2 Difusión en los bordes de las islas y crecimiento ramificado...................... 54
3.3 Detalles experimentales y simulaciones Monte Carlo ................................................ 57
3.3.1 Experimentos .............................................................................................. 57
3.3.2 Simulaciones ............................................................................................... 58
3.4 Crecimiento de AlF3 sobre Cu(100) en función del recubrimiento ............................. 59
Capítulo 4: Efectos de la temperatura sobre las películas de AlF3 .............................................. 74
4.1 Introducción ................................................................................................................ 74
4.2 Efectos de la temperatura durante el crecimiento ..................................................... 75
4.3 Efectos de la temperatura durante un recocido ......................................................... 77
Conclusiones ............................................................................................................................... 89
Apéndice A: Teoría de la microscopia de efecto túnel ............................................................... 92
A.1 Introducción................................................................................................................ 92
A.2 Formalismo de Bardeen.............................................................................................. 93
A.2.1 El formalismo de Tersoff‐Hamann (Formalismo TH) .................................. 95
Bibliografía .................................................................................................................................. 97
Listado de publicaciones ............................................................................................................. 99
Agradecimientos ....................................................................................................................... 104
ii
Prologo
Una de las lecturas más motivantes que realice durante mi doctorado fue “El
microscopio de efecto túnel - del nacimiento a la adolescencia”, escrita por sus propios
inventores Heinrich Rohrer y Gerd Binnig. Esta lectura narra los aspectos históricos del
desarrollo del microscopio con el cual se realizaron la mayoría de las mediciones
presentadas en esta tesis, el microscopio de efecto túnel. En palabras de sus propios
autores: “Nuestro relato no es una recomendación de cómo debe investigarse,
simplemente refleja como pensábamos, actuamos y sentíamos durante la invención del
microscopio. Sin embargo, no cabe duda que resultaría muy gratificante que esta
lectura aliente una actitud más relajada hacia la ciencia”. Por ello, quisiera empezar
esta tesis doctoral parafraseando esta lectura, de la cual se pueden extraer dos actitudes
fundamentales que deberíamos conservar durante el desarrollo de cualquier clase de
proyecto, motivación y perseverancia.
Todo comenzó a finales de los '70, cuando un equipo liderado por Binnig y
Rohrer diseñaron un novedoso microscopio capaz de operar a bajas temperaturas, el
cual instalaron en una cámara especialmente diseñada donde era posible conseguir
presiones menores a 10-9 Torr (condiciones de ultra alto vacío). Entre otros avances,
esta cámara contaba con el equipamiento necesario para realizar tratamientos
superficiales a las muestras con las que se iba a trabajar, además de un novedoso
sistema de levitación superconductora que permitía aislar todo el microscopio de
vibraciones externas. Sin embargo, y a pesar de todos los detalles considerados en su
diseño, este microscopio era muy complicado y nunca llegó a funcionar correctamente
[1]. Habían sido muy ambiciosos en su primer intento, solamente 7 años más tarde y
después del esfuerzo de muchos grupos de investigadores fue posible operar un
microscopio de efecto túnel a bajas temperaturas.
iii
Luego de este fracaso decidieron bajar considerablemente sus pretensiones, y
acordaron usar un viejo desecador que estaba tirado en el laboratorio como cámara de
vacío, un montón de cinta “scotch”, y una versión primitiva de levitación
superconductora para aislar el microscopio de vibraciones externas, la cual
desperdiciaba 20 L de helio líquido por hora [1]. Con este rustico equipamiento
emprendieron las pruebas preliminares y luego de mucho esfuerzo, durante una
medición nocturna lograron obtener la primera curva que mostraba la dependencia
exponencial de la corriente con la distancia de separación entre la punta y la muestra,
característica fundamental de una corriente originada por efecto túnel. Este momento lo
describe Heinrich Rohrer con las siguientes palabras: “Esto ocurrió la fenomenal noche
del 16 de marzo de 1981, después de lo cual la excitación en el laboratorio era
verdaderamente impresionante…” [1]. Luego de 27 meses de arduo trabajo había
nacido el microscopio de efecto túnel. Era tal el ambiente que se vivía en el laboratorio
que sintieron que era el momento idóneo para hacer público su descubrimiento. Así se
animaron a enviar su primer trabajo a una revista especializada… “eso fue una buena
señal”, les dijo Nicolás García, un colega de la Universidad Autónoma de Madrid,
cuando se enteraron que el trabajo había sido rechazado [1].
Lejos de desanimarse, decidieron mejorar sus resultados. Para ello, lograron

construir un microscopio operando en condiciones de UHV (esta vez sin cinta
scotch!!!), con una cámara donde era posible preparar las muestras por calentamiento y
bombardeo iónico. Con este nuevo diseño, en el otoño del '82 lograron observar la
hermosa reconstrucción 7×7 de la superficie del Si(111). “No podía parar de observar
las imágenes. Es como si estuviera entrando a un nuevo mundo…” comentaba
Binnig [1]. Luego de este importante paso decidieron tomarse unos días en los Alpes
Suizos, donde escribieron otro trabajo acerca del nacimiento de un nuevo microscopio,
el cual permitía por primera vez observar en espacio real los átomos de una superficie
metálica. Así hicieron un segundo intento por publicar en una importante revista. Esta
vez, luego de leer y analizar el trabajo, el referee les contestó lo siguiente: “… el trabajo
es virtualmente carente de discusión teórica, sin ningún tipo de novedad conceptual…
Yo personalmente estoy interesado en el comportamiento de la superficie del oro y de
iv
otros metales. Sin embargo, ¿Por qué debería estar entusiasmado por los resultados de
su trabajo?...” la respuesta la obtuvo unos años más tarde. Innumerables publicaciones
experimentales y teóricas, coronadas con el premio Nobel de Física a menos de 4 años
de aquella respuesta [1], marcaron el nacimiento de una técnica que se ha constituido en
nuestros “ojos” y “dedos” en el nanomundo.
v
Resumen
En esta tesis se estudian dos tipos de superficies nanoestructuradas, generadas

sobre muestras de grafito pirolítico altamente orientado (HOPG, del inglés highly
oriented pyrolytic graphite) luego de ser bombardeada con iones de Ar+ y cobre
monocristalino en su orientación (100), “Cu(100)”, luego de depositarle fluoruro de
aluminio (AlF3). En la superficie de ambos materiales usados como substratos, se
generan estructuras a escala nanometrica, en un caso producidas por la cascada de
colisiones que provocan los iones de Ar+ al colisionar con la superficie de grafito, y en
el otro, debido a la formación de islas de AlF3 sobre la superficie de cobre. Los estudios
de las nanoestructuras generadas se realizan principalmente mediante la técnica
microscopia de efecto túnel (STM, del inglés Scanning Tunneling Microscopy).
En el capítulo 1 de esta tesis se describen los procedimientos usados para

preparar las puntas y las muestras usadas en los experimentos de STM. Así como
también, se realiza una breve descripción de otras técnicas experimentales usadas a lo
largo de los estudios que se presentan en este trabajo. Los conceptos fundamentales de
la microscopía de efecto túnel son resumidos en el apéndice A.
En el capítulo 2 de esta tesis, se presentan los estudios realizados sobre la

superficie (0001) del HOPG luego de ser bombardeada con iones de Ar+. Dicho
bombardeo genera una serie de colinas en la superficie, producto de la cascada de
colisiones que provoca el ión en su camino. Dichas colinas, suelen perturbar la
periodicidad del arreglo atómico del grafito generando la formación de estructuras
denominadas superestructuras (SS, del inglés Super Structures). Las SS conforman un
arreglo periódico que presentan una separación entre “átomos” mayor al que
corresponde al HOPG. En los estudios realizados para esta tesis, se reporta por primera
vez la coexistencia de dos tipos de SS diferentes, las Moiré y (√3√3)R30º. Por otro
lado, se muestra que una de las SS más frecuentemente reportadas para grafito, la
vi
“honeycomb”, no es una superestructura en sí misma, sino que es el resultado de la
superposición de dos SS.
En el capítulo 3 se estudia el crecimiento de AlF3 sobre una superficie de

Cu(100) en función del recubrimiento. Por medio de simulaciones Monte Carlo se
muestra que las características más relevantes del crecimiento pueden ser entendidas
sobre la base de factores geométricos y cinéticos, sin consideraciones de esfuerzos entre
las islas y el substrato como había sido propuesto por otros grupos [2]. Estos resultados,
además de mostrar por primera vez imágenes STM de las islas de AlF3 sobre una
superficie de Cu(100), son un importante aporte para el estado del conocimiento del
inusual crecimiento de islas fractales sobre superficies con geometría cuadrada.
Finalmente en el capítulo 4 de esta tesis, se estudian los efectos de la

temperatura en la forma y composición de las islas usando 5 diferentes técnicas
experimentales. Por un lado, usando la técnica STM de temperatura variable (VT-STM,
del inglés Variable Temperature STM ) se estudia el crecimiento de las islas de AlF3 a
250 y 300 K, a partir de lo cual se muestra que al bajar la temperatura aumenta la
densidad de islas y su forma se vuelve claramente más dendrítica, dándole mayor
soporte a las simulaciones de Monte Carlo realizadas. Por otro lado, se estudia los
efectos de la temperatura en la forma y composición de las islas luego de ser sometidas
a recocidos entre 300 y 700 K. Estos estudios muestran que las islas de AlF3 presentan
cambios de forma a 500 y 575 K y se desorben por completo a 700 K.
vii
Introducción
Podría decirse que el actual auge de los materiales nanoestructurados empezó en

1959, cuando el físico Richard Feynman propuso explorar los materiales a una escala
nanométrica en su célebre charla “Hay mucho lugar en el fondo” (There´s plenty of
room at the bottom). Seguidamente, en 1974 el término “nanotecnología” fue
introducido por Taniguchi, y en la década de los '80 popularizado por Drexler, al
introducir el concepto de manufactura molecular [3]. Sin embargo, a pesar del reciente
origen de la palabra nanotecnología, los denominados materiales nanoestructurados han
estado presentes desde tiempos muy antiguos. Un interesante ejemplo de ello es el caso
del “azul Maya”, un pigmento de color verde azulado, fabricado por los pueblos
originarios de Mesoamérica durante los siglos VII-VIII. Este pigmento, muy valorado
por la belleza de su tonalidad verde azulada, ha sido recientemente catalogado como un
material nanoestructurado en un trabajo publicado en la prestigiosa revista
“Science” [4].
Los materiales nanoestructurados se distinguen de los materiales policristalinos

convencionales por el tamaño de las unidades estructurales que los componen (de 1 a
100 nm aproximadamente), lo cual frecuentemente provoca cambios drásticamente
diferentes en sus propiedades. Por ejemplo, las propiedades eléctricas de una pieza de
cualquier metal no varían aunque su tamaño sea unos pocos milímetros ó cientos de
kilómetros. Sin embargo, tan pronto como el tamaño del metal se aproxima a la escala
atómica, todas las propiedades macroscópicas del material cambian. Así, mientras que
macroscópicamente el oro es mejor conductor que el plomo en un orden de magnitud,
para conducciones hechas a través de un solo átomo, el plomo es mejor conductor que el
oro en un factor tres [5].
Actualmente existen dos enfoques aplicados a la fabricación de materiales

nanoestructurados, el enfoque “top–down” donde las nanoestructuras son construidas
viii
partiendo de un material de mayor dimensión, y el enfoque “bottom–up” donde las
nanoestructuras se generan a partir del ordenamiento de unidades de menor dimensión.
En el enfoque “bottom–up” se trata de explotar el orden impuesto por factores que son
inherentes al sistema, contrario al “top–down” que trata más bien de imponerles un
orden por una fuente externa. Si bien las actuales técnicas de fabricación de interés
comercial, como los diferentes tipos de litografías, caen sin excepción dentro del
enfoque “top–down”, se espera que las técnicas de fabricación “bottom–up”
desempeñen un papel cada vez más importante en el futuro [6,7]. Por ello, en esta tesis
se abordara el estudio de dos materiales nanoestructurados, fabricados bajo el enfoque
“bottom–up”, el grafito tipo HOPG luego de ser bombardeo con Ar+ y el Cu(100) luego
de depositarle fluoruro de aluminio (AlF3).
En los estudios realizados sobre HOPG se reporta por primera vez la

coexistencia de una superestructura del tipo Moiré y una (√3√3)R30º, aportando
evidencia experimental de que las SS (√3√3)R30º pueden ser formadas aún cuando
exista una rotación de la última capa del grafito. Esto, podría ser de gran interés para
ayudar a entender el origen de estas SS, y la correlación existente entre la estructura
electrónica y el re-arreglo atómico del grafito. Asimismo, se propone un modelo para
explicar el origen de la llamada superestructura “honeycomb” a partir de la
superposición de dos SS (√3√3)R30º. Este modelo muestra que la superposición de dos
SS (√3√3)R30º origina un nuevo arreglo periódico, el cual a nuestro entender no es
una superestructura en sí misma, como ha sido reportada erróneamente.
Por otro lado, el crecimiento de películas delgadas de aisladores sobre

superficies metálicas es un tópico que ha atraído gran interés en los últimos años en la
industria relacionada con la microelectrónica avanzada, dispositivos ópticos y
magnéticos, entre otros. En particular el fluoruro de aluminio (AlF3) ha despertado
particular interés debido a sus potenciales aplicaciones a escala nanométrica como
patrones en litografía de haces de electrones. Esto se debe a que bajo irradiación
electrónica el AlF3 presenta radiólisis, es decir se desorbe el fluoruro con la consecuente
formación de aluminio metálico. Entre los resultados presentados en esta tesis se
ix
presentan las primeras imágenes STM reportadas del crecimiento de AlF3 sobre una
superficie de Cu(100). Dichas imágenes muestran islas de forma fractal (aleatoriamente
ramificadas) de AlF3, lo cual es muy inusual que ocurra para superficies con geometría
cuadrada, como es el caso del Cu(100). Por medio de simulaciones Monte Carlo se
muestra que la mayoría de las características del crecimiento pueden ser entendidas
sobre la base de factores geométricos y cinéticos, sin consideraciones de esfuerzos
generados entre las islas y el substrato durante el crecimiento, como habia sido
propuesto por otros investigadores [2,8]. Finalmente, se estudio el efecto de la
temperatura sobre las islas de AlF3 por medio de 5 técnicas experimentales diferentes:
espectroscopia electrónica de pérdida de energía (EELS del inglés Electron Energy Loss
Spectroscopy), espectroscopia de electrones Auger (AES del inglés Auger Electron
Spectroscopy), dispersión de átomos neutros con energías térmicas (TEAS del inglés
Termal Energy Atom Scattering), difracción de electrones de baja energía (LEED) y
microscopia de efecto túnel.
x
Capítulo 1 El Sistema experimental
1.1 Características generales

Los experimentos que se presentan en esta tesis se realizaron en el Laboratorio
de Física de Superficies e Interfaces (LASUI) del Instituto de Desarrollo Tecnológico
para la Industria Química (INTEC), en un sistema experimental denominado “Super
STM/UHV” diseñado y ensamblado por el Dr. Mario C. G. Passeggi (h). Mucho de los
componentes de este sistema fueron construidos en el taller mecánico del INTEC
durante el transcurso de esta tesis. El sistema experimental está compuesto básicamente
por una cámara principal y una pre-cámara de preparación interconectadas entre sí,
ambas en condiciones de ultra alto vacio (UHV, del inglés Ultra High Vacuum). Una
fotografía y la proyección isométrica del sistema “Super STM/UHV”, se muestra en la
Figura 1.1 y 1.2, respectivamente.
xi
Figura 1.1: Fotografía del sistema experimental “Super STM/UHV” instalado en el laboratorio de Física de
Superficie e Interface del INTEC, en Santa Fe, Argentina.
En la proyección isométrica, mostrada en la Figura 1.2, se encuentran indicados

los principales componentes del sistema. La cámara principal (número 1), la cual está
equipada con un microscopio de efecto túnel del tipo “Beetle”(9) (número 2), una
alacena/“parking” (número 3) donde se pueden posicionar hasta 10 porta-muestras y
porta-puntas para su posterior uso, un manipulador (número 4) por medio del cual es
posible mover los porta-muestras, o porta-puntas, desde la alacena/“parking” hacia el
microscopio o el sistema de calentamiento de puntas. Además está equipada con un
manipulador de puntas (número 5) por medio del cual se cambian las puntas del
microscopio sin romper las condiciones de UHV, una bomba iónica THERMIONICS
[10] modelo NP-200-DE (número 6), con la cual se alcanza una presión base de 1×10-10
Torr. La cámara principal además está equipada con una bomba sublimadora de titanio,
el sistema de calentamiento de puntas por bombardeo electrónico, un manómetro de
ionización, una segunda alacena de 4 plazas, válvulas y otros elementos no mostrados
en el diagrama.
2
Figura 1.2: Proyección isométrica del sistema experimental “Súper STM/UHV”, donde se enumeran las partes
más relevantes del equipo. Dibujado con un programa CAD 3D.
La pre-cámara de preparación (numero 7) es el lugar donde se limpian las

muestras mediante ciclos de bombardeo iónico y calentamiento, y donde se realizan las
evaporaciones. Las muestras pueden ser trasladas entre las cámara y la pre-cámara
usando la barra de manipulación magnética (número 8). El vacio en la pre-cámara de
preparación se realiza mediante una bomba turbomolecular PFEIFFER [11] modelo
TC-600 (número 9) conectada en serie con una bomba rotatoria ALCATEL modelo
2012A (no mostrada en la figura), lo cual permite alcanzar una presión base de
1×10-8 Torr. Además de los elementos mencionados, esta pre-cámara se encuentra
equipada con un sistema de calentamiento de muestra, evaporadores, válvulas,
manómetro de ionización y un cañón de iones PHYSICAL ELECTRONICS [12]
modelo 20-115.
3
1.2 Preparación de muestras.
La mayoría de los procedimientos de preparación de muestras en UHV consisten
de ciclos de bombardeo con iones de gases nobles y un posterior calentamiento para
reconstruir la superficie bombardeada. Nuestro sistema de preparación de muestras se
encuentra ubicado en la pre-cámara de preparación del equipo y consiste de un cañón de
iones y un calentador de muestras, indicados con los números 1 y 3 en la Figura 1.3. En
esta imagen se puede apreciar la muestra de cobre sostenida en la punta de la barra de
manipulación magnética (indicada con el número 8 en la Figura 1.2) la cual permite
colocar la muestra en posición de bombardeo y/o calentamiento, o en posición de
deposición (frente del evaporador), entre otras.
El cañón de iones consta de una cámara de ionización, un sistema de aceleración

y uno de enfoque. En la cámara de ionización, un filamento caliente emite electrones
por emisión termoiónica, los cuales son acelerados hacia una grilla polarizada
positivamente. En su trayectoria hacia la grilla los electrones ionizan el gas, los iones
generados son forzados a salir de la cámara de ionización, siendo luego enfocados por
un sistema de lentes. Este cañón de iones nos permite acelerar iones con energías entre
0.5 y 5.0 keV, para bombardear muestras y puntas durante el procedimiento de
preparación de las mismas.
4
Figura 1.3: Fotografía del sistema de bombardeo y calentamiento de muestra. En la
foto se indican el cañón de iones (1), porta‐muestra con un monocristal de cobre en
su interior (2), y el calentador de muestras (3).
El calentador de muestras indicado en la Figura 1.3 es mostrado con mayor

detalle en la Figura 1.4. Este consiste de un filamento de tungsteno toriado (W-Th) de
0.125 mm de diámetro (número 1), a través del cual se suele hacer circular una corriente
de 2.7 A, para así poder aumentar la temperatura de la muestra hasta unos 675 K
aproximadamente. Además de esto, el sistema de calentamiento cuenta con dos pines de
alta tensión (número 2), los cuales al hacer contacto con la muestra permiten variar la
tensión de la misma, provocando que los electrones emitidos termoiónicamente por el
filamento sean acelerados hacia la muestra. Producto de este bombardeo electrónico se
puede variar la temperatura de la muestra desde 700 K (temperatura alcanzada sin
bombardeo electrónico) hasta más de 1300 K. Finalmente, la temperatura es medida por
una termocupla de Chromel-Alumel (número 3), la cual se coloca en contacto directo
con el porta-muestra y permite medir con precisión la temperatura en la muestra.
Otro componente importante del sistema experimental, utilizado durante la

realización de esta tesis, es el evaporador de fluoruro de aluminio (AlF3). Los
evaporadores son usados en los estudios de crecimiento para depositar cantidades
controladas de material sobre una superficie dada. En la Figura 1.5, se muestra una
5
representación esquemática del evaporador usado en los experimentos presentados en
este trabajo doctoral. La parte exterior del evaporador está formada por dos tuberías por
donde entra y sale agua de la camisa de refrigeración, lo cual permite que no se caliente
innecesariamente la parte exterior del evaporador y sus alrededores. El evaporador
también está equipado con un “shuttle” u obturador, el cual se usa para controlar con
una mayor precisión la cantidad de material depositado sobre la muestra, bloqueando o
desbloqueando el paso del material a evaporar. Las tuberías, el manipulador, el
obturador y la camisa refrigeradora se construyeron en acero inoxidable del tipo 316L.
La parte interior del evaporador, que va ubicado dentro de la camisa

refrigeradora, está formada por una cerámica que sirve como soporte de las conexiones
eléctricas del evaporador. Sobre ella van montados 4 pines de W de 1.0 mm de
diámetro, tres de ellos sirven de soporte para dos filamentos hechos con alambre de W
de 0.127 mm de diámetro. El pin restante sirve de soporte de la cazoleta de evaporación
donde se coloca el material que se desea evaporar (AlF3 en este caso). Este pin también
es usado para aplicar alta tensión a la cazoleta, de forma tal que se puedan alcanzar
mayores temperaturas por bombardeo electrónico. La cazoleta lleva soldada una
termocupla tipo K, la cual permite saber con precisión la temperatura a la cual está
sometida el material a evaporar.
Figura 1.4: Fotografía del calentador de muestras, en la

misma se observan (1) el filamento de W‐Th, (2) los pines de
alta tensión y (3) la termocupla de Chromel‐Alumel.
6
Figura 1.5: Esquema del evaporador instalado en nuestro sistema experimental.
Durante el funcionamiento del evaporador se hace circular agua por el circuito

de refrigeración y simultáneamente se enciende uno de los dos filamentos disponibles,
haciéndole circular una corriente de 2.3 A, mientras que la cazoleta es elevada a unos
+300 V aproximadamente, de manera tal que los electrones emitidos termoiónicamente
por los filamentos sean acelerados hacía ella, aumentando su temperatura por
bombardeo electrónico, logrando la temperatura necesaria para sublimar el material que
se encuentra en su interior. Durante las evaporaciones de fluoruro de aluminio
desarrolladas en esta memoria, una vez alcanzada una temperatura de 775 - 825 K,
dependiendo de la velocidad de evaporación deseada, se deja termalizar el evaporador
alrededor de 10 minutos de manera tal de estabilizar el flujo de material evaporado. Una
vez el evaporador estabilizado, se coloca la muestra en la posición de evaporación y se
abre el obturador para empezar la deposición. Finalmente, una vez transcurrido el
tiempo de evaporación, se cierra el obturador y se aleja la muestra de la posición de
evaporación para evitar evaporaciones no deseadas, y/o deposición de impurezas
provenientes del evaporador. Es importante mencionar, que para poder mantener las
condiciones de limpieza y poder realizar deposiciones en el orden de las monocapas, es
necesario que el evaporador y sus alrededores hayan sido correctamente “degasados”,
antes de realizar cualquier tipo de deposición, para evitar así la deposición de impurezas
no deseadas sobre la muestra.
7
1.2.1 Muestras de grafito tipo HOPG
El grafito pirolítico altamente orientado (HOPG, del inglés Highly Oriented
Pyrolytic Graphite) es una forma relativamente nueva de carbono de alta pureza que
provee a los microscopistas de una superficie atómicamente lisa. El HOPG está
caracterizado por enlaces del tipo sp2 en los cuales la longitud del enlace C-C es de
aproximadamente 0.142 nm. Los planos del cristal están unidos por fuerzas débiles del
tipo Van der Waals, lo cual facilita el deslizamiento de las capas del grafito,
característico de ese material [13]. Estas fuerzas débiles de Van der Waals son las que
posibilitan obtener una superficie atómicamente lisa, luego de realizar un simple clivaje
de las capas más superficiales con cinta adhesiva.
Es bien sabido que el HOPG es químicamente inerte en condiciones ambientales

[14,15], razón por la cual las muestras de HOPG usadas en esta memoria fueron
preparadas mediante un simple clivaje con cinta adhesiva a presión atmosférica, e
introducidas inmediatamente en la cámara de vacío sin necesidad de otro procedimiento
de limpieza en UHV.
1.2.2 Muestras de Cu(100)

Para obtener una superficie de Cu(100) apropiada para experimentos STM, es
decir libre de contaminantes y atómicamente plana, el procedimiento resulta más
complicado que el mostrado para el HOPG. Dependiendo del grado de impurezas y
rugosidad presente en la muestra, la preparación de la superficie de la misma suele
realizarse en un proceso de dos etapas. La primera etapa, la cual se realiza solo si la
muestra presenta un grado de rugosidad o contaminación superficial muy elevados (por
lo general perceptibles a simple vista) se inicia mediante un pulido mecánico para
posteriormente realizar un pulido electroquímico. Una vez terminada esta etapa se
introduce la muestra en la pre-cámara de preparación para llevar a cabo la segunda etapa
de limpieza en condiciones de UHV. En esta etapa se termina de limpiar la muestra a
partir de ciclos de bombardeo iónico con gases nobles, generalmente Ar+, y posterior
recocido a 900 K. Habitualmente las muestras se encuentran en condiciones de UHV,
por lo cual solo es necesario realizar ciclos de bombardeo y calentamiento para obtener
8
una superficie atómicamente plana y con un grado de contaminantes inferior al límite de
detección de técnicas como espectroscopia de electrones Auger (AES del inglés Auger
Electron Spectroscopy) o espectroscopia de rayos X (XPS, del inglés X-ray
Photoelectron Spectroscopy). La muestra utilizada para realizar las experiencias
descriptas en esta memoria fue un monocristal de cobre con orientación (001), de
10 mm de diámetro y 1 mm de espesor, cortado con una precisión ≤ 1° y pulido con una
rugosidad menor a 0.03 μm.
1.2.2.1 Pulido mecánico

Básicamente, se le realiza este tipo de pulido a muestras con un alto grado de
rugosidad y/o contaminación, apreciables a simple vista. Se empieza mediante un pulido
grueso con lija de agua número 1200 (o incluso de un número de grano mayor si fuera
necesario), a fin de eliminar las rayas que se observan a simple vista. Posteriormente se
limpia la superficie con abundante agua destilada y alcohol, para eliminar granos del
pulido que pudiesen quedar en la superficie. A continuación, se procede con un pulido
fino con polvo de alúmina, ó pasta de diamante, de 30 µm disuelto en un aceite especial
para pulido, describiendo un movimiento en forma de “ochos” sobre un tapiz de
terciopelo. A medida que se dejan de observar las rayas del pulido anterior, se va
disminuyendo paulatinamente el tamaño del grano de la alúmina, o pasta de diamante,
hasta llegar a un tamaño de grano menor o igual a 0.3 µm. Al final de cada etapa se
eliminan los granos del pulido que pudieran quedar adheridos a la muestra con
abundante agua destilada y alcohol, y se cambia el paño de pulido a fin de no mezclar
granos de diferentes tamaños. Una vez finalizado el pulido mecánico, es especialmente
importante eliminar los restos de alúmina o pasta de diamante que pudieran haber
quedado sobre la superficie de la muestra. Para ello, es limpiada con abundante agua
destilada, y luego sumergida en etanol se realizan al menos dos baños de limpieza
ultrasónica, cambiando el líquido al finalizar cada uno de los baños. Finalmente, la
muestra se seca con nitrógeno antes de iniciar el pulido electroquímico.
9
1.2.2.2 Pulido electroquímico
Este tipo de pulido es más fino que el mecánico y busca eliminar rugosidades del
orden de unas pocas decimas de micra, presentes en la superficie de las muestras. En la
Figura 1.6 se muestra el montaje experimental usado en el LASUI para realizar este
proceso. Para el caso del cobre, la muestra se sujeta cuidadosamente con un hilo de
cobre limpio y se introduce como ánodo en una solución de 74% H3PO4: 17% H2O:
9% H2SO4. Esta solución se encuentra en un envase de vidrio, junto con una chapa de
cobre que hace las veces de cátodo en nuestra celda. Vale la pena destacar que tanto la
chapa como el hilo de cobre utilizados para sujetar el monocristal, deben ser
cuidadosamente lavados con alcohol y posteriormente con H3PO4 antes de ser
ingresados en la solución. El ataque electroquímico se realiza aplicando una diferencia
de potencial de 1.88 V de corriente continua, con el terminal positivo conectado al
monocristal de cobre (ánodo) y el negativo a la chapa de cobre usada como cátodo.
Conectando dos multímetros en serie se puede medir el voltaje y la corriente que circula
por la celda. La corriente inicial depende del área de cobre sumergida en la solución,
área superficial del hilo y monocristal, una corriente inicial típica en nuestro sistema
estaba en el orden de los 300 mA. Esta corriente cae exponencialmente con el tiempo y
luego de transcurridos 1-2 minutos suele llegar a valores de ≈ 15 mA.
Figura 1.6: (a) Fotografía del montaje experimental para realizar pulidos electroquímicos; (b) Detalles de las
conexiones sobre el monocristal y ánodo de cobre.
10
Una vez iniciado el pulido electroquímico debe moverse la muestra
continuamente de arriba a abajo, de forma tal que se logren desprender las burbujas
adsorbidas en la superficie. Al finalizar el pulido, se retira la muestra de la solución y se
enjuaga con abundante agua destilada y posteriormente con etanol, para finalmente
secarla con nitrógeno. Finalmente, se observa la muestra en un microscopio óptico
usando un aumento de 50X, si la muestra no presenta rayas en la superficie el
procedimiento ha concluido, de lo contrario resulta necesario repetir el procedimiento
de limpieza desde el pulido mecánico, usualmente desde el pulido mecánico fino.
1.2.2.3 Limpieza en UHV (bombardeo y calentamiento)

Una vez que la muestra es ingresada en la pre-cámara y se encuentra en
condiciones de UHV, se puede realizar el más fino de los procedimientos de limpiezas
descritos en esta memoria, la limpieza por bombardeo y calentamiento. Este
procedimiento, también conocido como IBA (del inglés, Ion Bombardment and
Annealing), es usado desde los comienzos de la ciencia de superficies y es el método
más empleado para limpieza de todo tipo de muestra en condiciones de UHV [16].
Cuando un proyectil atómico de algunos keV’s de energía incide sobre un

material, primero colisiona con los átomos superficiales y luego, a medida que continua
hacia el interior del material, sufre sucesivas colisiones entregando energía a los átomos
del blanco, los cuales a su vez pueden ser expulsados de sus posiciones de equilibrio y
colisionar con otros átomos, generando así, una cascada de colisiones. La interacción de
la cascada con la superficie provoca la emisión de átomos del sólido. La remoción de
estos átomos producto del bombardeo iónico es mejor conocida como erosión iónica o
“sputtering”.
La remoción de átomos del sólido producto del bombardeo iónico produce

muchos defectos sobre la superficie de la muestra. Aunque en el caso del cobre, algunos
de estos defectos desaparecen debido a la rápida auto-difusión a temperatura ambiente,
la superficie luego del bombardeo queda con múltiples agujeros a escala atómica, tal
como se muestra en la Figura 1.7(a). En este caso, aun cuando la superficie está limpia,
la misma presenta muchos escalones que no suelen ser deseables para realizar
11
experimentos de crecimiento. Por ello, para obtener una superficie apropiada para los
experimentos, se somete la muestra a un calentamiento luego del bombardeo. En
general, se recomienda utilizar una temperatura cercana a las 2/3 partes de la
temperatura de fusión del cristal (TfCu= 1358 K) [16]. En la Figura 1.7(b) se muestra la
superficie del Cu(100) luego de un tratamiento de limpieza realizado con bombardeo
iónico de Ar+ y calentamiento a 900 K en UHV.
Si bien es cierto que mientras mayor sea la temperatura de calentamiento mayor

es la difusión de los átomos de cobre, lo cual permitiría una reconstrucción más rápida
de la superficie, hay que tener en cuenta que a partir de 925 K se produce una
importante segregación de azufre del volumen hacia la superficie, por lo cual existe un
compromiso con la temperatura utilizada. Debe ser lo suficientemente alta como para
obtener una superficie atómicamente plana de cobre, pero a su vez lo suficientemente
baja para minimizar la segregación de azufre hacia la superficie. Una imagen típica de
la superficie luego de un calentamiento excesivo en temperatura se muestra en la
Figura 1.7(c), donde se observan múltiples puntos brillantes en los escalones de la
muestra, los cuales son atribuidos a azufre segregado desde el interior del monocristal.
Esta superficie, al igual que la mostrada en la Figura 1.7(a), tampoco es apropiada para
realizar experimentos de crecimiento.
Para obtener una superficie limpia, con terrazas amplias y sin azufre, como se
muestra en la Figura 1.7(b), fue necesario realizar ciclos de bombardeo iónico a
Figura 1.7: Imágenes STM (1000 nm × 1000 nm) que muestran superficies típicas de un monocristal de Cu(100),
para las cuales a la preparación: (a) le ha faltado calentamiento, (b) ha sido la adecuada, y (c) ha tenido un
calentamiento excesivo, observándose mucho azufre en los escalones.
12
energías de 0.5-1.0 keV con una presión parcial de Ar+ de 1×10-5 Torr por 10 min
(1.60 μA/cm2), y un calentamiento posterior de la muestra a unos 900 K por espacio de
5 minutos y a una presión igual o menor a 1×10-7 Torr. Para el bombardeo y
calentamiento se uso el cañón de iones y calentador de muestras descripto en el apartado
1.2 de este capítulo.
1.3 Preparación de puntas

En los experimentos STM existen dos electrodos. Mientras que uno de ellos, la
muestra, suele ser fácilmente controlable con las técnicas habituales de preparación, el
otro electrodo, la punta, resulta mucho más difícil de controlar, a pesar de los esfuerzos
realizados para ello. En los comienzos de la microscopia de efecto túnel, las puntas eran
hechas simplemente afilando una varilla de tungsteno (W) con una lima de taller. Con el
paso del tiempo se fueron desarrollando métodos más efectivos y reproducibles para
prepararlas. Dependiendo del experimento que se quiera realizar se suelen usar puntas
de distintos materiales, cada una de las cuales se prepara de una forma particular.
Durante los experimentos realizados en este trabajo de tesis, se usaron puntas de
platino-iridio (Pt-Ir) las cuales se preparan por medio de un corte mecánico con tijeras,
y puntas de W las cuales fueron preparadas electroquímicamente para posteriormente
ser bombardeadas con iones de Ar+ y calentadas en condiciones de UHV.
En la Figura 1.8, se muestra una serie de micrografías de puntas STM obtenidas

mediante la técnica de microscopia electrónica de barrido (SEM, del inglés Scanning
Electron Microscopy), como parte de un esfuerzo hecho durante el desarrollo de esta
tesis para lograr un método más efectivo y reproducible de preparar puntas STM. En la
Figura 1.8(a) y 1.8(b), se muestran imágenes de una punta típica de Pt-Ir cortada con
tijera, y de una punta de W preparada electroquímicamente, respectivamente; así como
también se muestran imágenes de puntas con algunos de los defectos más comúnmente
encontrados en puntas STM, (c) formas muy irregulares que inducen vibraciones en las
imágenes STM, (d) chocadas, (e) recubiertas con capas de óxidos o contaminantes que
disminuyen la corriente túnel y (f) dentadas (con múltiples puntas).
13
Figura 1.8: Puntas con las cuales típicamente se suelen obtener buenas imágenes STM: (a) cortada con tijera y (b)
preparada electroquímicamente. Puntas con defectos típicos que suelen dificultar la obtención de buenas
imágenes STM: (c) punta con formas irregulares; (d) punta chocada; (e) punta con capas gruesas de óxidos o
contaminantes; (f) puntas dentadas.
Vale la pena destacar que durante el desarrollo de este trabajo de investigación,

además de la caracterización de las puntas STM por medio de las imágenes de SEM, las
puntas también fueron caracterizadas por microscopia óptica y por inspección a simple
vista, entre otras técnicas. Al igual que lo reportado por diversos grupos de
investigación, hallamos que un método efectivo para caracterizar puntas consiste en
observarlas con un microscopio óptico con una ampliación de 100X, y realizar una pre-
selección de puntas, descartando aquellas que presenten los defectos mostrados en las
Figura 1.8(c)-1.8(f). Sin embargo, a partir de este simple método de pre-selección no es
posible determinar a priori, cual punta servirá para obtener buenas imágenes STM. De
cualquier manera hasta hoy en día probar las puntas en el STM, prueba “in situ”, sigue
siendo el método más efectivo para determinar el estado de una punta.
14
1.3.1 Puntas de Pt‐Ir
Es bien sabido, que materiales relativamente inertes como el Pt-Ir, resultan
apropiados para la construcción de puntas STM para trabajar en condiciones
atmosféricas, debido a que son menos propensos a generar capas de óxidos y
contaminantes que impidan adquirir buenas imágenes STM, incluso luego de varias
semanas de uso [17]. Otra ventaja de las puntas de Pt-Ir, es el hecho de que
rutinariamente pueden obtenerse buenas puntas STM por medio de un simple corte
mecánico con tijera. Sin embargo, la contraparte del uso de puntas cortadas con tijeras
radica en que estas suelen presentar múltiples puntas, razón por la cual resultan
recomendables solo para estudios sobre superficies muy planas [18]. Preparando las
puntas de Pt-Ir electroquímicamente se suele evitar los problemas relacionados con las
puntas cortadas a tijera, debido a su forma mucho más uniforme. Sin embargo, debido a
la naturaleza inerte del platino, se necesitan procedimientos de ataque electroquímico
muy largos, ó peligrosas soluciones químicas [17]. Procedimientos para producir puntas
de Pt-Ir por ataque electroquímico, son descriptos por Roger et al. [17] y Sorensen et al.
[18], entre otros.
Las puntas utilizadas en esta memoria, se obtuvieron a partir de un alambre de

Pt80-Ir20 de 0.250 mm de diámetro cortadas con tijera a un ángulo de 60º
aproximadamente, por un procedimiento de corte y tirado de un solo movimiento, en el
cual la primera parte del corte se produce por acción de la tijera y la parte final (donde
estaría la punta STM) se corta por acción del tirado. De cada 5 puntas preparadas por
este método suelen obtenerse 3 puntas con las cuales obtener imágenes con resolución
atómica en grafito.
1.3.2 Puntas de W
Las puntas de W usadas en los experimentos descriptos en este trabajo fueron
preparadas electroquímicamente. A diferencia de las puntas de Pt-Ir, las puntas de W no
son preparadas mediante un corte con tijera, debido a la dureza del material y a que
suele astillarse luego de un corte mecánico. Uno de los grandes problemas de las puntas
de W, es que las mismas suelen contaminarse durante el procedimiento electroquímico
15
de preparación. Los contaminantes típicos son: H2O, CO, H2, O2, hidrocarbonos,
residuos de solución (KOH o NaOH), y oxido de tungsteno WO3 [19]. Esos óxidos y
contaminantes causan corrientes de efecto túnel inestables, lo cual puede originar
choques entre la punta y la muestra con el subsecuente daño de la punta.
Para el ataque electroquímico de las puntas de W, se uso una solución 2 M de

KOH como electrolito, donde se introduce una punta y un anillo, ambos de alambre de
W de 0.250 mm de diámetro, a los cuales se les aplica una diferencia de potencial de
5 - 15 V de corriente alterna. Durante el ataque la corriente va disminuyendo con el
tiempo debido a que la resistencia de la celda aumenta cuando el área del alambre en
contacto con el electrolito va disminuyendo [19]. Eventualmente, el alambre de W se
rompe, en nuestro sistema esto suele suceder luego de 5 minutos de ataque
electroquímico, después de lo cual la punta se enjuaga con un chorro de agua destilada y
otro de etanol, para posteriormente ser introducida en la pre-cámara de preparación.
Una vez que la punta de W se encuentra en condiciones de UHV, es

recomendable quitar los óxidos y contaminantes que quedaron en su superficie,
producto del ataque electroquímico. Diversos autores han propuesto diferentes y
variados métodos para remover los óxidos y contaminantes de las puntas de W, sin
embargo el método elegido para preparar puntas a lo largo de este trabajo ha sido el
bombardeo con iones de Ar+ y calentamiento en UHV. El sistema de calentamiento de
puntas se encuentra en la cámara principal del equipo experimental. El mismo consiste
de un filamento de tungsteno toreado (W-Th) de 0.150 mm de diámetro por el cual se
hace circular una corriente, Ifil. Este filamento suele acercarse a 1mm aproximadamente
del extremo de la punta a calentar, mediante una serie de manipuladores que permiten
desplazamientos del mismo en X-Y-Z. Una vez que la punta se encuentra en posición de
calentamiento, se aplica una diferencia de potencial de 1000 V entre esta y el filamento,
provocando la emisión de electrones desde el filamento hacia la punta (corriente de
emisión, Iemi). Debido al efecto campo, la mayor parte de la corriente de emisión se
concentra en el extremo de la punta provocando el calentamiento local de la misma a
16
partir de lo cual el WO3 presente en la punta reacciona con el W metálico, de acuerdo a
la siguiente ecuación:
Mientras que el WO2 sublima a 1075 K, el W en cambio se funde a 3685 K, lo

cual permite que durante el calentamiento el WO2 sublime sin desafilar la punta a
temperaturas entre 1075 - 3685 K. En nuestro sistema calentamos las puntas durante 10
segundos usando una corriente de filamento (Ifil) de 3 A, y una diferencia de potencial
entre punta y filamento de 1000 V. Este sistema permite alcanzar corrientes de emisión
del orden de los 100 mA, lo que supone una potencia de calentamiento sobre la punta de
100 W.
Un procedimiento típico de preparación de puntas consiste en calentar la punta

con una potencia de 100 W durante 10 segundos, como recién describimos, para
posteriormente bombardearla con iones de 1 KeV a una presión parcial de 1×10-5 Torr
de Ar por espacio de 10 minutos. Diversos autores han explicado el afilado de las puntas
por bombardeo iónico a partir de un mecanismo de formación de “cuello” en la punta y
posterior “decapitación” [19,20], mejor conocido como mecanismo de decapitación de
Schiller [20]. En este mecanismo, se define el cuello como la zona donde ocurre un
mayor desgaste en la punta debido al bombardeo iónico (Figura 1.9(a)), y la
“decapitación” de la misma como el momento a partir del cual el extremo de la punta se
desprende debido a la excesiva pérdida de material ocurrido en el cuello de la misma
(ver Figura 1.9(c)). De acuerdo a Schiller et al. [20], la formación del “cuello” sucede
debido a un “sputtering” preferencial a cierta distancia de la punta, este proceso sigue
hasta que ocurre la “decapitación”. De continuar con el bombardeo, se produce la
formación de un nuevo “cuello” en la punta, por lo cual para preparar una buena punta
se debe detener el “sputtering” justo antes de que se forme el nuevo “cuello”.
Evidentemente esto no puede ser controlado, por lo cual este proceso aleatoriamente
produce buenas puntas sin “cuello” y otras, presumiblemente malas con “cuello”.
17
Figura 1.9: Esquema representativo del proceso de formación de cuello y decapitación de una punta por
bombardeo iónico. (a) Etapa de formación del cuello; (b) etapa final antes de la decapitación; (c) decapitación.
1.4 El Microscopio de efecto túnel (STM).

El desarrollo del microscopio de efecto túnel tuvo un anticipo en 1971 a partir de
los trabajos de Russel Young y colaboradores en el “National Bureau of Standards”, con
la invención del llamado “topografiner” [21]. Este nuevo tipo de microscopio, consistía
en una punta de emisión de campo unida a un trípode de piezoeléctricos, que permitían
hacer un contorno tridimensional de la superficie, con una resolución vertical y
horizontal de unos 3 y 400 nm, respectivamente. Sin embargo, no fue sino hasta
principio de 1980 en los laboratorios de la IBM en Suiza, cuando Gerd Binnig y
Heinrich Rohrer sustituyeron el fundamento físico del “topografiner” (emisión campo)
por la corriente túnel que circula entre dos electrodos, creando así el microscopio de
efecto túnel (STM)1, el cual posee una resolución vertical y horizontal de 0.01 y 0.1 nm,
respectivamente. Como se ha mencionado a lo largo de este trabajo doctoral, la técnica
principal de nuestro sistema experimental es la microscopia de efecto túnel, siendo
nuestro microscopio un STM del tipo “Beetle” [9]. La técnica básicamente consiste en
una punta metálica que se aproxima a una superficie (muestra), que puede ser
conductora, semiconductora ó incluso películas delgadas de materiales aislantes.
Cuando la punta se encuentra a unos pocos nanómetros de la superficie y se aplica una
pequeña diferencia de potencial entre punta y muestra, por efecto túnel pasan electrones
de la punta a la muestra o viceversa. A partir de la corriente túnel que genera el paso de
estos electrones es que se obtienen los mapas de corrientes que son llamados: imágenes
túnel.
1
La denominación STM es usada alternadamente en esta tesis para denotar “microscopio de efecto
túnel” y “microscopía de efecto túnel”.
18
En la Figura 1.10(a), se muestra la foto de nuestro STM montado en la cámara
principal en condiciones de UHV. En la Figura 1.10(b) se muestra una foto donde se
observa en detalle el microscopio de efecto túnel fuera de la cámara. El cabezal del
microscopio consta básicamente de 4 tubos cilíndricos de material piezoeléctrico fijados
a la base del microscopio por uno de sus extremos. Los tres cilindros exteriores
ubicados en una configuración triangular, cumplen la función de realizar el barrido XY
durante la adquisición de imágenes STM, así como también sirven para aproximar, por
rotación, la muestra a unos pocos nanómetros de la punta metálica. El cuarto
piezoeléctrico, localizado en el centro, lleva pegado una cerámica en su extremo
superior a través de la cual pasa un tubo de acero inoxidable de 0.38 mm de diámetro
interno, donde va ubicada la punta del STM, y cumple la función de realizar el barrido Z
durante la adquisición de imágenes STM. Los tres piezoeléctricos externos llevan
pegadas en el extremo superior esferas metálicas sobre las que se apoya la muestra, ver
Figura 1.10(b). A través de las mismas, se aplica el voltaje necesario para generar una
diferencia de potencial entre la punta y la muestra (voltaje bias).
Los piezoeléctricos de nuestro STM poseen un diámetro externo de 3.2 mm y

una altura de 11 mm aproximadamente, con ambas caras (interna y externa) recubiertas
de una película metálica. El piezoeléctrico central, en el cual está ubicada la punta STM,
está formado por un cilindro con un electrodo interior y uno exterior, a los cuales al
aplicarle una diferencia de potencial se produce una contracción o dilatación del
piezoeléctrico, logrando movimiento de la punta STM en la dirección normal a la
superficie (dirección z). Por otro lado, los 3 piezoeléctricos exteriores tienen su cara
exterior particionada en cuatro sectores longitudinales (+X,-X,+Y,-Y) cada uno de los
cuales posee un electrodo de contacto. La cara interior no está sectorizada, por lo cual
posee solo un electrodo de contacto que esta referenciado a tierra. Aplicando un voltaje
anti-simétrico entre los pares opuestos de electrodos exteriores se comba el tubo
produciendo el movimiento de la muestra en el plano de la superficie (plano xy). Es
decir, cuando aplicamos un voltaje de +100 V al sector +X, también se aplica un voltaje
de - 100 V, al electrodo -X ubicado al frente.
19
Figura 1.10: Fotografías del microscopio de efecto túnel, (a) dentro de la cámara principal en condiciones de UHV;
(b) y al aire fuera de la misma.
El funcionamiento del STM se basa en la transferencia de electrones por efecto

túnel originada cuando se aproxima una punta STM a una muestra conductora y se
aplica una diferencia de potencial del orden de los voltios entre ellas. La punta suele
aproximarse a una distancia del orden de 1 nm. Esta transferencia da lugar a una
corriente conocida como corriente túnel, ITun, que depende exponencialmente de la
distancia punta-muestra, y es del orden de los nanoamperios. Para amplificar esta señal,
se hace pasar la ITun a través de un convertidor I/V donde la misma se convierte y
amplifica, para finalmente hacerla pasar a través de un bucle de realimentación donde se
compara con un valor prefijado. El bucle manda una señal proporcional a la diferencia
entre el valor medido y el valor prefijado a la unidad de control del piezoeléctrico
central, que mueve la punta en dirección “z” haciendo tender la corriente medida al
valor prefijado. Una vez estabilizada la distancia punta-muestra se inicia el barrido
lateral. La unidad de control, siguiendo las órdenes que le llegan del ordenador, mueve
la punta en el plano “xy” a lo largo de líneas paralelas adyacentes hasta cubrir una
región cuadrada de la muestra. El bucle de realimentación se encarga de mantener la
corriente túnel constante en todo momento y los desplazamientos de la punta a lo largo
del eje z se registran en el ordenador en función de la posición en el plano “xy”. Esta
forma de operación del STM se conoce como modo de corriente constante, y los mapas
z(x,y) resultantes se denominan imágenes de topografía a corriente constante. Existe
otra forma de adquirir imágenes STM, conocidas como modo de altura constante. En
20
este modo se mantiene fija la distancia punta-muestra y se registra la corriente túnel en
función de la posición en el plano “xy”, a los mapas I(x,y) resultantes se los denomina
imágenes de corriente a altura constante. Ambos métodos tienen sus ventajas y
desventajas. El modo de corriente constante fue el primero que se desarrollo
históricamente y se utiliza mayoritariamente para superficies que no son atómicamente
planas, ya que la punta se mueve en dirección “z”, pudiendo sortear obstáculos presente
sobre la superficie de la muestra sin chocar con los mismos. Por otro lado, el modo de
altura constante se caracteriza por una velocidad de barrido mucho mayor, y suele
usarse para observar zonas atómicamente planas. Al trabajar con una velocidad de
barrido mucho mayor, se reduce la deriva térmica que produce cambios bruscos de la
longitud de los piezoeléctricos, y al no usarse el bucle de realimentación, los errores que
pudieran derivar del mismo también son suprimidos.
Otro modo de operación del STM, y que deriva en la conocida técnica

espectroscopia de efecto túnel (STS del inglés Scanning Tunneling Spectroscopy), es
justamente el modo espectroscópico. En el modo STS básico se detiene el barrido
lateral de la punta en una determinada posición, se desconecta el bucle de
realimentación y se mide la corriente túnel mientras se varía el voltaje que se le aplica a
la muestra entre dos valores determinados. A continuación se vuelve a activar el bucle
de realimentación y se continúa con el barrido lateral en el modo de corriente constante.
De esta forma se obtiene una imagen de corriente constante y una curva I(V) en una
posición (x,y) determinada. Generalmente en los experimentos de STS, en lugar de
tomar una única curva I(V) en un punto de una imagen de topografía, se toman varias
curvas en una serie de puntos prefijados, formando una malla sobre la zona de barrido.
Así, por cada imagen de topografía se toman una serie de curvas I(V) repartidas a lo
largo de la misma. Esto permite estudiar simultáneamente distintas zonas de esa
imageen y promediar un gran número de curvas dentro de cada zona. Esta técnica se
conoce como espectroscopia túnel por mapeo de corriente (CITS del inglés Current
Imaging Tunneling Spectroscopy). Derivando las curvas I(V) es posible obtener
información acerca de la estructura electrónica o densidad de estados local (LDOS del
inglés Local Density Of State).
21
Para aislar el STM de vibraciones mecánicas externas, durante las medidas la
plataforma principal (que sujeta todo el sistema experimental) es soportada por seis
bases de silicona, y para minimizar el ingreso de ruidos eléctricos y/o mecánicos en el
sistema se desconectan todos los cables y conexiones del equipo (exceptuando las
conexiones del STM y el cable de alimentación de la bomba iónica). Para adquirir y
analizar los datos obtenidos con el STM presentados en este trabajo, se utilizo el
programa de libre acceso WSxM [22].
1.5 Espectroscopia de electrones Auger (AES)

La espectroscopia de electrones Auger (AES, del inglés Auger Electron
Spectroscopy) es una técnica ampliamente utilizada en el estudio de la composición
química de superficies sólidas [23,24]. A pesar de que los fundamentos principales del
proceso se conocen desde principios del siglo XX, su aplicación a problemas químicos
no se desarrolló hasta la década de los '70, debido a la necesidad de contar con
tecnologías de UHV para ello [25]. En la espectroscopia AES, la excitación de la
muestra es producida por un haz de electrones y las partículas detectadas son también
electrones (electrones Auger). El espectro adquirido es una gráfica del número de
electrones en función de su energía cinética. Las principales características de esta
técnica son la especificidad elemental y la sensibilidad a la superficie. La especificidad
elemental deriva directamente de la dependencia de las energías de ligadura de los
niveles internos del material con la especie atómica. La sensibilidad superficial, a las
primeras capas atómicas (< 10 MC), es consecuencia del corto camino libre medio
inelástico (λ) de los electrones en el sólido, el cual para las energías utilizadas en AES
(5‐2000 eV) cae dentro del rango de 10‐30 Å. El camino libre medio inelástico se define
como la distancia promedio que un electrón con una energía dada viaja entre dos
colisiones inelásticas sucesivas y se vincula directamente con la profundidad de escape.
La probabilidad de escape de los electrones P(L) sin sufrir dispersión inelástica viene
dada por: P(L) = exp(‐L λ), la cual produce un decaimiento exponencial de la señal
Auger con la profundidad L. Por ello, sólo los electrones emitidos en las capas atómicas
más externas pueden abandonar la superficie sin perder energía. Esta es la característica
22
fundamental que define a la espectroscopia de electrones Auger como una técnica de
superficies. Otra característica importante de la técnica AES es su capacidad de detectar
todos los elementos de la tabla periódica, exceptuando el H y He.
1.6 Difracción de electrones de baja energía (LEED)

La difracción de electrones de baja energía (LEED del inglés Low Energy
Electron Difraction) funciona dirigiendo un haz de electrones contra la muestra y
colectando los electrones que salen de ella en una pantalla fosforescente. Para hacer
LEED se usa un haz incidente con una energía entre 50 y 500 eV. En este rango de
energía la longitud de onda de los electrones es comparable con la distancia
interatómica en los sólidos y, por otra parte, su recorrido libre medio en la muestra es de
unas pocas capas atómicas [26]. Aplicando el principio de Huygens, los átomos de las
primeras capas de la muestra deben actuar como re-emisores de electrones al ser
alcanzados por el haz incidente. La interferencia entre los electrones re-emitidos por
estos átomos es constructiva únicamente a lo largo de las direcciones en las que la
diferencia de camino recorrido corresponde a un número entero de longitudes de onda.
Por lo tanto, los electrones re-emitidos salen de la muestra únicamente en estas
direcciones bien definidas formando un patrón de difracción, conocido como el patrón
LEED. El patrón LEED se proyecta en la pantalla de fósforo luego de pasar por un
sistema de rejillas. La primera rejilla se encuentra a un voltaje negativo ligeramente
inferior al de aceleración del haz incidente, para de esta forma filtrar los electrones que
hayan sufrido procesos inelásticos. Este filtrado es necesario porque los electrones
inelásticos, que constituyen aproximadamente el 99% de los electrones reflejados en la
muestra [26], pierden la coherencia y no contribuyen al patrón de difracción. A
continuación se aplica un voltaje positivo en la pantalla de fósforo para que los
electrones que han pasado el filtro anterior se aceleren e impacten contra ella generando
una fosforescencia visible. Esta fosforescencia permite ver el patrón LEED
directamente en la pantalla. En el caso general de la difracción en una red
tridimensional la condición de interferencia constructiva es la condición de Von Laue,
23
que dice que el cambio en el vector de onda del haz incidente debe ser un vector de la
red recíproca:
Donde y son los vectores de onda inicial y final, y es un vector de la red
recíproca. En el caso particular del experimento de LEED hay que tener en cuenta
además que el vector de onda incidente es normal al plano de la superficie y que, debido
al bajo recorrido libre medio de los electrones incidentes en la muestra, la mayor
contribución al patrón de difracción proviene de la capa atómica superficial. Debido a
estos dos factores, el patrón LEED es una imagen de la red recíproca de la superficie de
la muestra [26].
1.7 Dispersión de átomos neutros con energías térmicas (TEAS)

La difracción de átomos de He fue descubierta poco después de las primeras
observaciones de difracción de electrones. Sin embargo, el desarrollo de la difracción y
dispersión de He como técnica de caracterización superficial tuvo que esperar hasta los
70´s. El impulso principal para el desarrollo de esta técnica vino de la aparición de las
fuentes supersónicas, las cuales aumentan la intensidad y monocromaticidad del haz de
átomos neutros en varios órdenes de magnitud.
Una característica importante de la dispersión de átomos neutros con energías

térmicas (TEAS, del inglés Thermal Energy Atom Scattering), lo cual la hace
especialmente adecuada para estudios de crecimientos, es su casi nula profundidad de
penetración. Esto es debido a la baja energía de los átomos incidentes, típicamente en el
rango de 20‐100 meV. Los átomos de He son los más frecuentemente usados, debido a
que son químicamente inertes, no forman moléculas y tienen una masa pequeña.
El potencial de interacción de un átomo de He acercándose a una superficie tiene

una parte atractiva (repulsiva) cuando el átomo de He está muy lejos (cerca) de la
superficie, tal cual se puede ver en la Figura 1.11. La parte atractiva se debe a una
interacción dipolo-dipolo, debido a fluctuaciones cuánticas en la distribución de
densidades de cargas, mientras que la parte repulsiva es causada por el solapamiento de
24
Figura 1.11: Representación esquemática de un átomo de He aproximándose a una
superficie y su respectiva curva de potencial.
las nubes electrónicas del átomo de He y los electrones más externos de la superficie. El
punto de inflexión de los átomos de He se encuentra a 3‐4 Å de los núcleos atómicos de
la superficie.
La presencia de un absorbato ó defecto modifica fuertemente el potencial de

interacción. En primer lugar, la distribución de carga es alterada, dando lugar a cambios
en la parte repulsiva del potencial. Pero también la parte positiva es modificada, por las
fuerzas de dispersión. Estas fuerzas son de largo alcance, y por lo tanto dominan la
contribución de dispersión difusa, especialmente a concentraciones muy bajas de
defectos. Todas esas características hacen a TEAS una técnica muy adecuada para el
estudio de fenómenos atómicos en las superficies, tales como difusión y crecimiento.
La gran sensibilidad de los experimentos TEAS para detectar cambios en las

superficies, se basa en el concepto de sección eficaz de dispersión difusa. La sección
eficaz de dispersión difusa Σ, se define como el área total en la cual el haz de He no es
difractado (dispersado) especularmente, producto de alguna distorsión en el perfil de
densidad electrónica superficial, habitualmente asociada a la presencia de defectos
(escalones atómicos, vacancia, etc…) ó impurezas. Por ejemplo, si se tiene una zona de
la superficie perfectamente plana y libre de defectos, durante un experimento TEAS los
átomos de He dispersados en esa región se dirigirán directamente hacia el detector, y
contribuirán a aumentar la intensidad del haz de He difractado especularmente. Ahora,
25
si sobre esta superficie se encuentra un ad-átomo rompiendo la periodicidad de la
misma, los átomos de He dispersados en esa región se dirigirán fuera de donde se
encuentra ubicado el detector, sumándose así a la intensidad del fondo difuso. Esto se
muestra esquemáticamente en la Figura 1.12, donde se observa que solo los átomos
dispersados lejos del ad-átomo que perturba la periodicidad de la superficie, zona
sombreada, contribuyen a la intensidad especular medida en un experimento TEAS.
Figura 1.12: Representación esquemática de la sección

transversal de dispersión difusa Σ, de un adatomo adsorbido
en una superficie. Solo los átomos de He dispersados en la
zona sombreada alcanzan el detector y contribuyen a la
intensidad especular medida en un experimento TEAS.
26
Capítulo 2 Formación de superestructuras en grafito
2.1 Introducción
En la era de los materiales grafiticos (nanotubos, fullerenos, grafeno, grafano,
etc…) el estudio de superestructuras formadas sobre superficies de grafito, resultan de
gran interés para investigadores y tecnólogos en general. El interés despertado por estas
superestructuras radica en parte a que una mejor comprensión de las mismas ayudara a
lograr un mayor entendimiento de la correlación existente entre la estructura electrónica
y el re-arreglo atómico del grafito, que a su vez puede ser de gran ayuda para predecir y
entender las propiedades de materiales con futuras aplicaciones tecnológicas [27].
Desde los inicios de la microscopia de efecto túnel, el grafito ha sido una de las
superficies más estudiadas por esta técnica. Sin embargo, a pesar de los múltiples
estudios realizados, hoy en día existen una serie de fenómenos que suceden en su
superficie los cuales no han sido comprendidos aún. En particular, uno de estos
fenómenos son las denominadas superestructuras (SS). Reportadas por primera vez en
los 80´s, las SS observadas sobre la superficie del grafito han sido estudiadas en las tres
últimas décadas por varios grupos y bajo múltiples condiciones. La mayoría de las
superestructuras reportadas pueden ser explicadas por un patrón de rotación Moiré, el
cual se produce por la rotación de la capa superficial del grafito respecto de las capas
que se encuentran inmediatamente por debajo de esta, como ha sido verificado por
varios grupos de manera experimental. Un patrón Moiré es una red, formada por el
solapamiento de dos redes rotadas entre sí, cuya periodicidad es mayor que las
correspondientes a las redes que la forman. El tamaño de la superestructura formada
depende del ángulo de rotación entre las redes interactuantes.
A pesar que la hipótesis de un patrón de rotación Moiré explica muchas de las

SS reportadas, existen algunas que no pueden ser entendidas con esta hipótesis. Entre
estas SS, una de las más frecuentemente reportada es la denominada: (√3×√3)R30º,
donde (√3×√3) indica una superestructura con una celda unidad √3 veces más grande
que la correspondiente al grafito, es decir una SS de 0.425 nm. Por otro lado, R30º es la
rotación de la superestructura respecto a la red subyacente de grafito. Esta
superestructura decae en intensidad gradualmente, hasta desaparecer por completo a
unos 2-5 nm de su origen.
Recientemente, Diaye y colaboradores [28] publicaron un trabajo en el cual se

evidencia la importancia del estudio de las SS en la tecnología de materiales. En dicho
trabajo, Diaye [28] reporta el uso de las SS como patrones de crecimiento a partir de los
cuales se han obtenido arreglos periódicos de “clusters” de Ir sobre una superficie
atómicamente lisa de grafeno crecida sobre Ir(111) [28,29]. Los arreglos regulares de
“clusters” de Ir, o de cualquier otro material, son en general preferibles a los arreglos
aleatorios, debido a que la naturaleza idéntica de cada “clusters” (Ej.: distancia a
primeros vecinos, por nombrar uno) produce entre otras ventajas, una respuesta
uniforme a estímulos externos producto de un orden de largo alcance. Y es justamente
esto, uno de los principales retos actuales de la nanotecnología. Al avanzar en el
entendimiento de las SS se logra una mejor interpretación de las imágenes STM,
además la observación de superestructuras pone de manifiesto la capacidad que tiene el
STM para identificar defectos que se encuentran debajo de la superficie [30].
En este capítulo se estudiarán los conceptos básicos de las principales SS

observadas en HOPG. Se mostrarán resultados experimentales que validan estudios ya
reportados, y se presentarán otros nuevos como aporte al conocimiento de las SS.
Además, se propone un nuevo mecanismo que explica de una manera simple la
formación de una de las SS del grafito más comúnmente reportadas.
2.2 Superestructuras en Grafito tipo HOPG

El grafito pirolítico altamente orientado (HOPG) es una forma de carbono de
alta pureza que provee a los microscopistas de una superficie atómicamente lisa y
relativamente inerte, de forma simple y rutinaria. El procedimiento más comúnmente
usado para preparar la superficie de grafito, consiste en colocar una cinta adhesiva sobre
la superficie, presionarla de manera que se adhiera a la misma, para finalmente retirarla,
tal cual como se muestra en la Figura 2.1(a). Esta superficie recién exfoliada es lo que
suele usarse como substrato para experimentos STM. En la Figura 2.1(b) se observa una
28
Figura 2.1: (a) Fotografía de una muestra de grafito tipo HOPG (4 cm × 4 cm) durante el exfoliado con cinta
adhesiva. Imágenes STM de la superficie de dicha muestra, (b) (1000 nm ×1000 nm) donde se observa un
escalón monoatómico; (c) (3 nm ×3 nm) con resolución atómica
imagen STM típica de la superficie de grafito, en la cual se observa un escalón

monoatómico cruzando en diagonal la imagen y dos amplias terrazas (una a cada lado
del escalón). Estas terrazas resultan ideales para realizar estudios de deposición dado el
área de las mismas. Debido al comportamiento inerte del grafito ésta superficie puede
ser usada por varias horas sin observarse ningún tipo de contaminantes en las imágenes
STM de la superficie, incluso en condiciones atmosféricas. En la Figura 2.1(c) se
muestra una imagen con resolución atómica del HOPG, en la cual se observa la
estructura triangular, “normalmente” observada en imágenes STM de grafito.
El HOPG está formado por capas de átomos de carbono con enlaces del tipo sp2,
en los cuales la longitud del enlace C-C es de aproximadamente 0.142 nm. Las capas de
grafito están unidas por fuerzas débiles del tipo Van der Waals, lo cual facilita el
deslizamiento característico de sus capas, como se observa durante el procedimiento de
exfoliado [13]. Los átomos que conforman la estructura hexagonal del grafito son de 2
tipos, α y β, y están representados como esferas blancas (átomos α) y rojas (átomos β)
en la Figura 2.2. Mientras que los átomos α se ubican justo encima de los átomos de la
capa subyacente, los átomos β lo hacen encima de los sitios vacíos de la misma, ver
Figura 2.2(b). Debido a su ubicación, los átomos β poseen una mayor densidad local de
estados (LDOS) cerca del nivel de Fermi, siendo por ello más fáciles de detectar con
STM [13]. Por este motivo, las imágenes STM del HOPG con resolución atómica
usualmente reportadas, están formadas solo por los átomos β, lo cual origina una
estructura triangular ó hexagonal centrada con un parámetro de red √3 veces mayor a la
29
Figura 2.2: Estructura cristalina del grafito. La celda unidad se muestra sombreada en verde. (a) Vista aérea de la
estructura. La red hexagonal está definida por dos vectores “u” y “v” en el plano XY con una longitud de 0.246nm
y un ángulo de 120⁰ formando una red de anillos hexagonales. La red básica consiste de dos átomos de carbono α
(blancos) y β (rojos) a una distancia de 0.142nm. (b) Vista en perspectiva, mostrando la estructura laminar del
grafito. Mientras los átomos α (blancos) están directamente encima de otro átomo α de la capa subyacente, a
una distancia de 0.335 nm; los átomos β (rojos) están sobre un sitio vacío de la capa subyacente. El vector “w” es
paralelo al eje Z y mide 0.669 nm. Imagen cortesía de Hembacher et al., Proc. Natl. Acad. Sci. 100 12539 (2003).
longitud de un enlace C-C, generando así una celda unidad con un parámetro red de
0.246 nm. Por esta razón, generalmente las imágenes STM en vez de mostrar los átomos
formando una estructura hexagonal de periodicidad 0.142 nm, como la formada en la
Figura 2.2(a), muestran una estructura triangular de periodicidad 0.246 nm con un
átomo en el centro (Figura 2.1(c)), tal cual como el arreglo que se vería si solamente se
consideran las esferas rojas (átomos β) de la Figura 2.2(a).
A pesar que las imágenes STM de HOPG suelen ser como las mostradas en la
Figura 2.1(c), en varios experimentos se han reportado imágenes STM que muestran
estructuras con un parámetro de red mayor al que correspondería a la separación entre
dos átomos β, las cuales han sido denominadas superestructuras (SS) [13,31,32]. Estas
SS fueron reportadas por primera vez en los 80´s, y pueden dividirse de acuerdo a su
origen en dos tipos, SS Moiré y (√3×√3)R30º.
2.2.1 Superestructuras del tipo Moiré

La interpretación usualmente aceptada para explicar la mayoría de las SS
observadas en grafito, es la reportada por Kuwabara y colaboradores [31], la cual ha
sido fundamentada en la hipótesis de un patrón Moiré resultante del solapamiento de
dos capas de grafito rotadas entre sí, tal como se muestra en la Figura 2.3. Según la
30
hipótesis Moiré, la periodicidad D de la superestructura hexagonal está relacionada con
el ángulo de rotación θ entre las dos capas últimas del HOPG, según la siguiente
expresión:
d
D (2.1)
2 sen  2 
donde “d”, para el grafito, es la distancia de separación entre dos átomos β (es decir
d = 0.246 nm). La orientación del patrón Moiré respecto al arreglo atómico de la última
capa, viene dada por el ángulo Φ, y está relacionada con el ángulo de rotación θ
mediante la expresión:
Φ  30   2 (2.2)
Como se había mencionado antes, los átomos que conforman la última capa del
grafito son de 2 tipos, α y β. Mientras que los átomos α se ubican justo encima de los
átomos de la capa subyacente, los átomos β lo hacen encima de los sitios vacíos de
dicha capa, debido a ello, los átomos β poseen una mayor densidad local de estados
(LDOS) cerca del nivel de Fermi. Esto es así siempre que las capas de grafito estén
apiladas en su forma más usual, ABAB…, ya que cuando la última capa del grafito esta
rotada respecto a las otras, apilamiento CABAB…, (siendo “C” la capa rotada), la
situación se vuelve un poco más compleja. Luego de una rotación, los átomos de la
última capa pueden estar ubicados encima de los sitios vacíos de la capa subyacente,
encima de otro átomo, o en cualquier otro lugar entre medio. Xhie y colaboradores [33],
supusieron que si un átomo de la última capa está ubicado encima de un sitio vacío de la
capa subyacente, este átomo debería mostrar un máximo de intensidad en las imágenes
STM tal cual como lo hace los átomos β en una red de grafito con apilamiento normal.
Análogamente, un átomo de la última capa ubicado encima de un átomo α debería
mostrar una intensidad menor que los átomos ubicado sobre sitios vacíos, mientras que
los átomos ubicados sobre un átomo β deberían mostrar una intensidad aún menor en las
imágenes STM. Con esta suposición en mente, Xhie y colaboradores [33], propusieron
tres zonas con distinta LDOS en una superestructura del tipo Moiré, “M-h-site”,
“M-α-site” y “M-β-site”, como notación para la zona vacía, α y β, respectivamente, tal
cual como se muestra en la Figura 2.3. En la zona “M-h-site”, los átomos de la última
31
capa están ubicados sobre algún átomo de la capa subyacente lo cual origina que esta
zona posea la menor LDOS de las tres zonas. En la zona “M-α-site” (“M-β-site”) los
átomos de la última capa están ubicados sobre sitios vacíos o sitios β (α). Las zonas
“M-β-site” del patrón Moiré aparecerán como las zonas más brillantes en las imágenes
STM, debido a que los átomos están ubicados encima de vacíos o átomos α de la capa
subyacente, lo cual le proporcionará a ésta zona una mayor LDOS. De la misma
manera, la zona “M-α-site” tendrá un brillo intermedio y la zona “M-h-site” la más
oscura en las imágenes STM.
Las SS del tipo Moiré sobre superficies de grafito pueden generarse mediante la
inmersión en soluciones acuosas [34], solventes inorgánicos [35], por deposición de
átomos metálicos [33], o durante el procedimiento rutinario de preparación del grafito
por clivado con cinta adhesiva [36], entre otras. Sin embargo, estas SS también pueden
ser generadas por los esfuerzos de corte originados por la punta del STM durante el
escaneo de una superficie de grafito [37]. Recientemente, Bernhardt y colaboradores
[37] lograron manipular láminas de grafito de hasta una monocapa de espesor con la
punta del STM y adquirir imágenes “in situ” del proceso de manipulación.
Figura 2.3: Representación esquemática de un patrón de interferencia Moiré. Cuando dos estructuras rotadas un
ángulo θ entre sí se superponen, se genera una superestructura de periodicidad “D”, en la cual se pueden
distinguir 3 zonas: “M‐h‐site”(círculo de línea de puntos), “M‐α‐site” (círculo con línea de rayas) y
“M‐β‐site”(círculos con línea llena), como notación para las zona hueco (menor intensidad en las imágenes STM),
α (intensidad intermedia) y β (mayor intensidad), respectivamente.
32
En uno de los estudios sobre grafito realizados para esta tesis doctoral, en el cual
se había evaporado fluoruro de aluminio (AlF3), se encontró un escalón monoatómico
ideal para intentar una manipulación con la punta del microscopio, tal cual lo habían
reportado Bernhardt y colaboradores [37]. Para ello se aumentó la interacción punta-
muestra, como ha sido sugerido por diversos estudios [38,39], adquiriendo imágenes a
bajo voltaje y alta corriente túnel, 5 mV y 2 nA respectivamente. Dichas imágenes se
presentan en la Figura 2.4.
En la Figura 2.4(a) se muestra una imagen STM de la superficie de grafito luego

de haberle evaporado AlF3. En dicha figura, pueden observarse múltiples montículos,
los cuales son presumiblemente “clusters” de AlF3 originados durante la deposición.
Atravesando verticalmente la imagen se observa un escalón monoatómico con varios
pliegues en su borde, uno de los cuales es indicado con un círculo rojo. En la
Figura 2.4(b) se muestra una imagen STM de la misma zona, luego de haber realizado
un escaneo a bajo voltaje y alta corriente (5 mV, 2 nA), de manera tal de aumentar la
interacción punta-muestra para originar un cambio en la superficie. Además, se observa
como el escalón que inicialmente estaba vertical en la imagen, ahora se encuentra rotado
unos 61.9º respecto a su posición original. Como una guía para el ojo, en la
Figura 2.4(a) y 2.4(b) se marco con un círculo rojo un pliegue del grafito en el escalón
para hacer más fácil la comparación entre las dos imágenes. En la Figura 2.4(c) se
muestra una imagen ampliada de la Figura 2.4(b) en la cual se observa claramente la
superestructura formada en las proximidades del defecto marcado con el círculo rojo en
las dos imágenes anteriores.
En el inserto de la Figura 2.4(c) se muestra un perfil realizado sobre la

superestructura generada, a partir del cual se observa que la periodicidad de la
superestructura es de 7.42 nm, es decir aproximadamente 30 veces más grande que la
separación entre dos átomos β (0.246 nm). A partir de la ecuación (3.1), se obtiene un
ángulo de rotación entre las capas de:
θ = 2.arcsen (d/2D) = 1.9 º
Dado que la estructura hexagonal tiene 60º de simetría, una rotación de 1.9º es
equivalente a una rotación de 61.9º. Por lo tanto, según la hipótesis Moiré, las capas
33
están rotadas entre sí un ángulo de 61.9º. De la comparación entre las Figura 2.4(a) y
2.4 (b), se puede verificar que la rotación de la lámina de grafito respecto a su posición
original es de 61.9º, lo cual se encuentra en excelente acuerdo con lo predicho por la
hipótesis Moiré. Este análisis permite verificar que esta superestructura puede ser
explicada mediante un patrón de interferencia Moiré, además de ejemplificar de manera
sencilla y convincente la hipótesis Moiré para el grafito.
Figura 2.4: Manipulación de una lamina de grafito con la punta del STM. (a) Imagen STM (500 nm × 500 nm) de
la superficie de grafito luego de la deposición de AlF3. (b) Imagen STM (500 nm × 500 nm) del escalón
mostrado en (a) luego de ser manipulado con la punta. En (a) y (b) se indica con un círculo rojo una zona del
grafito que sirve de guía visual para comparar ambas imágenes. (c) Imagen STM (150 nm × 150 nm), donde se
muestra un acercamiento de la superestructura Moiré formada. En el inserto, se muestra la grafica del perfil
marcado en la imagen. Imágenes adquiridas a VB=5 mV y IT=2 nA.
34
2.2.2 Superestructuras del tipo (√3×√3)R30°
A pesar de que la hipótesis Moiré consigue explicar muchas de las SS

observadas experimentalmente, existen algunas que no pueden ser explicadas bajo esta
hipótesis. Entre éstas, la más frecuentemente reportada para el HOPG es la
superestructura (√3×√3)R30º, donde √3 es el factor por el cual hay que multiplicar la
distancia normal entre átomos β (0.246 nm), para obtener la periodicidad de la
superestructura, y R30º es la rotación de la misma respecto a la red subyacente. La
principal razón por la cual este tipo de SS no puede ser explicada por un patrón de
interferencia Moiré, se debe a que según la hipótesis Moiré para una red hexagonal, una
orientación del patrón respecto al arreglo atómico de la última capa igual a Φ = 30º,
implica un ángulo de rotación entre la capa superior y la capa subyacente de θ = 0º, ver
ecuación 2.2. Y, según la hipótesis Moiré, si no existe rotación entre capas (θ = 0º) no
debería generarse ningún tipo de SS.
Las superestructuras del tipo (√3×√3)R30º fueron reportadas por primera vez en
1988 por Rabe y colaboradores [40], quienes observaron este tipo de SS estudiando las
proximidades de defectos puntuales y escalones en HOPG. Mizes y Foster [41],
sugirieron que dichas SS son el resultado de una interferencia entre las ondas normales
del electrón y las ondas dispersadas por partículas metálicas. Esta presunción fue
utilizada por Shedd y Russell [32], quienes introduciendo un modelo de interferencia
simplificado en el cual la orientación de los sitios de dispersión es ignorada, y sólo los
efectos de interferencia entre funciones de onda permitidas es considerado, lograron
simular dos de las SS electrónicas más usualmente observadas, la superestructura
(√3×√3)R30º, y su inversa, la tipo panal de abeja ó “honeycomb”.
Por otro lado, Xhie y colaboradores [42], estudiando partículas de platino

depositadas sobre HOPG, lograron identificar hasta 10 tipos diferentes de SS, ubicadas
en pequeñas áreas cercanas a las partículas de platino, observando además que la
intensidad de las SS decaía a lo largo de una distancia de 2-5 nm. Recientemente, Niimi
y colaboradores [43], observaron que las SS (√3×√3)R30º tipo “spot-like” y su inversa
la “honeycomb”, coexisten a lo largo de una distancia de 3-4 nm a partir del borde de
35
cualquiera de los 2 tipos de escalones presentes en el HOPG, escalones tipo “zig-zag” ó
“arm chair”. An y colaboradores [44], observaron también la superestructura
(√3×√3)R30º durante la grafitización del HOPG con “clusters” de carbono, y con
recocido a 1800 K de una superficie amorfizada de HOPG producto del bombardeo a
altas dosis de iones de Ar+ (2-5×1016 iones/cm2) [45].
El HOPG es un material policristalino formado por granos desorientados de

tamaño micrométrico. Por ello, y al igual que todo material policristalino, la superficie
de HOPG muestran bordes de grano. En la Figura 2.5(a) se muestra una imagen STM
de una superficie de grafito tipo HOPG recién exfoliada, en la cual se observa un
defecto que se propaga verticalmente a lo largo de toda la imagen. Este defecto tiene un
ancho aproximado de 5 nm y se extiende a lo largo de la superficie por más de 500 nm
(no mostrado en la imagen). Este tipo de defectos formado por dos hileras de pequeños
montículos ordenados en línea, es comúnmente atribuido a un borde entre dos granos de
la superficie de HOPG [13,37,46]. En la Figura 2.5(b), se muestra una ampliación de
dicho borde de grano, en la cual se puede apreciar una serie de montículos que se
forman a lo largo del mismo, así como también el arreglo atómico en sus cercanías.
En la Figura 2.5(c) se muestra con mayor claridad el arreglo atómico en las

cercanías del borde de grano. En la zona superior izquierda de la imagen se ha marcado
la celda unidad del arreglo atómico del grafito mediante un pequeño rombo. En la parte
inferior derecha de la imagen se observa un arreglo atómico con una periodicidad
mayor, y una orientación diferente lo cual está indicando la presencia de una
superestructura en esta zona de la imagen. Si la celda unidad del arreglo atómico del
grafito se expande √3 veces su tamaño original y se la hace rotar 30º en dirección
contraria a las agujas del reloj, se obtiene una celda unidad que describe exactamente la
superestructura de la zona inferior derecha de la imagen, tal cual como se ha
esquematizado en el inserto de la Figura 2.5(c). Esta superestructura es la denominada
(√3×√3)R30º, y como puede observarse en las Figura 2.5(b) y 2.5(c), su intensidad va
decayendo a medida que se aleja del borde de grano. Este tipo de SS no puede ser
explicada por medio de un patrón de interferencia Moiré. Por el contario, suele ser
36
explicada como el resultado de una interferencia entre las ondas normales del electrón y
las ondas dispersadas por defectos presentes en la superficie del grafito, tales como:
partículas metálicas [41], escalones [44], bordes de granos y bombardeo con iones [45],
entre otros.
Figura 2.5: (a) Imágenes STM de grafito tipo HOPG donde se observa: (a) (100 nm x 100 nm) borde de grano; (b)
(10 nm x 10 nm) resolución atómica a ambos lados de un borde de grano; y (c) (8 nm x 8 nm) la estructura
normal del HOPG en la parte superior de la imagen, y la superestructura (√3×√3)R30° en la parte inferior de la
misma. Como ayuda visual se ha marcado con sendos círculos ambas estructuras y con rombos sus celdas
unidad. El inserto en (c) muestra como la celda unidad del HOPG resulta en la celda unidad de la superestructura
(√3×√3)R30° al ser multiplicada por √3 y rotada 30°. Todas las imágenes fueron adquiridas a 100 mV, y se uso una
corriente túnel de 0.15 nA en (a) y de 1.0 nA en (b) y (c).
37
2.3 Superestructuras de grafito formadas por bombardeo iónico
Para realizar estos experimentos se prepararon las muestras de HOPG por medio
de una exfoliación con cinta adhesiva, para posteriormente introducirlas en una cámara
de UHV donde está instalado el cañón de iones más preciso del LASUI. En esta cámara
fueron bombardeadas con iones de alta pureza (99.999 %), de Ar+ o He+ según fuera el
caso. Estos iones fueron acelerados con una energía de 5 keV, y se uso una dosis de
~ 41010 iones/cm2, la cual fue corroborada experimentalmente a partir de las imágenes
STM. Una vez bombardeadas las muestras, estas fueron trasladadas, exponiéndolas a la
atmosfera, a otra cámara equipada con el microscopio de efecto túnel en condiciones de
UHV. Las puntas STM fueron preparadas por corte con tijera, a partir de un alambre de
Pt0.8-Ir0.2 policristalino de 0.250 mm de diámetro. Todas las imágenes que se muestran
en este capítulo fueron adquiridas a temperatura ambiente (300 K).
En la Figura 2.6 se muestran imágenes STM de una superficie de HOPG

limpia (a), y bombardeada con dos dosis diferentes de iones de Ar+ (b) y (c). En la
Figura 2.6(a) se observan dos terrazas separadas por un escalón monoatómico que cruza
la imagen en diagonal. En la Figura 2.6(b), se muestra la superficie del HOPG luego de
ser bombardeada con una dosis de iones de Ar+ de 41010 iones/cm2. Los impactos
producidos por el bombardeo se ven como pequeñas colinas (puntos brillantes)
dispersadas aleatoriamente. La aparición de estas colinas ha sido explicada como
consecuencia de los esfuerzos desarrollados en las capas más superficiales, por la
cascada de colisiones que genera el ión al ingresar a la superficie del grafito [47].
Figura 2.6: Imágenes STM (400 nm x 400 nm). De una superficie (0001) de HOPG limpia (a), y luego de ser
bombardeada con iones de Ar+ con una dosis de: 41010 impactos/cm2 (b), y 41011 impactos/cm2 (c).
38
Además de los impactos, en la Figura 2.6(b) se observa un escalón cruzando la
imagen horizontalmente, y una serie de líneas que se unen en el centro de la imagen
formando una “Y” invertida, las cuales son comúnmente atribuidas a bordes de grano.
Finalmente en la Figura 2.6(c) se muestra la superficie del HOPG luego de ser
bombardeada con una dosis de iones de 41011 iones/cm2, dosis un orden de magnitud
mayor al mostrado en la Figura 2.6(b). Para la obtención de los resultados de los
estudios presentados en este capítulo se usaron dosis de bombardeo similares a los de la
Figura 2.6(b).
Los mecanismos responsables del daño producido durante la desaceleración de

un ión sobre una superficie son principalmente dos: el frenamiento electrónico y el
nuclear. El frenamiento electrónico domina la desaceleración del ión para el caso de
iones acelerados a altas energías (en el rango de los MeV). Este frenamiento puede
causar los denominados “thermal spikes” [48], o en blancos aisladores la denominada
explosión de Coulomb [49]. En cambio, el frenamiento nuclear es dominante en el caso
de iones de baja energía (en el rango de los keV), tal es el caso de las energías usadas en
los experimentos que se presentan en esta memoria. El origen de las colinas producidas
por el bombardeo iónico es un tema que actualmente se encuentra en discusión, y no
existe una visión completamente aceptada acerca del origen de los mismos. Varios
autores han reportado que cuando bombardean una superficie con iones en el rango de
energías entre 0.5-40.0 keV, el número de colinas hallados en un área determinada es
casi igual al número de iones que impactan sobre dicha área [50,51]. Sin embargo, la
observación experimental de una colina por ión incidente no necesariamente implica
que los iones penetrantes sean quienes produzcan las colinas observadas en las
imágenes STM.
Con el fin de presentar claramente la topografía de las colinas producidas por el

bombardeo iónico, en la Figura 2.7 se muestra una imagen STM de la superficie del
HOPG en 3D, luego de haberla bombardeado con iones de Ar+. El defecto mostrado en
la figura consiste básicamente de una serie de montículos de diferentes alturas, siendo la
altura máxima 0.35 nm y el diámetro de la base de 5.0 nm, aproximadamente.
39
Figura 2.7: Imagen STM (70 nm × 40 nm) del impacto producido por el bombardeo iónico sobre la superficie de
HOPG. Este bombardeo fue realizado con iones de Ar+ a una energía de 5 keV incidiendo sobre la muestra a 54°.
2.3.1 Coexistencia de una superestructura Moiré con una (√3×√3)R30º

Como vimos recientemente, el impacto de un ión sobre la superficie de una
muestra de HOPG origina una serie de colinas sobre la misma. En general, las imágenes
STM con resolución atómica adquiridas en los alrededores de las colinas, muestran el
arreglo clásico de átomos β que caracteriza las imágenes STM de HOPG, lo cual indica
que el arreglo atómico captado por el STM no resulta afectado por las colinas
producidas por el bombardeo. Sin embargo, existen casos donde las imágenes STM
muestran otro tipo de arreglo atómico en las proximidades de las colinas.
En la Figura 2.8(a) se muestra la imagen STM de una colina luego de

bombardear una superficie de HOPG con iones de Ar+ de 5 keV. En la parte superior de
la imagen se puede observar una superestructura la cual va disminuyendo en intensidad
a medida que se aleja del defecto, decayendo gradualmente hasta converger en la
estructura triangular del HOPG a los 3-5 nm de su origen. Esta superestructura se
encuentra rotada 30º respecto al arreglo atómico del HOPG, y posee una periodicidad
de 0.43 nm, lo cual representa una estructura √3 veces mayor a la estructura triangular
del grafito, por lo cual se puede afirmar que es una superestructura del tipo
(√3√3)R30º. Los rombos que se observan en la parte superior e inferior de la Figura
2.8(a) representan la celda unidad de la superestructura (√3√3)R30º y del grafito,
40
respectivamente. Debido a su forma anular, este tipo de SS es conocida con el nombre
de superestructura (√3√3)R30º del tipo anillo o “ring-like” [44,45].
En la Figura 2.8(b) se muestra una imagen ampliada de la zona mostrada en la

Figura 2.8(a). Una cuidadosa observación de esta imagen revela la presencia de una
segunda superestructura de mayor periodicidad, coexistiendo con la superestructura
(√3√3)R30º, la cual se extiende, al menos, a lo largo de un área de 100 nm de lado (no
mostrado en la imagen). Esta nueva superestructura no decae gradualmente, como si lo
hace la (√3√3)R30º, y como se demostrara más adelante, la misma es originada por un
patrón de interferencia Moiré.
Para observar mejor la superestructura Moiré, en la Figura 2.9(a) se muestra la

transformada de Fourier bidimensional (2D-FFT) del recuadro marcado con línea
sólida, en la parte inferior izquierda de la Figura 2.8(b). La elección de esta zona se hizo
con el objeto de incluir las dos SS y la estructura del grafito, descartando las colinas
formadas por el bombardeo que introducen ruido no deseado en el filtrado. En la
Figura 2.9(a) se observan los patrones correspondientes a las SS y a la estructura
Figura 2.8: (a) Imagen STM (7 nm × 7 nm) en la cual muestra una superestructura del tipo (√3 ×√3)R30° y el arreglo
atómico del HOPG, en los alrededores de un impacto de Ar+. La imagen fue adquirida a V = 200 mV y I = 1.2 nA. El
rombo de arriba y abajo de esta imagen representan la celda unidad de la superestructura y del HOPG,
respectivamente. (b) Imagen STM (15 nm × 15 nm) del mismo impacto mostrado en (a), donde se observa la
coexistencia de las SS (√3 ×√3)R30° y Moiré. La imagen fue adquirida a VB = 2 mV y IT = 2 nA. Los rombos
representan la celda unidad de la superestructura (√3 ×√3)R30° y Moiré, respectivamente.
41
triangular del HOPG luego de realizar la 2D-FFT. Debido a que estos patrones se
muestran en el espacio reciproco, los seis puntos internos del mismo (el hexágono más
pequeño) corresponde a la superestructura más grande en el espacio real, es decir, la
presunta superestructura Moiré, y los seis puntos externos (el hexágono más grande)
corresponden a la estructura más pequeña en el espacio real, o sea, la red triangular del
grafito formada por los átomos β.
Figura 2.9: (a) Espectro 2D‐FFT realizado en el rectángulo marcado con línea sólida en la Figura 2.8(b).En el inserto
se observa la parte central del espectro de Fourier mostrado, y en el cual han sido marcados los “sets” de puntos
correspondientes a cada una de las SS. Los círculos abiertos corresponden a la superestructura Moiré y los llenos
a la (√3 ×√3)R30°; (b) Imagen STM (5 nm × 5 nm) filtrada aplicando la 2D‐FFT en el rectángulo marcado con línea
de puntos en la Figura 2.8(b), donde solo coexisten la superestructura Moiré y la estructura normal del grafito. El
rombo grande y pequeño representan las celdas unidad de la superestructura Moiré y del grafito,
respectivamente; (c) Perfil adquirido a lo largo de la línea mostrada en la Figura 2.9(b), el cual muestra una
periodicidad promedio de 0.96 nm
42
En la Figura 2.9(a) se observa que los puntos correspondientes al hexágono más
pequeño se encuentran rotados 22.6º respecto al hexágono más grande, evidenciando
que entre la presunta superestructura Moiré y el arreglo atómico del grafito existe una
rotación de 22.6° en el espacio real. La superestructura (√3√3)R30º está representada
por los seis puntos intermedios, los cuales se encuentran rotados 30º respecto a la red
triangular del grafito. En el inserto de la Figura 2.9(a) se muestra un “zoom” del patrón
de Fourier, donde solo se muestran los dos hexágonos más internos, en el cual se han
marcado con círculos abiertos y llenos cada una de las SS. Los círculos abiertos
corresponden a la presunta superestructura Moiré y los llenos a la (√3√3)R30º.
Para poder dilucidar si la segunda superestructura que se observa en la

Figura 2.8(b) ha sido realmente originada por un patrón de interferencia Moiré, se ha
filtrado digitalmente la imagen, aplicando una 2D-FFT del recuadro marcado con línea
de puntos en la Figura 2.8(b). Note que se eligió intencionalmente esa zona para excluir
de la imagen la superestructura (√3√3)R30º, obteniéndose una imagen STM filtrada
digitalmente la cual se muestra en la Figura 2.9(b). En esta imagen se encuentra
claramente indicada la rotación de 22.6º entre la celda unidad de la superestructura
Moiré y la red triangular del grafito.
De acuerdo con la hipótesis Moiré para una red triangular como la del grafito,
una superestructura rotada un ángulo Φ = 22.6º respecto al arreglo atómico del grafito,
debiera ser generada por un ángulo de rotación entre capas de:
θ = 60° - 2Φ = 14.8º; (ver ecuación 2.2)
esta rotación entre capas, según la ecuación 2.1, origina una superestructura de
periodicidad D:
d
D  0.96 nm
2 sen  2 
La periodicidad de la superestructura Moiré medida experimentalmente, ver

Figura 2.9(c), está en excelente acuerdo con la periodicidad predicha por la hipótesis
Moiré, dándole soporte a este modelo como explicación de la mencionada
superestructura. En base a esto, podemos concluir que en las inmediaciones de la colina
43
generada por el bombardeo iónico coexisten dos SS, como lo son la (√3√3)R30º y la
Moiré. Ambas SS han sido observadas muchas veces por diferentes grupos
[27,31,32,41-43,45,52-54], pero según nuestro conocimiento, esta es la primera vez que
se observan ambas SS coexistiendo en una misma zona, representando ello evidencia
experimental de que la superestructura del tipo(√3√3)R30º puede ser formada incluso
cuando la capa superficial se encuentra rotada respecto a la subyacente.
Debido a que las SS Moiré son usualmente atribuidas a defectos introducidos

durante el exfoliado del grafito [27,31,55,56] y las SS (√3√3)R30º suelen ser formadas
como consecuencia del bombardeo iónico [45,53,57,58], es muy razonable asumir que
en el caso estudiado en este capítulo, la superestructura del tipo Moiré se origino
durante el exfoliado del grafito, mientras que la (√3√3)R30º fue originada por el
bombardeo iónico.
Un número importante de investigadores han realizado destacados esfuerzos

para mejorar el entendimiento acerca del origen de la superestructura (√3√3)R30º,
simulando la superficie del grafito mediante una geometría consistente con un
apilamiento ABAB…. Ahora bien, en este capítulo, se ha demostrado que aún cuando la
secuencia de apilamiento ABAB… se rompe por la rotación de la última capa de grafito,
es posible que se origine una superestructura (√3√3)R30º. Por ello, resultaría
interesante dilucidar, a partir de modelo teóricos, si la superestructura (√3√3)R30º no
se ve afectada por la rotación de la ultima capa del grafito. Este punto va más allá de los
alcance de este trabajo, quedando como una pregunta abierta para grupos teóricos
interesados en el tema.
2.3.2 Origen de la superestructura “honeycomb”

Desde que la superestructura (√3√3)R30º fuera observada, hace más de dos
décadas, diferentes tipos de SS han sido reportadas [32,40-42,45,53], siendo las más
comunes, las denominadas SS (√3√3)R30º “spot-like” y su inversa, la “honeycomb”
[43]. Sin embargo, a pesar de que diversos grupos han realizado múltiples esfuerzos
44
para entender el origen de las mismas, hoy en día no existe un consenso general del
tema.
En la Figura 2.10 se muestra una colina producida por el bombardeo iónico con
Ar+, y a su alrededor se observa cómo se han generado dos SS (√3√3)R30º, la
“spot-like” y su inversa, la “honeycomb”. Estas SS pueden observarse más claramente
en el inserto de la imagen, en el cual se la zona marcada con el recuadro en la imagen.
En el inserto, las SS (√3√3)R30º “spot-like” y “honeycomb” están marcadas con un
circulo grande y otro pequeño, respectivamente. Ambas decaen gradualmente
convergiendo con la estructura normal del grafito a unos pocos nanómetros del impacto.
Vale la pena destacar, que la presencia de un átomo con menor intensidad que sus
vecinos en el centro de la superestructura “honeycomb” impide que esta superestructura
pueda ser atribuida a un mecanismo de vacancias.
Figura 2.10: Imagen STM (10 nm × 10 nm) de una colina producida por el
bombardeo iónico con Ar+ a 5 keV. El inserto muestra la imagen STM
(3 nm × 2.8 nm) del recuadro marcado, donde se observa claramente las SS
(√3√3)R30° “spot‐like” y su inversa, la “honeycomb”. La imagen fue
adquirida a VB = 200 mV y IT = 0.6 nA.
45
Una cuidadosa observación de la Figura 2.10, muestra que la superestructura
“honeycomb” podría ser generada por el solapamiento de dos SS (√3√3)R30º
“spot-like”, tal cual como se muestra en la Figura 2.11. Como una ayuda visual, en la
Figura 2.11(a) se indica con puntos negros una superestructura (√3√3)R30º “spot-like”,
y en la Figura 2.11(b) con puntos blancos se indica otra. En los insertos de estas figuras
se muestra la imagen “limpia”, es decir sin los puntos de cada estructura. En la Figura
2.11(c) se puede observar claramente como la superposición de esas dos SS “spot-like”
da origen a su inversa, la “honeycomb”.
Figura 2.11: Imagen STM (3 nm × 2.8 nm) de la zona marcada en la Figura 2.10. (a) Los puntos negros
muestran una superestructura (√3 × √3)R30° “spot‐like”; (b) Los puntos blancos muestran otra
superestructura del tipo (√3 × √3)R30° “spot‐like”; (c) la superestructura del tipo (√3 × √3)R30°
“honeycomb” es formada por la superposición de las dos SS “spot‐like”, mencionadas en (a) y (b). El
hexágono representa la celda unidad de la superestructura “honeycomb”. Cada uno de los insertos
muestran las zonas dentro de los círculos, donde se puede apreciar las SS sin los puntos guías.
46
Los resultados experimentales presentados en este capítulo nos llevan a proponer
la superposición de SS (√3√3)R30º “spot-like” como el mecanismo efectivo para
explicar la formación de la superestructura “honeycomb”. Las SS (√3√3)R30º
“spot-like”, y su inversa, la “honeycomb” son comúnmente reportadas en la
literatura[32,43, 59] mostrando características similares a las encontradas aquí. En
particular, los trabajos de Bourelle [57] y Kelly [60], aun cuando los autores no lo
reportan, muestran claramente que el mecanismo de superposición de SS propuesto en
este trabajo doctoral, explica el origen de las SS “honeycomb” reportadas por ellos, lo
cual obviamente, le otorga mayor soporte a nuestra hipótesis.
2.4 Comentarios finales

En este capítulo, mediante microscopia de efecto túnel se ha estudiado las
superestructuras más comúnmente reportadas sobre la superficie (0001) del HOPG
luego de ser bombardeada con iones Ar+ a una energía y dosis de 5 keV y
41010 iones/cm2, respectivamente. En primer lugar, se observó la coexistencia de una
superestructura del tipo Moiré y una (√3√3)R30º “ring-like”, lo cual aporta una
evidencia experimental de que las SS (√3√3)R30º (al menos las tipo “ring-like”)
pueden formarse incluso cuando una rotación de las capas superficiales rompe la
secuencia de apilamiento ABAB… del HOPG. Esto, podría ser de gran interés para
ayudar a entender el origen de la SS (√3√3)R30º, y la correlación existente entre
estructura electrónica y re-arreglo atómico del grafito. Por otro lado, se propuso un
modelo para explicar el origen de la superestructura tipo “honeycomb”, a partir de la
superposición de SS (√3√3)R30º “spot-like”. Este modelo explica de manera
satisfactoria el origen de los arreglos atómicos en forma de panal de abeja, denominados
SS “honeycomb”, y muestra que los mismos, no son una superestructura en sí mismo,
sino más bien, un patrón formado por la superposición de dos SS (√3√3)R30º
“spot-like”.
47
Capítulo 3 Crecimiento de fluoruro de aluminio
sobre Cu(100)
3.1 Introducción
La composición, la estructura y los mecanismos de crecimiento de películas
delgadas sobre superficies metálicas son tópicos que han atraído gran interés en los
últimos años. Los trabajos en este campo han sido motivados por los requerimientos de
calidad, cada vez más exigentes, en la industria dedicada a la microelectrónica
avanzada, a los dispositivos ópticos y magnéticos, así como también para el estudio de
estructuras a escala nanométrica [61]. Actualmente, existe un creciente interés en la
aplicación de capas ultra-delgadas de aisladores como soporte de nanoestructuras, de
manera tal de poder desacoplar sus estados electrónicos de los del substrato y reducir así
los efectos de carga [62,63]. Como ejemplo de ello se pueden mencionar los estudios de
autoensamblado de moléculas orgánicas en capas ultra-delgadas de aisladores [64] y los
estudios de las interacciones entre espines en cadenas lineales de átomos de Mn sobre
islas de CuN [65], entre otros.
El crecimiento de películas delgadas sobre una superficie es un proceso de

no-equilibrio, en el cual el sistema trata de recobrar el equilibrio formando aglomerados.
Los ad-átomos depositados sobre la superficie suelen difundir por la superficie y cuando
se encuentran con otros ad-átomos pueden formar un núcleo crítico, y así formar una
isla estable, la cual crecerá a medida que se van agregando nuevos átomos. La
nucleación de nuevas islas y el crecimiento de las islas existentes son procesos
competitivos entre sí. El resultado de esta competencia viene determinado por la
difusión superficial y la velocidad de evaporación. A medida que crece el recubrimiento
aumenta la densidad de islas en la superficie, este escenario se repite hasta que se
alcanza la densidad crítica de nucleación. Cuando esto ocurre, se produce un proceso de
deposición en estado estacionario, en el cual los nuevos átomos depositados se unen a
48
las islas ya existentes, siendo prácticamente nula la posibilidad de nuclear nuevas islas
[61].
En los últimos años, con el fin de mejorar el entendimiento acerca del

crecimiento de materiales aislantes sobre superficies metálicas, se han realizado una
serie de experimentos STM que han reportado importantes resultados. Recientemente
Sun y colaboradores [62], estudiando el crecimiento de capas múltiples de NaCl sobre
Au(111)-(22×√3), fueron capaces de observar selectivamente imágenes con resolución
atómica de las islas de NaCl o de la reconstrucción de Au debajo de la primera capa de
cloruro de sodio, variando el voltaje túnel usado para adquirir las imágenes. Por otro
lado Calleja y colaboradores [66], a partir de estudiar el crecimiento de CaF2 sobre
Cu(111) en función de la temperatura de deposición y el recubrimiento, reportaron el
crecimiento epitaxial de islas de CaF2 (111) con dos orientaciones cristalográficas
diferentes. Farías y colaboradores [67], estudiando el crecimiento de LiF sobre Ag(111)
a bajas temperaturas mostraron que tanto el lado de arriba como el de abajo de los
escalones, actúan como centro de nucleación, sugiriendo que este mecanismo de
nucleación podría estar presente en el crecimiento de otros aisladores. Por su parte
Fölsch y colaboradores [68], estudiando el crecimiento selectivo de NaCl sobre
Cu(211), mostraron líneas alternativas de Cu limpio y áreas cubiertas de NaCl.
Finalmente Bertrams y Neddermeyer [69], reportaron el crecimiento de capas de
NiO(100) sobre Ag(100) como función del recubrimiento y la temperatura de recocido.
Probablemente una de las aplicaciones más promisorias de los fluoruros

metálicos, es su uso como compuerta aislante en dispositivos MIS (Metal-Aislador-
Semiconductor) [70,71], además de su posible uso en memorias magnéticas tipo
M-RAM, inyectores de espín en materiales semiconductores y transistores de espín,
entre otros [72]. En particular, el fluoruro de aluminio (AlF3) ha despertado un especial
interés por sus potenciales aplicaciones como patrones en nano-litografía de haces de
electrones [73-78]. Esto se debe a que bajo irradiación electrónica, el fluoruro de
aluminio presenta radiólisis, es decir desorcion de fluoruro con la consecuente
formación de aluminio metálico [78-81].
49
Durante los últimos años diversos estudios de crecimiento de fluoruro de
aluminio han sido realizados usando diferentes técnicas de caracterización superficial.
Entre ellos, Sánchez y colaboradores [82], estudiaron el crecimiento capa a capa de
películas delgadas de AlF3 sobre una superficie metálica de Al(111) mediante AES y
EELS. Vergara y colaboradores [77], caracterizaron el crecimiento de películas de AlF3
sobre GaAs(110), desde recubrimientos por debajo de la monocapa hasta varias capas
de recubrimiento, por medio de AES, perfiles en profundidad y espectroscopia de
átomos dispersados (“direct recoiling spectroscopy”) por análisis de tiempo de vuelo
(TOF-DRS). Sin embargo, hasta el momento no se han reportado estudios de
crecimiento de AlF3 sobre una superficie metálica mediante STM.
En este capítulo, se estudian las primeras etapas del crecimiento de AlF3 sobre
Cu(100) mediante microscopia de efecto túnel a temperatura ambiente. Para ello, se
muestran resultados experimentales con recubrimientos en el rango de 0.05-1.25 MC de
espesor. A partir de los experimentos, se observa que existe una transición en la forma
de las islas de compacta a fractal (ramificada), similar a la observada por Müller y
colaboradores [2]. Usando simulaciones de Monte Carlo cinético (KMC) se reproducen
los resultados experimentales, considerando solamente efectos de sombra y una alta
movilidad de las moléculas de AlF3, sin considerar ningún tipo de esfuerzos existentes
entre las islas y el substrato, como proponían Müller y colaboradoes [2] para explicar la
transición de forma observada en sus experimentos. Algunos aspectos importantes de
estos estudios pueden comprenderse en base a estas simples simulaciones, lo que
muestra que el sinergismo entre las medidas STM y las simulaciones KMC aumentan
considerablemente el entendimiento del crecimiento de AlF3 sobre Cu(100).
3.2 Conceptos básicos del crecimiento de películas delgadas
Los estudios de crecimiento de materiales suelen consistir en la deposición

controlada de una cantidad determinada de átomos, o moléculas, sobre un substrato
cristalino bien caracterizado, generalmente un monocristal o una superficie altamente
orientada. Realizando estudios a bajos recubrimientos y velocidades de deposición
50
controladas, resulta posible descifrar a nivel atómico, las leyes que gobiernan la
evolución del frente de crecimiento, y explorar así vías para manipular la morfología de
las películas [61]. La descripción de los mecanismos de crecimiento a escala atómica
han sido ampliamente basados en el modelo de terraza-escalón-esquina (TSK, del inglés
Terraces-Step-Kink), ver Figura 3.1. En esta figura, se muestra un escalón (“step”)
indicado con una línea roja, el cual separa las terrazas superior e inferior (“terraces”) de
la imagen, y muestra un sitio esquina (“kink”) a mitad del mismo. Por otro lado, en la
Figura 3.1 se muestran varias entidades fundamentales del crecimiento de películas,
tales como un átomo (ad-átomo) y un dímero (ad-dímero) adsorbidos sobre la superficie
de la terraza superior e inferior, respectivamente. Además, se puede observar una
vacancia y una isla de 4 átomos sobre dichas terrazas.
La difusión de los ad-átomos sobre una superficie plana, o terraza, es el proceso

cinético más importante en el crecimiento de películas delgadas [61], debido a que la
movilidad de los mismos determinará la morfología de la película. No es posible
obtener películas uniformes y planas si los átomos depositados no poseen suficiente
movilidad superficial. En el caso extremo de movilidad cero, un ad-átomo permanecerá
en el sitio exacto donde ha arribado, lo cual resultaría en un frente de crecimiento
rugoso. No obstante, una alta movilidad superficial no necesariamente implica un
crecimiento de películas uniformes y planas.
51
Figura 3.1: Representación esquemática del modelo TSK definida para un cristal cubico simple. Los círculos
blancos representan los átomos del substrato, y los círculos oscuros son átomos adsorbidos en la superficie.
El coeficiente de difusión D, está relacionado con la frecuencia de salto de un

ad-átomo ks, por medio de la relación D = a2ks, donde a es la distancia efectiva de saltos
entre sitios y ks es proporcional al exp[-Vs/kBT], donde Vs es la barrera de energía
potencial para saltar de un sitio a otro, T es la temperatura del substrato, y kB la
constante de Boltzmann. En las etapas iniciales de crecimiento sobre una superficie
plana, si la velocidad de deposición F, permanece fija, el valor de D determina la
distancia promedio que un ad-átomo puede viajar antes de: (i) encontrarse y unirse con
una isla existente, o (ii) encontrarse con otro ad-átomo posibilitando la nucleación de
una nueva isla. La nucleación y crecimiento son procesos competitivos, y la
probabilidad de que suceda uno u otro evento, dependerá directamente de la cantidad de
átomos depositados sobre la superficie. Los primeros átomos depositados sobre la
misma poseen altas probabilidades de nuclear nuevas islas, conforme va aumentando el
número de islas en la superficie esta probabilidad va disminuyendo, y eventualmente se
hace cero. En este estado estacionario, todos los átomos que sean depositados sobre la
superficie se unirán a las islas existentes, siendo prácticamente nula la probabilidad de
nucleación de una nueva isla. Esto se debe a que la distancia promedio entre islas es
menor que la que tiene que viajar un átomo antes de unirse con otro(s) para nuclear una
nueva isla, es decir, los átomos depositados se incorporan a las islas existentes antes de
formar nuevas islas.
52
3.2.1 Formación de un núcleo estable
Cuando dos o más átomos se unen para formar una isla estable, la energía
cohesiva entre los átomos actúa para proteger la isla de la disociación, haciendo que la
energía libre total de la isla sea negativa. Los átomos ubicados en los bordes de las islas
poseen un menor número de vecinos, debido a lo cual tienen una mayor cantidad de
enlaces libres, que añaden una energía desestabilizante (positiva) a la isla, la
denominada energía libre de frontera o “boundary free energy”. Esta energía en 2D, es
el análogo en 1D de la energía libre de superficie. Como esta última se mide típicamente
como tensión superficial, se podría pensar a la energía libre de frontera como una línea
de tensión a lo largo del borde de las islas. A medida que las islas disminuyen en
tamaño aumenta la influencia de la energía libre de frontera, hasta que se llega a un
tamaño a partir del cual la isla ya no resulta estable frente a la descomposición.
Recíprocamente, para que resulte posible la nucleación de una nueva isla, deben unirse
un número suficiente de átomos de manera tal que la energía libre total de la isla resulte
negativa. En la teoría de nucleación, el tamaño de isla crítica “i” se define como el
tamaño mínimo para el cual la isla se vuelve estable con la adición de solo un átomo.
Vale la pena destacar que una isla estable no es necesariamente estacionaria. Es estable
porque ya no es posible su disociación, pero no es necesariamente estacionaria porque
en algunos casos puede moverse sobre la superficie.
Recientemente, varios estudios de crecimientos realizados sobre superficies

metálicas [85] y semiconductoras [86] sugieren que a bajas temperaturas, el núcleo
crítico puede ser un solo átomo aislado, y el núcleo estable un dímero. Debido a que la
energía térmica actúa como un factor desestabilizante adicional, al subir la temperatura
del substrato el tamaño del núcleo crítico puede aumentar. Un claro ejemplo de ello son
los estudios de crecimiento de Si sobre una superficie de Si(001), los cuales muestran
que el núcleo critico puede pasar de un solo átomo [87] a más de mil átomos [88] al
aumentar la temperatura del substrato.
53
3.2.2 Difusión en los bordes de las islas y crecimiento ramificado.
Una vez ha ocurrido el proceso de nucleación, las islas empiezan a crecer y
desarrollan formas específicas, las cuales son determinadas en gran medida por la
difusión que ocurre en el borde de las mismas. Estas formas suelen clasificarse en dos
grandes grupos: compactas y ramificadas. Dentro de las compactas, que suelen ser las
que se desarrollan más comúnmente, podemos incluir aquellas con formas triangulares,
cuadradas y hexagonales, entre otras. En cambio las islas con formas ramificadas suelen
poseer bordes rugosos o formas altamente anisotrópicas. Dentro de las islas con forma
ramificadas podríamos agrupar por un lado a las dendríticas, las cuales guardan cierta
orientación con la red del substrato, y las fractales, orientadas aleatoriamente sobre el
substrato.
Las formas ramificadas suelen verse favorecidas cuando el crecimiento se

realiza a bajas temperaturas, mientras que las formas compactas por el contrario suelen
desarrollarse para crecimientos a altas temperaturas. Esto se debe a que la
“compactación” de una isla está altamente influenciada por la rapidez con que un ad-
átomo difunde a lo largo de los bordes de una isla. Al bajar la temperatura esta
movilidad se ve severamente disminuida, lo cual acorta el camino que los ad-átomos
pueden moverse en busca de una posición energéticamente más favorable, generando
así islas con formas más ramificadas.
Estudios recientes [89-91] sobre la formación de islas 2D en el crecimiento

epitaxial de metales sobre metales, han identificado varios aspectos importantes de la
difusión de los átomos en los bordes de las islas que determinan la formación de islas
con forma fractal. En estos estudios, se observó una dependencia del crecimiento fractal
con la geometría del substrato. La existencia de islas fractales ha sido reportada
esencialmente sobre substratos con estructura cúbica centrada en las caras “fcc” con
orientación (111), o hexagonal compacta “hcp” con orientación (0001), ambas
superficies con geometría triangular [61]. En contraste, las islas de forma compacta han
sido reportadas casi exclusivamente sobre superficies “fcc” (100), con geometría
cuadrada [61]. Observación que está en clara discordancia con las predicciones del
54
modelo clásico de agregación limitada por difusión “DLA” [92], también denominado
por algunos autores “hit-and-stick” DLA, el cual sostiene que si un ad-átomo se adhiere
y queda inmóvil en el lugar donde primero toca la isla, se formaran islas con formas
fractales independientemente de la geometría de la red del substrato. Otra diferencia
encontrada con las predicciones del modelo DLA, es el espesor promedio “b” de los
brazos de las islas de forma fractal. Según el modelo DLA el espesor de los brazos es
aproximadamente 1 átomo de ancho (b ≈ 1), mientras que los experimentos reportan
brazos de espesores mucho mayores [61,90,91].
Uno de los pocos casos donde se ha reportado un crecimientos de islas de forma

fractal sobre una superficie con simetría cuadrada, es el trabajo recientemente publicado
por Müller y colaboradores [2]. En su trabajo estudiaron el crecimiento de islas de cobre
sobre Ni(100), mostrando que las mismas empiezan creciendo con forma compacta,
pero a medida que van aumentando su tamaño su forma se vuelve cada vez más
irregular. Por encima de un tamaño crítico Ac, resulta evidente una transición en la
forma de las islas, de compacta a fractal. En sus experimentos, para recubrimientos
mayores a 0.10 MC la mayoría de las islas son ramificadas, con brazos de 20 átomos de
ancho en promedio. Mostrando que este escenario de crecimiento es característico para
un amplio rango de temperaturas (250-370 K) e independiente de la velocidad de
evaporación utilizada, 3×10-5-3×10-2 MC/s. Debido a ello Müller y colaboradores [2],
han sugerido que la forma de sus islas no es de origen cinético, como predice el modelo
DLA, atribuyendo la forma de las islas a esfuerzos originados por el “mis-match” entre
las redes del níquel (substrato) y el cobre (islas).
Por otro lado Zhang y Lagally [61], tratando de aclarar varios de los aspectos
que el modelo DLA no explicaba satisfactoriamente, definieron dos regímenes de
crecimiento fractal en términos del grado de relajación local. Para ello, consideraron un
primer régimen en el cual el átomo queda “congelado” en el lugar que se une a una isla,
tal cual el clásico DLA, y un segundo régimen en el cual un ad-átomo puede relajarse
localmente de forma de poder alcanzar una configuración energética más favorable
55
luego de haberse unido a una isla. Ambos regímenes son explicados más detalladamente
a continuación:
 Hit-and-stick DLA (I) [89,92]: En este régimen no hay ninguna

posibilidad de relajación local una vez que el ad-átomo ha alcanzado el
borde de una isla, y se caracteriza por presentar b ≈ 1. Para que este
régimen ocurra es necesario que cuando un ad-átomo llegue al borde de
una isla no tenga tiempo de relajarse a un sitio más favorable antes de
quedar atrapado en dicha posición. La formación de islas en forma fractal
en este tipo de régimen, nunca ha sido reportada para estudios de
crecimiento de películas delgadas en fase vapor [61]. Esto se debe a que
en las condiciones normales de crecimiento reportadas en los
experimentos, la relajación a un sitio más favorable es siempre más
rápida que el arribo de otro átomo a dicho sitio [89].
 Crecimiento fractal extendido (II) [89]: En este régimen cada ad-átomo
que alcanza el borde de una isla puede relajarse a lo largo del borde de la
misma hasta encontrar al menos dos primeros vecinos entre los átomos
pertenecientes a dicha isla. Las islas de forma fractal que se generan con
este régimen están caracterizadas por ramificaciones cuyos brazos son de
mayor espesor (b ≈ 4) que los del régimen I. Vale la pena destacar, que
por razones geométricas este régimen puede ocurrir en una red triangular
pero no en una red cuadrada, debido a que en esta sí los ad-átomos
pueden relajarse en el borde de una isla hasta encontrar dos primeros
vecinos, esta condición implicaría siempre la formación de islas
compactas [61].
En la Figura 3.2, se muestra la morfología de dos islas con forma fractal crecidas
por medio de simulaciones teóricas realizadas según las condiciones de los regímenes I
y II descriptos. En la misma puede observarse claramente como el espesor de los brazos
de las ramificaciones aumenta considerablemente al pasar del régimen I al II.
56
Figura 3.2: Crecimiento de islas de forma fractal en un régimen I (a) y II (b). El espesor de los brazos de las
ramificaciones es de 1 y 4 átomos, respectivamente.
3.3 Detalles experimentales y simulaciones Monte Carlo
3.3.1 Experimentos
Las imágenes STM que se muestran en este capítulo fueron adquiridas a
temperatura ambiente (300 K) con un STM montado en una cámara de UHV cuya
presión base se encuentra en el rango de 2-6×10-10 mbar. El substrato de Cu(100) se
limpia mediante ciclos de bombardeo iónico de Ar+ seguido de recocidos a 900 K, tal
cual como se describe en el punto 0.
Las películas de fluoruro de aluminio fueron depositadas “in situ”, sobre la

superficie de Cu(100) a temperatura ambiente, a partir de una celda Knudsen montada
en la pre-cámara de preparación de muestra, cargada con fluoruro de aluminio AlF3
(CERAC INC., Milwaukee, Wisconsin, USA, 99,5 %), la cual se calienta a unos 820 K
para la sublimación del material. Esta celda fue cuidadosamente desgasificada para
evitar posibles deposiciones “sucias” o contaminadas. Durante las evaporaciones, se
mantuvo la presión de la pre-cámara de preparación por debajo de 5×10-8 mbar. Es
importante remarcar que a estas presiones, las imágenes STM de las superficies de
Cu(100) y AlF3/Cu(100) no muestran signos de contaminación, aún transcurrido un
57
periodo de tiempo similar al que dura un experimento, de 2-10 horas. La velocidad de
deposición se mantuvo en el rango de 2×10-2-8×10-4 MC/s. Los recubrimientos
reportados en esta memoria fueron determinados a partir del análisis directo de las
imágenes STM para recubrimientos menores a 0.80 MC; y usando la velocidad de
evaporación, asumiendo un coeficiente de “sticking” constante, para recubrimientos
mayores a 0.80 MC.
Para estas experiencias se usaron puntas de tungsteno policristalino, las cuales

fueron preparadas por ataque electroquímico, y una vez introducidas en condiciones de
UHV, se prepararon rutinariamente mediante ciclos de bombardeo con iones de Ar+ y
recocido utilizando bombardeo electrónico, para mayor detalle ver el punto 1.3.2.
3.3.2 Simulaciones
Las simulaciones Monte Carlo que se presentan en este trabajo son bastante
simples, y lo que se pretende con ellas es lograr un mejor entendimiento de los
resultados experimentales obtenidos. El modelo que se propone, es una variante del
modelo DLA clásico [92,93], en el cual las simulaciones se efectúan sobre una red 2D
de simetría cuadrada donde se “siembran” una o más moléculas para obtener de ese
modo islas semillas como punto de partida de las simulaciones. Una vez hecho esto, la
simulación comienza agregando una ad-molécula en un lugar aleatorio de la superficie.
Esta ad-molécula empieza a moverse en una trayectoria aleatoria, hasta llegar a las
adyacencias de una isla semilla. Una vez allí, dependiendo del número de “vecinos”, la
molécula se incorporara a la isla ó continuara su trayectoria aleatoria hasta incorporarse
a otra isla. Una vez finalizado este proceso, se agrega otra ad-molécula y se repite el
mismo proceso hasta que se finalice la simulación.
Es importante destacar que en nuestro modelo consideramos “vecinos” a los

primeros y segundos átomos más cercanos, lo cual diferencia nuestro modelo del
régimen II propuesto por Zhang y Lagally [61], descripto en el punto 3.2.2. En las
diferentes simulaciones que se presentan en este trabajo, se varía el número de
“vecinos” necesarios para que una molécula quede unida a una isla (congelada), entre 1
(clásico “hit and stick” DLA [92,93]) hasta 3. Este número de “vecinos” necesarios para
58
congelar una molécula, será llamado de ahora en adelante “núcleo critico”. De simples
consideraciones geométricas, resulta evidente que el uso de un núcleo crítico mayor a 3
es incompatible con el crecimiento de islas ramificadas sobre una red de simetría
cuadrada.
La energía de ligadura entre una molécula y una isla, es proporcional al número

de vecinos que comparte dicha molécula con la isla. En las simulaciones que se
presentan en este capítulo, esto se modela de una manera muy simplificada: si una
molécula posee menos vecinos que el núcleo crítico, la molécula es libre de continuar su
movimiento (Eb = 0); en cambio, si la molécula posee un número igual o mayor de
vecinos que el núcleo crítico queda congelada en el sitio donde se encuentra (Eb = ∞).
En las simulaciones se asumió una longitud de difusión infinita, es decir, una

ad-molécula es libre de moverse a cualquier lugar hasta que se incorpore a una isla o
escalón (cuando corresponda), y solamente después que esto ha ocurrido, se deposita
otra molécula sobre la superficie. Estas condiciones se asemejan a experimentos con
bajas velocidades de deposición o altas temperaturas del substrato. Como puede
observarse en los resultados experimentales de crecimiento de AlF3 sobre Cu(100) a
temperatura ambiente, la rápida decoración de los escalones es un indicativo de que la
situación real no está muy alejada de las simulaciones.
Vale la pena destacar que nuestra intención con las simulaciones Monte Carlo
no es simular el crecimiento, sino verificar ciertas ideas básicas sobre el mismo. Por
ejemplo, una diferencia entre nuestros experimentos y el modelo, es que este último no
permite la nucleación de nuevas islas debido a lo cual los centros de nucleación (islas
semillas) deben ser añadidas antes de empezar la simulación. A pesar de ello, las
tendencias generales del crecimiento, como efectos de sombra entre las islas del
substrato, pueden ser explorados satisfactoriamente con el modelo propuesto.
3.4 Crecimiento de AlF3 sobre Cu(100) en función del recubrimiento
Con la idea en mente de estudiar las etapas iniciales de crecimiento del sistema
AlF3/Cu(100), se realizaron experimentos STM en función del recubrimiento. En la
59
Figura 3.3(a), se muestra la superficie luego de la deposición de 0.05 MC de AlF3. En
esta etapa los escalones del substrato están completamente decorados por islas y solo
unas pocas islas han nucleado en las terrazas, lo cual es indicativo de un alto coeficiente
de difusión, el cual promueve la migración de las moléculas de AlF3 a los escalones. En
el inserto de la Figura 3.3(a) se muestra una imagen STM adquirida entre las islas de
AlF3 a un voltaje túnel de +0.02 V. En esta imagen se observa arreglo periódico con
simetría cuadrada y distancia a primeros vecinos de 0.26 nm, el cual es consistente con
el arreglo atómico de la superficie Cu(100).
La altura aparente de las islas de AlF3 medidas con el STM es de unos

0.25-0.30 nm, tal cual como se muestran en los perfiles de la Figura 3.3(b). La
diferencia de altura entre las islas de AlF3 y los escalones del cobre, permiten identificar
cual de las islas han nucleado en la terraza de arriba o abajo de cada escalón. En la
Figura 3.3(b), se muestra dos perfiles adquiridos a lo largo de islas que han nucleado
abajo (b.1) y arriba (b.2) del escalón. De un estudio más completo realizado a partir de
los perfiles de diversas islas ubicadas en los escalones, se determino que la nucleación
de islas de AlF3 sobre los escalones de Cu(100) procede de una manera más o menos
simétrica, es decir la probabilidad de nucleación arriba o abajo del escalón es la misma.
Este mecanismo de nucleación en los escalones muestra una clara diferencia con el
crecimiento de metales sobre metales, en los cuales el sitio de abajo del escalón suele
ser, el sitio preferencial para la nucleación de islas [94-97]. Sin embargo, Farías y
colaboradores [67] estudiando el crecimiento de LiF sobre Ag(111), reportaron un
mecanismo de crecimiento en los escalones similar al nuestro, y lo atribuyeron a una
redistribución de carga de las moléculas en los escalones. Esta redistribución
favorecería la absorción de moléculas polares a ambos lados del escalón, y en principio
ese mecanismo podría generalizarse para otros aisladores crecidos sobre metales.
60
Figura 3.3: (a) Imagen STM (200 nm × 200 nm) adquirida luego de la deposición de 0.05 MC de AlF3 sobre Cu(100)
a 300 K. La imagen fue adquirida con un voltaje VB= +2.5 V y una corriente túnel IT= 0.1 nA. El inserto de la figura
muestra una imagen STM (0.8 nm × 0.9 nm) adquirida entre las islas de AlF3 adquirida a VB= +0.02 V y IT= 1.0 nA.
(b) Perfiles típicos adquirido a lo largo de las líneas mostradas en (a). En ellos se indica con una flecha como
determinadas islas han nucleado en abajo y arriba de un escalón (b.1) y (b.2), respectivamente.
Las imágenes STM de las islas de AlF3 depositadas sobre Cu(100) fueron
adquiridas usando voltajes positivos relativamente altos, es decir, inyectando electrones
en la banda de conducción del AlF3, lo cual es indicativo del carácter aislador de las
películas de fluoruro de aluminio. Durante este estudio no se pudieron adquirir
imágenes a voltajes negativos. Cuando se usaban voltajes menores a +2.50 V la punta
del STM chocaba frecuentemente las islas de AlF3 durante el escaneo, “barriéndolas”
de su lugar inicial. Las imágenes STM adquiridas luego de haber “barrido” las islas de
AlF3 (no mostradas aquí), muestran una superficie típica de Cu(100) “limpio” en el
lugar que ocupaban las islas inicialmente, lo cual sugiere que no existe una reacción
química entre las moléculas de AlF3 y los átomos superficiales de cobre, sino que las
mismas más bien se encuentran adsorbidas sobre la superficie del sustrato.
En la Figura 3.4, se muestra una serie de imágenes STM de la evolución de las

islas en función del recubrimiento durante el crecimiento de AlF3 sobre Cu(100). En las
mismas, se observa que nuevas islas nuclean en las terrazas, creciendo lateralmente
(crecimiento tipo 2D) con forma fractal. En la Figura 3.4(a) se muestra una imagen
61
STM de la superficie luego de depositar 0.25 MC de AlF3. En esta etapa, la densidad de
islas en las terrazas es de 1.4×1011 islas por cm2, la distancia promedio entre primeros
vecinos 17 nm, y la altura aparente de las islas sigue siendo 0.25-0.30 nm.
En la Figura 3.4(b), se muestra una imagen STM de la superficie luego de la

deposición de 0.50 MC de AlF3. En esta etapa, la altura de las islas se mantiene entre
0.25-0.30 nm, tal cual como puede observarse en el perfil mostrado en el inserto de
dicha imagen. Del mismo, se deduce que la superficie superior de las islas de AlF3 es
rugosa, como ha sido reportado para otros fluoruros [66], en clara distinción con la
mayoría de las islas formadas durante el crecimiento de metales sobre metales. La
densidad de islas nucleadas en las terrazas y la distancia promedio entre primeros
vecinos permanece constante, 1.5×1011 islas por cm2 y 17 nm, respectivamente. La
densidad de islas constantes con el aumento del recubrimiento es indicativo de que la
densidad crítica de nucleación ya había sido alcanzada a 0.25 MC. Finalmente en la
Figura 3.4(c), se observa una imagen STM de la superficie luego de la deposición de
1.10 MC de AlF3. En esta etapa del crecimiento, el área cubierta es de un 80 %, y un
importante número de zonas oscuras aparecen sobre algunas islas cubriendo
aproximadamente un 15 % de la superficie. El origen de estas zonas oscuras será
explicado más adelante con la Figura 3.6.
62
Figura 3.4: Imágenes STM (400 nm × 400 nm) adquirida luego de la deposición de (a) 0.25, (b) 0.50, y (c) 1.10 MC
de AlF3 sobre Cu(100) a 300 K. Las imágenes fueron adquiridas a VB = +2.50 V y IT = 0.10‐0.15 nA. El inserto
muestra un perfil de alturas adquirido a lo largo de la línea mostrada en (b).
A partir de un análisis minucioso de la Figura 3.4(b), se puede observar que las

islas de AlF3 crecen a ambos lados de los escalones, tal cual se había hecho notar
anteriormente, así como también que existe un menor crecimiento en tamaño de las islas
de los escalones respecto a las de las terrazas, aún cuando primeras habían nucleado
antes que la mayoría de las islas de las terrazas. Para entender esto, vale la pena recordar
63
que una vez que la densidad de islas en las terrazas ha alcanzado su valor estacionario,
es decir una vez que la distancia de separación entre las islas es menor a la longitud de
difusión de las moléculas, el aumento de tamaño de las islas dependerá solo de la
densidad local en una dada zona. Por ello, resulta claro que las islas de los escalones
crecen más lentamente debido a que las ad-moléculas depositadas en dicha zona tienen
que ser repartidas entre un número mayor de islas.
Cuando una molécula arriba a una superficie empieza a difundir siguiendo un

camino aleatorio a través de la misma, si no se desorbe, existen dos posibilidades que
pueden determinar su destino: (i) la ad-molécula puede unirse a una isla existente,
aumentando el tamaño de la misma, o (ii) puede encontrarse con una o más
ad-moléculas y nuclear formando una nueva isla estable. Mientras existe nucleación de
islas, el número de islas aumenta con el recubrimiento y como consecuencia de ello, la
distancia entre islas va disminuyendo con el recubrimiento. Al disminuir la distancia
entre islas vecinas, aumenta la probabilidad de que una ad-molécula se una a una isla
existente en lugar de nuclear formando una nueva isla. Cuando la densidad de islas es
tal, que la distancia de separación entre ellas es igual a la longitud de difusión de una
molécula (densidad crítica de islas), se crea un estado estacionario en el cual todas las
nuevas moléculas que son depositadas en la superficie pueden difundir para unirse a
alguna isla existente antes de encontrase con otras para nuclear una nueva isla, siendo
prácticamente cero la probabilidad de nucleación de una nueva isla. Por ello, en las
terrazas “angostas”, de ancho menor que la longitud de difusión de las moléculas de
AlF3 en nuestro experimento 17 nm, la probabilidad de nucleación es prácticamente
cero, lo cual origina un crecimiento del tipo “step-flow” (crecimiento a partir de los
escalones, sin islas en las terrazas), como puede observarse en la Figura 3.5.
64
Figura 3.5: Imágenes STM de AlF3 depositado sobre Cu(100) (a) (400 nm × 400nm) en una zona con múltiples
escalones, (b) (230 nm × 230nm) ampliada de la zona marcada en (a), donde se marca con una flecha una
dislocación y a partir de la cual se aprecia como la nucleación de islas solo tiene lugar para terrazas de ancho
mayor a 17 nm. Las imágenes fueron adquiridas a VB = +2.50 V y IT = 0.15 nA.
En la Figura 3.5(a), se muestra una amplia zona de la superficie del Cu(100) con
múltiples escalones decorados por islas de AlF3, en la cual se observa que en las terrazas
de menos de 17 nm de ancho no existen islas nucleadas en las terrazas. En la
Figura 3.5(b), se muestra un acercamiento de la zona marcada en la Figura 3.5(a). En
esta imagen se ha marcado con una flecha una dislocación de borde, la cual divide una
terraza ancha en dos más delgadas. Del lado de la terraza ancha, es decir, justo a la
derecha de la zona donde la dislocación divide dicha terraza en dos, se observan varias
islas nucleadas en la terraza. En cambio del lado donde el escalón ha dividido la terraza
en dos, no se observa ninguna isla nucleada, como es de esperar en nuestros
experimentos para terrazas de ancho menor a 17 nm, razón por la cual en estas terrazas
se desarrolla un crecimiento del tipo “step-flow”.
Para entender el origen de las zonas oscuras observadas en la Figura 3.4(c), en la

Figura 3.6 se muestra una secuencia de imágenes STM adquiridas para recubrimientos
de 0.75 MC, donde no existen zonas oscuras, 0.85 y 1.25 MC, donde el aumento de esas
zonas es evidente, Figura 3.6(a), 3.6(b) y 3.6(c), respectivamente. Estas zonas se siguen
observando “oscuras” incluso a voltajes tan altos como +10.0 V. Teniendo en cuenta
65
que las imágenes STM contienen tanto información geométrica como electrónica, y el
carácter aislador del AlF3, resulta lógico interpretar esas zonas oscuras como islas de
AlF3 de dos o más alturas atómicas. Esta interpretación es soportada por el incremento
de las zonas oscuras observada al aumentar la cantidad de AlF3 depositado. Por lo tanto,
para recubrimientos mayores a 0.80 MC se presenta un régimen de crecimiento tipo 3D.
Figura 3.6: Imágenes STM (200 nm × 200 nm) adquirida luego de la deposición de (a) 0.75, (b) 0.85, y (c) 1.25 MC
de AlF3 sobre Cu(100) a 300 K. Como una guía visual, se han marcado algunas de las zonas oscuras con círculos en
las imágenes (b) y (c). Las imágenes fueron adquiridas a VB = +2.50 V y IT = 0.10‐0.15 nA.
66
Como se mencionó en el apartado 1.4, cuando se adquiere una imagen STM en
el modo de corriente constante, durante el barrido lateral la punta se aproxima o aleja de
la muestra para mantener el valor de corriente prefijado. En las zonas oscuras debido al
carácter aislador de la película de AlF3 el microscopio detecta una disminución de la
corriente túnel, por lo cual se reduce la distancia punta-muestra (a pesar de que estas
zonas son las más altas de la muestra), debido a esto la probabilidad de “chocar” la
punta aumenta considerablemente. Por esta razón no se pudo adquirir imágenes a
recubrimientos mayores a 1.25 MC.
Una vez estudiado el crecimiento de AlF3 en función del recubrimiento, vale la

pena detenerse a analizar un aspecto importante relativo a la forma de las islas, la
transición de forma de compacta a fractal observada al aumentar el recubrimiento.
Mientras que en la Figura 3.3(a), se observa que la forma de las islas es compacta, a
mayores recubrimiento se observa que la forma de las islas es claramente fractal, por
ejemplo en la Figura 3.6(a). Para entender más claramente ésta transición, en la
Figura 3.7 se muestra una serie de imágenes STM en las que se observa la evolución de
la forma de las islas con el recubrimiento.
Durante las primeras etapas del crecimiento, las islas de AlF3 son
exclusivamente compactas en su forma (Figura 3.7(a)), luego de una mayor deposición,
las islas comienzan a crecer en tamaño, y conforme lo hacen, empiezan a desarrollar
formas del tipo fractal (ramificadas aleatoriamente). En la Figura 3.7(b), se observa que
las islas más grandes parecieran estar formadas por otras islas más pequeñas. Este
mecanismo se repite para mayores recubrimientos, como se muestra para
recubrimientos de 0.30 y 0.70 MC, Figura 3.7(c) y 3.7(d), respectivamente. Las islas
más grandes parecen estar formadas por agregados de pequeñas islas compactas de
tamaño menor o igual a un tamaño critico, Ac ~ 2.50 nm, lo cual corresponde al área que
ocuparía un circulo de 2.50 nm de diámetro, y el cual estaría ocupado aproximadamente
por unas 100 moléculas de la fase estable del AlF3, conocida usualmente como α-AlF3
[98,99]. Conforme aumenta el tamaño de la islas, su forma se vuelve más irregular,
mostrando claramente formas fractales (ver Figura 3.7(c)-3.7(d)).
67
Una transición de forma de compacta a fractal similar a esta, fue reportada por
Müller y colaboradores [2] en sus estudios sobre islas de Cu depositadas sobre Ni(100).
Ellos explicaron este comportamiento como el resultado de deformaciones de
compresión experimentadas por las islas de Cu debido al desacople o “mis-match” entre
las redes del substrato y las islas (+2.58 %). Este tipo de transición en la forma,
producto de esfuerzos, había sido predicha anteriormente por Tersoff y Tromp [8]. En
su trabajo, Müller y colaboradores [2] propusieron la evolución del perímetro de las
islas en función del recubrimiento, como un factor importante para determinar cuando
se produce la transición de forma en las islas. Mostraron que al producirse un cambio en
el modo de crecimiento, de compacto a fractal, se observa un cambio en la pendiente de
la curva perímetro vs. tamaño de las islas.
Figura 3.7: Imágenes STM (50 nm × 50 nm) de AlF3 depositado sobre Cu(100) a 300 K,
(a) 0.02, (b) 0.05, (c) 0.30, y (d) 0.70 MC. En (b) se ha señalado una isla de tamaño crítico Ac.
Las imágenes fueron adquiridas a VB = +2.50 V y IT = 0.10‐0.15 nA.
68
Como se había mencionado a comienzos de este capítulo, el crecimiento de islas
con forma fractal sobre superficies con simetría cuadradas, ha sido reportado solo unas
pocas ocasiones, presentándose este tipo de crecimiento principalmente sobre
superficies con simetría triangular. Sin embargo, vale la pena preguntarse: ¿es el
“mis-match” entre las redes del substrato y las islas la única forma de explicar la
transición de forma de las islas observada sobre superficies con simetría cuadrada?. En
la Figura 3.8(a), se muestran resultados de la evolución del perímetro de las islas
obtenido a partir de nuestras simulaciones Monte Carlo. Como se explicó en el punto
3.3, las simulaciones son enteramente cinéticas, no se ha considerado ningún tipo de
esfuerzo producto del “mis-match” entre las redes del substrato y las islas [8], ni
tampoco fuerzas de largo alcance. El único parámetro que cambia para las diferentes
curvas, es el núcleo crítico (número de vecinos necesarios para congelar una
ad-molécula), de 1 a 3. Con la particularidad, de considerar como “vecinos” a los
primeros y segundos vecinos de una molécula.
La evolución del perímetro para el caso de núcleo crítico 1 (ver Figura 3.8(a))
muestra una clara dependencia lineal en función del tamaño de la isla a lo largo de todo
el proceso de crecimiento. Sin embargo, para los casos de núcleo crítico 2 y 3, se
observa que existe un tamaño crítico por debajo del cual ocurre una desviación. En vez
de ser lineal, la dependencia va con la raíz cuadrada del tamaño de la isla, como se
observa claramente para el caso de núcleo critico 3 por debajo de un tamaño de
aproximadamente 200 moléculas. Müller y colaboradores [2], mostraron que dicha
desviación es una evidencia de una transición de forma en las islas, lo cual estaría
indicando que cuando a las moléculas les es permitido tener cierta movilidad alrededor
de los bordes de las islas (núcleo crítico 2 y 3), estas mostraran una transición de forma
de compacta a fractal. Debido a que nuestras simulaciones solo consideran factores
geométrico, dicha transición puede ser entendida sin consideraciones de esfuerzos
producto del “mis-match” entre las redes del substrato y las islas.
69
Figura 3.8: (a) Evolución del perímetro vs. el tamaño de la isla para diferentes energías de ligadura. Las líneas son
para una guía visual, “no” han sido ajustadas. En la leyenda “p” es el perímetro, “x” el tamaño de la isla, y “a”
una constante. (b) Tomas instantáneas de las simulaciones Monte Carlo desarrolladas para núcleos críticos:
1 (b.1), 2 (b.2), y 3 (b.3). Los insertos a la derecha muestran un acercamiento de 13X.
En la Figura 3.8(b), se muestran tomas instantáneas de las simulaciones Monte

Carlo realizadas con diferentes condiciones de núcleo crítico, 1 (b.1), 2 (b.2) y
3 (b.3).Vale la pena destacar que las 3 imágenes presentadas en esta figura tienen la
misma cantidad de moléculas. Como es de esperar, los brazos que caracterizan el
crecimiento ramificado de las diferentes simulaciones, son más gruesos a medida que
aumenta el número critico. No obstante, el punto principal que nos permitirá entender
las diferentes pendientes mostradas en la Figura 3.8(a), es el número de moléculas que
se necesita en cada simulación para empezar a desarrollar las formas ramificadas. Como
se puede observar en los insertos de la Figura 3.8(b), el desarrollo de los brazos
ramificados se ve retardado a medida que se aumenta el núcleo crítico. Para el caso de
núcleo crítico 1 (inserto de la Figura 3.8(b.1)) puede observarse que el desarrollo de los
brazos ramificados comienza a partir de la deposición de las primeras moléculas,
70
mientras que al aumentar el núcleo crítico (insertos de la Figura 3.8(b.2) y (b.3)) las
islas crecen de forma compacta hasta un tamaño a partir del cual empiezan a desarrollar
formas ramificadas. Esto también puede observarse en la evolución del perímetro para
las curvas de núcleos crítico 2 y 3 de la Figura 3.8(a), las cuales muestran un
alejamiento cada vez más evidente del comportamiento lineal mostrado para el caso de
núcleo crítico 1. Finalmente, vale la pena destacar que la simulación que mejor se ajusta
a nuestros resultados experimentales es la realizada con núcleo crítico 3. En ella se
observa que el tamaño máximo de las islas con forma compacta es de aproximadamente
200 moléculas, tamaño a partir del cual resulta evidente el cambio de pendiente en la
curva. En nuestros experimentos el tamaño crítico hasta el cual las islas tienen un
crecimiento de forma compacta, es de aproximadamente 100 moléculas.
Sin embargo, la forma de las islas observadas experimentalmente rara vez tienen
una forma tan simétrica como las 3 mostradas en la Figura 3.8(b), esto podría deberse
presumiblemente a que durante los experimentos existen varias islas creciendo
simultáneamente. Con el fin de simular una situación más parecida a nuestros resultados
experimentales, se realizaron simulaciones en las que se permitió que varias islas
coexistieran en una terraza y compitieran con las islas de los escalones por las nuevas
ad-moléculas que van depositándose durante el crecimiento. Para ello, resultó necesario
“sembrar” islas antes de comenzar la simulación, ya que en nuestro modelo no es
posible la nucleación de nuevas islas. De este modo, las islas sembradas fueron ubicadas
en cada uno de los centros de masa de las islas observadas en la imagen STM de la
Figura 3.9(a). El resultado de estas simulaciones para el caso de núcleo crítico 3, se
muestra en la Figura 3.9(b).
En la Figura 3.9, se observa claramente como nuestras simulaciones pueden

reproducir satisfactoriamente la mayoría de las características del crecimiento de AlF3
sobre Cu(100). Por un lado, las simulaciones muestran que el menor crecimiento
observado en las islas de los escalones se debe a la mayor densidad de islas presentes en
los escalones. Por otro lado, el efecto de tener varias islas creciendo de forma
simultánea corta el desarrollo de ciertas ramificaciones debido a la “sombra” producida
71
por islas vecinas, rompiendo así con la simetría observada en la Figura 3.8(b). En
conclusión, nuestras simulaciones Monte Carlo muestran que la mayoría de las
características del crecimiento de AlF3 sobre Cu(100), este último de geometría
cuadrada, pueden ser entendidas en base a la alta movilidad de las ad-moléculas en las
terrazas y la posibilidad de moverse por los bordes de las islas para encontrar un sitio
energéticamente más favorable, sin considerar ningún tipo de esfuerzos producto del
“mis-match” de ambos materiales.
Figura 3.9: (a) Imagen STM (200 nm × 120 nm) luego de la deposición de 0.75 MC de AlF3
sobre Cu(100) a 300 K. La imagen fue adquirida a VB = +2.50 V y IT = 0.10 nA. (b) Simulación
Monte Carlo con núcleo crítico 3, en la cual se “sembraron” islas en los centros de masa de
las islas mostradas en (a).
72
En este capítulo se estudiaron las etapas iniciales de crecimiento de AlF3 sobre
Cu(100) a temperatura ambiente haciendo uso de la microscopia de efecto túnel y
simulaciones Monte Carlo. Se mostró que en las etapas iníciales de crecimiento las
moléculas de AlF3 decoran por completo ambos lados de los escalones del substrato.
Para recubrimientos de aproximadamente 0.05 MC, las islas de las terrazas muestran
una transición de forma de compacta a fractal, formando racimos de islas de tamaño
crítico, Ac ~ 2.50 nm. A mayores deposiciones, las islas de una altura atómica, van
creciendo lateralmente (crecimiento tipo 2D) hasta un recubrimiento de 0.80 MC,
momento a partir del cual el modo de crecimiento pasa a ser del tipo 3D, con las islas
creciendo en altura. Por medio de simulaciones Monte Carlo se mostró las islas de los
escalones crecen más lentamente debido a la mayor densidad de islas presentes en los
escalones. Por otro lado, la forma de las islas puede ser explicada en base al efecto
“sombra” que se origina al tener varias islas creciendo de forma simultánea. El acuerdo
entre la simulación MC que realizamos y nuestros resultados experimentales nos
permiten concluir que el crecimiento fractal de las islas de AlF3 en este sistema es
producto de la difusión y la sombra generada por las islas crecientes. En ningún caso
encontramos evidencia de fuerzas de largo alcance como ha sido propuesto para este
tipo de sistemas.
73
Capítulo 4 Efectos de la temperatura sobre las
películas de AlF3
4.1 Introducción
Como se había mencionado en el capitulo anterior, la deposición de moléculas
sobre un substrato es un proceso de no-equilibrio, debido a lo cual la forma de las islas
depende principalmente de razones cinéticas. La nucleación y el crecimiento son
procesos que se encuentra en constante competencia. El resultado de esta competición
viene determinado por la difusión superficial (área superficial promedio migrada por
una ad-molécula en función del tiempo) y la velocidad de evaporación (átomos
depositados por unidad de tiempo y área) [100]. Con el aumento del recubrimiento, la
densidad de núcleos estables aumenta hasta que se alcanza la densidad crítica de
nucleación. Después de ello, todas las moléculas que sean depositados sobre la
superficie se incorporaran a las islas existentes, siendo prácticamente nula la
probabilidad de nuclear una nueva isla. En esta etapa, las moléculas migran una cierta
distancia que suele llamarse longitud de difusión promedio Λa, la cual depende de la
temperatura y velocidad de evaporación. A bajas temperaturas, Λa es pequeña y se
alcanza una alta densidad crítica de nucleación. Con el aumento de la temperatura, Λa
aumenta y la densidad crítica de nucleación disminuye.
La forma de las islas es determinada tanto por la anisotropía direccional de Λa,

como por la relajación de las moléculas en los bordes de las islas, Λ1 [92,100]. En este
capítulo se muestra que se puede modificar la morfología de las nanoestructuras
mediante la variación de la temperatura del substrato durante la evaporación, o a partir
de un recocido del mismo después de la deposición. Más específicamente, se estudia el
crecimiento de AlF3 sobre una superficie de Cu(100) a 250 K, y se compararan dichos
resultados con los obtenidos a temperatura ambiente. Por otro lado, se muestran los
74
efectos producidos en la morfología de las islas variando la temperatura de la muestra
entre 300-700 K una vez finalizada la evaporación.
4.2 Efectos de la temperatura durante el crecimiento

Para realizar los experimentos a bajas temperaturas, se uso un sistema
experimental denominado “TIREMISU”, ubicado en el Laboratorio de Superficie de la
Universidad Autónoma de Madrid (LASUAM), y el cual se encuentra a cargo de los
Doctores José María Gallego y Roberto Otero. Este sistema experimental está equipado
con un microscopio STM comercial (marca SPECS [101]) de temperatura variable
operando en condiciones de UHV. El substrato de Cu(100) se limpió mediante ciclos de
bombardeo con iones de Ar+ y posterior recocido a 900 K, tal cual como se describe en
el punto 0. Las películas de fluoruro de aluminio fueron depositadas “in situ”, sobre la
superficie de Cu(100) manteniendo la presión base de la cámara de UHV por debajo de
5×10-10 mbar. La velocidad de deposición usada se mantuvo igual para todos los
experimentos, 1.7×10-3 MC/s, mientras que la temperatura del substrato de Cu(100)
durante las evaporaciones fue variado entre 250 y 300K.
En la Figura 4.1, se muestran imágenes STM de la superficie del Cu(100) luego

de depositarle 0.30 MC de AlF3 a una temperatura de (a) 250 y (b) 300 K. En la
Figura 4.1(a), se observa que la densidad de islas en las terrazas es 2.1×1011 islas por
cm2, la distancia promedio entre primeros vecinos es 15 nm y la altura aparente de las
islas es 0.25-0.35 nm, tal como puede verse en el inserto de la misma. Si se comparan
estos resultados con los obtenidos a 300 K, Figura 4.1(b), se observa una disminución
en la distancia entre primeros vecinos y un aumento de 25 % en la densidad de islas en
las terrazas. Esto se debe, a que una disminución en la temperatura provoca una menor
movilidad de las ad-moléculas sobre la superficie y un aumento en la probabilidad de
que una ad-molécula difundiendo sobre la superficie se encuentre con otras, originando
un mayor número de islas sobre la superficie (densidad de islas) [100].
Por otro lado, el área recubierta por moléculas en la Figura 4.1(a) pareciera ser
mayor a la observada en la Figura 4.1(b). Esto sumado a que los perfiles de altura (ver
75
insertos de las Figura 4.1(a) y 4.1 (b) muestran que las islas no han crecido en altura,
parecieran contradecir la afirmación de que ambas figuras presentan el mismo
recubrimiento. Esta “aparente” contradicción, se debe a que las islas más ramificadas
parecen ocupar mayor área a simple vista, tal cual como se observó con las
simulaciones Monte Carlo mostradas en la Figura 3.8(b).
Para observar más detalladamente la forma de las islas, en la Figura 4.2 se

muestran imágenes ampliadas de la superficie del Cu(100) luego de depositarle
0.30 MC de AlF3 a una temperatura de (a) 250 y (b) 300 K. En ellas se observa
claramente que al disminuir la temperatura de deposición se originan islas más
ramificadas. Esto puede entenderse en base a la frecuencia de salto en el borde de una
isla ks, la cual es proporcional a la temperatura del substrato, ks α exp[-Vs/kBT], donde Vs
es la barrera de energía potencial para saltar de un sitio a otro y kB la constante de
Boltzmann. Si la temperatura es lo suficientemente baja para que la molécula no pueda
moverse, ks tiende a cero, desarrollándose así islas ramificadas con brazos de 1 átomo
de espesor como lo predice el modelo “hit-and-stick” DLA [92]. En cambio, si la
temperatura es lo suficientemente alta, las moléculas pueden moverse por el borde de la
isla buscando un sitio energéticamente más favorable, lo cual provoca islas menos
ramificadas con brazos de mayor espesor.
76
Figura 4.1: Imágenes STM (200 nm × 200 nm) adquirida luego de la deposición de 0.30 MC de AlF3 sobre Cu(100) a
una temperatura de (a)250, y (b) 300 K. El inserto de cada imagen muestra el perfil de alturas adquirido a lo largo
de la línea mostrada en la misma. Las imágenes fueron adquiridas a VB = +2.50 V y IT = 0.60 nA.
Figura 4.2: Imágenes STM (100 nm × 100 nm ) adquirida luego de la deposición de 0.30 MC de AlF3 sobre Cu(100)
a una temperatura de (a)250, y (b) 300 K. Las imágenes fueron adquiridas a VB = +2.50 V y IT = 0.60 nA.
4.3 Efectos de la temperatura durante un recocido

Los experimentos que se presentan en este punto se realizaron en 3 cámaras
diferentes utilizando 5 técnicas de caracterización: espectroscopia electrónica de pérdida
de energía (EELS), espectroscopia de electrones Auger (AES), dispersión de átomos
77
neutros con energías térmicas (TEAS), difracción de electrones de baja energía (LEED)
y microscopia de efecto túnel (STM). Mientras que los experimentos EELS y AES se
realizaron en el LASUI en un equipo experimental a cargo de la Dra. Silvia Montoro,
los experimentos TEAS, LEED y STM fueron realizados en el LASUAM. Los
experimentos TEAS y LEED se realizaron en un sistema experimental denominado
“DANYELA” a cargo del Dr. Juan José de Miguel, y los experimentos STM fueron
llevados a cabo en el sistema experimental denominado “TIREMISU” a cargo de los
Doctores José María Gallego y Roberto Otero. El AlF3 fue depositado sobre una
superficie de Cu(100) siguiendo el mismo procedimiento descripto en el apartado 3.3.1.
En la Figura 4.3, se muestran dos espectros de EELS correspondientes a la

superficie de cobre limpio y cubierto con una película delgada de AlF3 (2-3 MC). En la
curva correspondiente a la superficie de cobre se observa el pico característico del
plasmón a 8.50 eV, sobre el fondo correspondiente a las perdidas por excitaciones de
electrones a la banda de conducción típicas de una superficie metálica. El pico del
plasmón y el fondo desaparecen por completo luego de haberse depositado la película
de AlF3. La ausencia de excitaciones por debajo de 11 eV evidencia la presencia de una
banda prohibida (“band-gap”) en la película de AlF3. Este resultado se encuentran en
buen acuerdo con lo reportado por Sanchez y colaboradores [82], en sus estudios de
crecimiento de películas delgadas de AlF3 sobre Al(111). Este “band-gap”, explica
porque las islas de 2 MC o más, aparecen representadas como zonas oscuras en las
imágenes STM, incluso a voltajes tan altos como +10 V. Sin embargo, el hecho de que
las islas de 1 MC puedan ser observadas por el STM normalmente, aún a voltajes
menores que el “band-gap” (+2.5 V), estaría indicando que para las islas de una altura
atómica, el “band-gap” del AlF3 no se encuentra completamente desarrollado, tal y
como ha sido reportado para el crecimiento de otros aislantes. [66,102,103].
78
Figura 4.3: Espectros EELS de la superficie de cobre, limpio y con una película de 2 MC de AlF3. El
inserto muestra varios espectros AES adquiridos en función del tiempo de evaporación.
En el inserto de la Figura 4.3, se muestran espectros Auger de las películas de

AlF3 crecidas sobre el Cu(100), en función del tiempo de evaporación. El primer
espectro, de arriba a abajo, muestra los picos Auger de CuLMM (~ 60 eV) y CuKLL
(~ 918 eV) característicos de una superficie de cobre limpia. A medida que aumenta la
cantidad de AlF3 depositado sobre la superficie los picos del cobre se atenúan,
apareciendo los picos Auger (FKLL (~650 eV) y AlLVV (~43 y ~65 eV)) del flúor y del
aluminio, respectivamente. Como puede observarse en los últimos espectros Auger, en
la zona del aluminio se observan 2 picos, uno correspondiente a aluminio en la matriz
de AlF3 en ~43 eV y otro correspondiente a aluminio en estado metálico en ~65 eV
[104]. La aparición del pico de Al metálico durante el crecimiento e irradiación de la
película de AlF3 se debe a que bajo irradiación electrónica, el fluoruro de aluminio
presenta radiólisis, es decir desorción del fluoruro con la consecuente formación de
aluminio metálico [78-81]. Debido a esta radiólisis que presenta el fluoruro de aluminio
cuando es bombardeado con electrones, es necesario extremar las precacuciones durante
79
las mediciones que involucren bombardeo de la pelicula de fluoruro con electrones
energéticos. Por ello, se considero pertinente verificar si el calentamiento de la muestra
por bombardeo electrónico ejerce algún tipo de cambio en las películas de fluoruro
aluminio. Dichos resultados se compararon con el calentamiento realizado solamente
con radiación (sin diferencia de potencial entre muestra y filamento).
En la Figura 4.4 se muestra la evolución de las películas de AlF3 en función de la

temperatura para dos modos diferentes de calentamiento. Las graficas muestran la
evolución de las alturas de los picos Auger del Cu, F, Al3+ y Al0 en función de la
temperatura, cuando el calentamiento se realiza con y sin bombardeo electrónico.
Mostrando la radiólisis del AlF3 desde el comienzo del calentamiento con bombardeo
electrónico. En cambio, cuando el calentamiento es realizado sólo por radiación, no se
observa ningun cambio hasta 700 K aproximadamente, temperatura a partir de la cual
comienza la desorcion del AlF3. Este resultado muestra la estabilidad de la pelicula de
fluoruro ante el calentamiento por radiación hasta 700 K, y la extrema sensibilidad de la
misma al calentamiento con bombardeo electrónico.
80
Figura 4.4: Evolución de las alturas pico a pico de las señales AES
de Al, F, y Cu con la temperatura, cuando el calentamiento de la
muestra se realiza con bombardeo electrónico (a), ó
radiación (b). Los espectros AES fueron adquiridos a una energía
de 2 keV y una densidad de corriente de 20 µA/cm2.
A partir de este estudio en adelante, todos los experimentos de calentamiento se

realizaron solo por radiación, excluyendo cualquier tipo de bombardeo electrónico. En
la Figura 4.5(a) se muestra la evolucion de la intensidad del haz de He difractado
durante el crecimiento de AlF3 sobre Cu(100) y su posterior calentamiento. En la
primera etapa del experimento, se observa que con el aumento de la cantidad de AlF3
depositado disminuye la reflectividad del haz de He, desde t = 0 s correspondiente a la
superficie de cobre limpia, hasta t ≈ 1200 s en el cual el recubrimiento es de 1 MC
aproximadamente. Cuando la intensidad del haz de He se hizo nula (t ≈ 1200 s) se
realizó un LEED de la superficie, mostrando la desaparición del patrón LEED
característico de la superficie limpia de Cu(100), Figura 4.5(b), lo cual indica una
pérdida del orden de largo alcance en la superficie.
81
Una vez terminada la etapa de evaporación se realiza un recocido de la
superficie AlF3/Cu(100). A t ≈ 1600 segundos (s), se calienta la muestra hasta una
temperatura de 400 K, al no observarse ningún cambio en la intensidad de la señal
TEAS (IHe= 0) se aumenta la temperatura hasta 500 K. A t ≈ 2300 s, se observa una
subida rápida, casi vertical, de la intensidad del haz de He hasta t ≈ 2425 s, momento a
partir del cual la intensidad no sube más, razón por la cual se deja enfriar la muestra.
Desde t ≈ 2450 s, la señal TEAS se recupera con el enfriamiento de la muestra hasta
alcanzar el 55 % del valor inicial a temperatura ambiente (t ≈ 3000 s), evidenciando
cambios en la superficie luego del calentamiento a 500 K. Por otro lado, el LEED
realizado sobre esta superficie muestra un patrón de puntos característicos de la
superficie del Cu(100) limpia, Figura 4.5(c), lo cual está indicando que parte de la
superficie del cobre ha quedado al descubierto.
Figura 4.5: (a) Evolución de la reflectividad TEAS durante el crecimiento del AlF3
(aprox. 0 – 1000 s) y posterior calentamiento en dos pasos, a 400 y 500 K.
Imágenes LEED luego de, (b) depositar AlF3 y (c) calentar la muestra.
82
Los resultados LEED y TEAS, a primera vista muestran diferencias con los
estudios previos de desorción realizados con AES. En los estudios Auger se observó
que la película era estable hasta temperaturas de 700 K, mientras que LEED y TEAS
evidencian cambios a partir de los 500 K. Mientras que una posibilidad es que a 500 K
ocurran cambios estequiométricos y la sensibilidad de AES no permita determinar las
modificaciones observadas con LEED y TEAS, otra es que estos cambios se produzcan
manteniendo la estequiometría (cambios estructurales), lo cual no puede ser detectado
por AES. Para clarificar este punto se recurrió a mediciones STM.
En la Figura 4.6, se muestra una serie de imágenes STM luego de la deposición

de 0.30 MC de AlF3 sobre Cu(100), adquiridas sin haber realizado ningún tipo de
calentamiento a la muestra (a), y luego de un calentamiento a 500 (b), 575 (c) y
675 K (d). En estas imágenes, se observan cambios de forma en las islas en función de
la temperatura: redondeadas y rectangulares, Figura 4.6(b) y 4.6(c), respectivamente.
Finalizando con la desorción de las islas de AlF3 a una temperatura de 675 K
(Figura 4.6(d)), en muy buen acuerdo con la temperatura de desorción obtenida a partir
de los experimentos AES mostrados en la Figura 4.4.
Como se menciono, antes de la desorción del AlF3 se observan modificaciones

importantes en la morfología de las islas. Así, en la Figura 4.6(b) adquirida luego de un
recocido de la superficie a 500 K, se observa que las islas se han “redondeado”
perdiendo el carácter ramificado observado en Figura 4.6(a). Este resultado brinda una
pista para entender la aparente discrepancia entre los experimentos TEAS/LEED y AES.
Las diferencias observadas en la morfología de las islas a temperatura ambiente y 500 K
(ver Figura 4.6(a) y 4.6(b), respectivamente) son indetectables por AES, ya que el área
cubierta por las islas de fluoruro en ambos casos es la misma. Sin embargo, la extrema
sensibilidad de TEAS a los cambios de forma en las islas (relación perímetro/área),
hacen a esta técnica idónea para detectar las diferencias entre ambas configuraciones.
En los experimentos TEAS, la dependencia de la sección eficaz de dispersión

difusa (Σ) con la forma del objeto hace que un grupo de atomos ordenados
aleatoriamente en forma ramificada tengan una mayor Σ, que la correspondiente a esos
83
mismos átomos ordenados en un arreglo compacto. Esta dependencia de Σ con la forma
de los objetos nos permite sugerir que el aumento que se observa en la intensidad del
haz de He difractado luego de calentar la superficie AlF3/Cu(100) a 500 K se produce
justamente por el cambio en la forma de las islas observado con STM. De forma
análoga pueden entenderse los experimentos LEED.
Figura 4.6 : Imágenes STM (100 nm × 100 nm ) adquiridas luego de la deposición de 0.30 MC de AlF3 sobre
Cu(100) depositado a temperatura ambiente, sin recocido (a), y luego de recocidos a 500 (b), 575 (c) y 675 K (d).
Todas las imágenes fueron adquiridas a temperatura ambiente con las siguientes condiciones (a) y
(b) VB = +2.70 V y IT = 0.70 nA; (c) VB = +0.60 V y IT = 0.60 nA y (d) VB = +0.30 V y IT = 0.60 nA.
84
En resumen, existe una T critica alrededor de los 500 K a partir de la cual se
produce un reordenamiento de las islas, las cuales se observan más “redondeadas”
reduciendo así el área efectiva cubierta. Los experimentos STM, AES, TEAS y LEED
muestran que existen 2 temperaturas criticas: T1C500 K, para la cual ocurre un
reordenamiento sin desorcion de material y T2C700 K, para la cual se produce la
desorción total del fluoruro sin descomposición del mismo. Sin embargo, existe una
tercer temperatura crítica para la cual se observan cambios en la superficie de
AlF3/Cu(100) sólo observable mediante la técnica STM.
En la Figura 4.6(c), se observan cambios en la morfología de las islas luego del

recocido a 575 K. En este caso, las mismas ya no decoran continuamente los escalones
y muestran formas rectangulares. Estas islas tienen un ancho de 3-6 nm, y en las
imágenes STM presentan los bordes con un brillo más intenso, siendo la altura aparente
de estos bordes de unos 1.5-2.0 nm. Es importante destacar, que antes del calentamiento
a 575 K. no es posible adquirir imágenes STM a voltajes menores de +2.50 V, sin
embargo luego del calentamiento se pueden adquirir a voltajes tan bajos como +0.10 V.
Este resultado es una clara evidencia de la disminución del “band-gap” de las islas, lo
cual estaría sugiriendo un cambio en la composición de las mismas.
Por otro lado, también se observan importantes cambios en los escalones.

Mientras que antes de calentar los escalones se encuentran completamente decorados
por islas ubicadas a ambos lados del mismo (arriba y abajo del escalón), luego del
calentamiento se pierde la continuidad en la decoración de los escalones, observándose
principalmente islas del lado de abajo de los mismos. Por otro lado, algunos escalones
presentan una trayectoria tipo “zig-zag”, lo cual se ha resaltado con una línea blanca en
uno de los escalones de la Figura 4.7. Vale la pena destacar que nucleadas en estos
escalones se observan islas rectangulares que siguen las mismas direcciones de los
bordes de los mismos. Debido a ello, no puede descartarse la posibilidad que algunos
átomos de Cu provenientes de los escalones “puedan” haberse incorporado a las islas.
85
En el inserto de la Figura 4.7 se muestra una distribución estadística de la
orientación de las islas rectangulares mencionadas. En la misma se observan dos picos a
40 y 150º aproximadamente, los cuales coinciden con las direcciones (110) medidas en
las imágenes con resolución atómica (no mostradas aquí). Estos resultados permiten
afirmar que las islas formadas luego de calentar la superficie AlF3/Cu(100) a 575 K se
orientan preferencialmente a lo largo de las direcciones (110) del substrato.
Figura 4.7: Imagen STM (200 nm × 200 nm) adquirida luego de la deposición de 0.30 MC de AlF3 sobre
Cu(100) depositado a temperatura ambiente, y luego de recocidos a 575 K. En la misma se resalta con
una línea el borde de un escalón. La imagen fue adquirida a temperatura ambiente con las siguientes
condiciones: VB = +0.60 V y IT = 0.60 nA. En el inserto se muestra una distribución estadística del ángulo
de las islas rectangulares, la cual muestra dos picos en las direcciones (110) del Cu(100).
86
Figura 4.8: (a) Imagen STM (200 nm × 200 nm ) adquirida luego de la deposición de 0.60 MC de AlF3 sobre Cu(100)
depositado a temperatura ambiente y luego de recocido a 525 K. (b) Zoom (100 nm × 100 nm ) de la zona
marcada en (a). Las imágenes fueron adquiridas a temperatura ambiente y con las siguientes condiciones:
VB = +2.50 V y IT = 0.50 nA.
El cambio de forma en las islas es un proceso paulatino, que permite observar

una etapa intermedia donde las islas rectangulares coexisten con otras de forma
irregular, lo cual se observa en la Figura 4.8. Vale la pena destacar que en esta etapa los
escalones permanecen decorados por islas y no presentan trayectorias zigzagueante
como las observadas en la Figura 4.7.

En este capítulo se estudia el efecto de la temperatura durante el crecimiento de
AlF3 sobre Cu(100) y posterior al mismo,usando 5 diferentes técnicas experimentales.
Por un lado, se observa que al disminuir la temperatura del substrato durante la
evaporación de AlF3 (250 K) aumenta la densidad de islas respecto a lo observado a
temperatura ambiente, y a su vez presentan formas más ramificadas. Mediante un
análisis combinado de experimentos AES, TEAS, LEED y STM se observa que luego
de un recocido a 500 K las islas muestran formas “redondeadas”. Si el recocido se
realiza a 575 K, las islas presentan formas rectangulares y evidencian un cambio en la
estructura electrónica, ya que es posible adquirir imágenes a voltajes tan bajos como
87
+0.10 V. Finalmente, luego de un recocido a 675 K las islas de AlF3 se desorben por
completo de la superficie.
88
Conclusiones
En este trabajo de tesis se estudian superficies nanoestructuras generadas

mediante dos procesos diferentes: el bombardeo con iones de gases nobles y la
deposición de un material sobre una superficie dada. Específicamente, superestructuras
generadas sobre HOPG mediante bombardeado con iones de Ar+ y películas delgadas de
fluoruro de aluminio evaporadas sobre una superficie de Cu(100). Si bien la técnica de
caracterización principal de este trabajo es la microscopía de efecto túnel (STM), a lo
largo del mismo se usan otras 4 técnicas complementarias: espectroscopia electrónica de
pérdida de energía (EELS), espectroscopia de electrones Auger (AES), dispersión de
átomos neutros con energías térmicas (TEAS) y difracción de electrones de baja energía
(LEED). Así como tambien se realizan simulaciones Monte Carlo para lograr un mejor
entendimientos de los resultados experimentales.
Del estudio de la superficie de HOPG bombardeado con iones de Ar+ a una

energía de 5 keV y una dosis de 41010 iones/cm2, se mostró:
 La coexistencia de una superestructura del tipo Moiré y una (√3√3)R30º

“ring-like”. Lo cual aporta evidencia experimental que las superestructuras
(√3√3)R30º, al menos las tipo “ring-like”, pueden formarse aún cuando
exista una rotación de la última capa del grafito.
 Se propuso un modelo para explicar el origen de la superestructura
“honeycomb” a partir de la superposición de dos superestructuras
(√3√3)R30º “spot-like”. Según nuestro modelo, una de las superestructuras
más comúnmente reportadas para la superficie de grafito, la tipo
“honeycomb”, no es una superestructura en sí misma, sino más bien el
resultado de la superposición de dos superestructuras (√3√3)R30º
“spot-like”.
89
Del estudio de crecimiento de fluoruro de aluminio sobre Cu(100) en función del
recubrimiento, se mostró que:
 A bajos recubrimientos, ~0.05 MC, las islas de las terrazas muestran una
transición de forma de compacta a fractal, formando “clusters” de islas de un
tamaño crítico Ac ~ 2.50 nm.
 Las islas de fluoruro de aluminio crecen lateralmente (crecimiento tipo 2D)
hasta un recubrimiento de 0.80 MC, momento a partir del cual las islas
comienzan a crecer en altura, cambiando a un crecimiento tipo 3D.
 Por medio de simulaciones Monte Carlo se demuestra que la mayoría de las
características del crecimiento pueden ser entendidas sobre la base de factores
geométricos y cinéticos. En ningún caso encontramos evidencia de fuerzas de
largo alcance como ha sido propuesto para este tipo de sistemas.
Del estudio de la influencia de la temperatura durante y posterior al crecimiento

de fluoruro de aluminio sobre Cu(100), se mostró que:
 Realizar el crecimiento con el substrato a una temperatura de 250 K produce

una mayor densidad de islas, las cuales presentan una forma más ramificada,
que aquellas crecidas a 300 K.
 El calentamiento realizado con bombardeo electrónico produce radiólisis en
las películas de AlF3, es decir la desorcion de fluoruro dejando en la
superficie una capa de aluminio metálico. Esto no ocurre cuando el
calentamiento se realiza solo por radiación.
 Posterior al crecimiento, las islas de AlF3 pueden modificarse mediante un
recocido “sin bombardeo electrónico”, destacándose los siguientes cambios:
A 500 K, ocurre un reordenamiento de las islas las cuales adquieren formas
más redondeadas. A 575 K, las islas muestran un drástico cambio en su
morfología, presentando formas rectangulares y una evidente disminución del
90
“band-gap”. A 700 K, las islas se desorben por completo de la superficie del
cobre.
91
Apéndice A: Teoría de la microscopia de efecto
túnel
A.1 Introducción
Desde la invención del microscopio de efecto túnel, en 1981, por Gerd Binnig
(alemán) y Heinrich Rohrer (suizo) en los laboratorios de la IBM en Zürich (Suiza), la
microscopía y espectroscopia de efecto túnel se han convertido en herramientas
fundamentales para el estudio de materiales a escala nanométrica. Sin embargo, para
poder hacer un análisis preciso de las imágenes STM, es necesario una descripción del
potencial del electrón en la región túnel entre la punta y la superficie de la muestra, así
como también una detallada descripción de los estados electrónicos de la muestra y de
la punta y determinar la función de onda de los electrones túnel en la región de túnel.
Desgraciadamente, desde el punto de vista teórico, este problema es extremadamente
difícil de resolver, dada el numero de variables involucradas en el mismo. A esto se
suma la dificultad de inferir la especie química y la forma como están ordenados los
últimos átomos de la punta. Más aun, la punta y la muestra pueden interactuar de forma
tan intensa, que la punta, el gap y la muestra debieran ser considerados como un sistema
completo, y no como sistemas separados unidos por débiles interacciones [105]. Por esa
razón, los análisis teóricos de los experimentos STM se encuentran condicionados por
algún tipo de hipótesis que simplifique el número de variables que describe el sistema.
En este capítulo revisaremos los conceptos fundamentales de las uniones túneles,

repasaremos los principales formalismos y simplificaciones más comúnmente usados en
simulaciones teóricas del STM. Estos conceptos nos permitirán entender los
mecanismos físicos envueltos en la microscopia de efecto túnel, y de esa manera tener
las herramientas teóricas necesarias para hacer un correcto análisis de los resultados
STM.
92
A.2 Formalismo de Bardeen
La mayor parte de los tratamientos teóricos que se aplican al STM en la
actualidad parten del formalismo de Bardeen [106]. Este formalismo fue presentado en
1961 (20 años antes de la invención del STM) por J. Bardeen, quien trató de modelar
teóricamente la corriente túnel que fluye entre dos metales (electrodos) separados por
una delgada capa de oxido. En el formalismo de Bardeen, también conocido como el
formalismo del Hamiltoniano de transferencia, la interacción entre los dos electrodos es
lo suficientemente débil como para ser despreciada y la corriente túnel puede ser
evaluada desde la autofunciones, Ψμ y Ψv, y autoenergías, Eμ y Ev. Donde, para el caso
STM, en el cual uno de los electrodos es una punta y el otro la muestra, Ψμ y Eμ son las
funciones de onda y energías de los estados de la “punta” en ausencia de la “muestra”; y
por otro lado, Ψv y Ev son las funciones de onda y energías de los estados de la
“muestra” en ausencia de la “punta” [105].
En el panel A de la Figura A.1 se muestra el esquema de una unión túnel, en este

esquema uno de los electrodos se representa como una punta para ilustrar el caso
concreto del STM, sin embargo vale la pena recordar que el formalismo de Bardeen es
válido para todo tipo de uniones túnel. En el panel B de la Figura A.1 se muestra el
Figura A.1: (a) Esquema representativo de la unión túnel en un STM; (b) Diagrama de energía correspondiente al
esquema del panel (a).
93
diagrama de energía de la unión túnel. En este diagrama el eje vertical representa
energía; φp, φm, , , ρp y ρm son las funciones de trabajo, energías de Fermi y
densidades de estados (DOS del inglés Density Of States) de la punta y muestra
respectivamente. Cuando la distancia entre los electrodos es lo suficientemente pequeña
como para que el solape entre sus funciones de onda sea significativo, la probabilidad
de transferencia de electrones entre ellos por efecto túnel empieza a ser apreciable. Sin
embargo, en ausencia de voltaje aplicado los niveles de Fermi de los dos electrodos
están equilibrados y, a temperatura cero, el principio de exclusión de Pauli impide la
transferencia de electrones. A temperaturas finitas no todos los electrones se encuentran
por debajo de los niveles de Fermi y esto hace que algunas transferencias sean posibles,
pero en ausencia de voltaje aplicado, las transferencias en ambos sentidos se compensan
mutuamente y el resultado es el mismo que a temperatura cero: No hay una
transferencia neta de electrones en ningún sentido. Sin embargo, al aplicar un voltaje V
entre los electrodos, los niveles de Fermi se desequilibran y se abre una ventana en
energía de anchura eV en la que sí es posible una transferencia neta de electrones.
Esta transferencia da lugar a la corriente túnel I, que en el formalismo de

Bardeen viene dada por:
∑ , (A.1)
donde el elemento de matriz túnel viene dado por:
(A.2)
En la ecuación (A.2) la integral debe ser evaluada sobre cualquier superficie que
caiga enteramente en la región entre los dos electrodos. La función delta en la ecuación
(A.1) implica que el electrón no pierde energía durante el túnel (túnel elástico), en tanto
que la función de Fermi-Dirac, f(E), considera que el túnel ocurre desde un estado lleno
de la punta hacia un estado vacio de la muestra. El desplazamiento de energías eV es el
resultado del voltaje V aplicado [105].
94
A.2.1 El formalismo de TersoffHamann (Formalismo TH)
J. Tersoff y D. R. Hamann fueron los primeros en aplicar el Hamiltoniano de
transferencia de Bardeen al caso del STM [107,108]. La dificultad de ello, era poder
evaluar el elemento de matriz (ecuación (A.2)), o equivalentemente, en modelar la
función de onda de la superficie y de la punta. Ellos consideraron el límite de pequeños
voltajes V y simplificaron la punta, suponiendo que esta era esférica con un radio de
curvatura R y por lo tanto, podría ser descripta solamente por funciones de onda s de
simetría esférica. Con esas suposiciones, Tersoff y Hamann obtuvieron las siguientes
expresiones para la conductancia túnel:
. , (A.3)
, ∑ | | (A.4)
donde , es la densidad de estados local (LDOS, del inglés Local Density Of

States) de la superficie de la muestra al nivel de Fermi evaluada en la posición central
⁄
de la punta; 2 es la longitud de decaimiento para la función de onda en
vacio, y es la altura de la barrera túnel relativa al nivel de Fermi . Dentro de este
modelo, las imágenes topográficas de STM adquiridas a corriente constante tienen una
simple interpretación, como contornos de constante LDOS de la superficie, es decir, los
cambios en la altura aparente pueden provenir de elementos topográficos de la muestra,
de cambios en la estructura electrónica local, o de ambas cosas a la vez.
Dentro del formalismo TH, es posible dar estimaciones aproximadas de un

importante número de factores en las imágenes STM. Partiendo de la ecuación (A.3), se
puede demostrar que la conductancia túnel está dada por:
, (A.5)
por lo cual la conductancia túnel (corriente) decae exponencialmente con la distancia

entre la punta y la muestra z. Para valores típicos de (4eV), un cambio de la distancia
95
punta-muestra de 1 Å originaria una variación en la corriente de un factor 10. Esto
implica que el último átomo de la punta tiende a dominar la corriente túnel [105], y
explica la necesidad de mantener correctamente aislado de ruidos y vibraciones el
microscopio.
96
Bibliografía
1. G. Binnig, H. Rocher, Nobel lecture Physics, 390 (1986).
2. B. Müller, L. Nedelmann, B. Fischer, H. Brune, J.V. Barth, K. Kern,

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AlF3 on Cu(100)”, Physical Review B 81, 0754201 (2010). Resaltada en Nanoscale Science &
Technology 21, (2010).
 J.C. Moreno L., R.A. Vidal, M.C.G. Passeggi, J. Ferron, “Initial growth stages of AlF3 on
Cu(100):and STM study”, Physica status solidi (c) 2010 (En prensa. 3 AUG 2010/DOI:
10.1002/pssc.200983806).
 J.C. Moreno L., G. Ruano, R.A. Vidal, M.C.G. Passeggi , J. Ferron, “Crecimiento de películas ultra
delgadas de aisladores sobre una superficie metálica: AlF3 sobre Cu(100)”, Anales AFA 2009 (En
prensa).
 J.C. Moreno L., R.A. Vidal, M.C.G. Passeggi , J. Ferron, “STM study of the initial growth stages of
AlF3 on Cu(100)”, Acta microscopica 18, supplemento C, (2009).
 J.C. Moreno L., M.C.G. Passeggi , J. Ferron, “Surface superstructures in highly oriented pyrolytic
graphite surfaces after Ar+ bombardment”, Surface Science 602, 671 (2008). Citas:3.
 J.C. Moreno L., N. Bajales L., M.C.G. Passegui, J. Ferron, “Formación de superestructuras por
bombardeo iónico en grafito tipo HOPG”. Anales AFA 2006 18, 176 (2006).
 L.J. Cristina, J.C.Moreno L., M.C.G. Passeggi, S. Sferco, R.A. Vidal, J. Ferrón. “Surface
characterization of self assembled N‐Cu nanostructures” Physics Procedia ( in progress)
103
Agradecimientos
En nuestras sociedades, con tantos colegios en pésimo estado, desnutrición,

maltrato infantil, entre muchas más desigualdades, somos privilegiados los que hemos
tenido la oportunidad y condiciones para estudiar, no digo un doctorado, sino
simplemente un bachillerato, o una primaria. A todos quienes me dieron esas
oportunidades, familia, sociedad, amigos, estado, Gracias!... Tratemos que esas
oportunidades lleguen a todos.
A quienes objetivamente hicieron posible estos 5 años de formación doctoral. A

mi director de tesis, agencia SECyT y CONICET. A Julio un reconocimiento aparte, por
sus ideas que tanto enriquecieron mis trabajos y orientaron el camino que llevo a buen
término estas investigaciones. A Ricardo, profesional y personalmente, muchas gracias!.
Al grupo de superficie. A sus mujeres!. El apoyo, cariño y afecto recibido por

Edith, Silvia, Claudia y Eve, fue muy importante para mí. Además de sus meritos
profesionales, hago un reconocimiento a su calidez personal.
A mis profesores, en especial quiero mencionar aquellos que me han mostrado

que para ser un gran profesor también es necesario ser una gran persona, Roberto Arce,
Silvano Sferco, Roberto Requiz, Armando Caballero, Gema González, Carmen
Beztalia, Gracias!!!.
A mis compañeros del INTEC, Matías, Adalberto, Santiago, Eduardo, Gisela,

Camilo, Fernando y otros tantos… pero en especial a aquellos con los que compartí
desde mis primeros días Noe, Marce, Gus y Lu, se les quiere un montón!.
Romina, Cocos y Cari, que afortunado soy de tenerlas como amigas.
Al personal de apoyo del INTEC, cuya calidad profesional hay que destacar y
“valorar”. Ramón, Guido, Gordo, Nino, Mario, Cuqui, Alfredo, Elbio, Favio, Lalo,
Gracias!.
104
Al grupo de Física de Superficie de Madrid, muchísimas gracias por las
oportunidades brindadas... en especial a Roberto, Rodolfo y Amadeo… Juanjo de
Miguel y Hinarejos, Gracias!. A los chicos!!! Bogdana, Sara, Pablo, Fabi, Martha,
Jose… Jonathan y Chistian, que días de laburo aquellos!.
A mi Familia, por todo… a Bibiana y su familia, que desde el primer día me

hicieron sentir parte de ella… Mención especial a la madre de las madres! un beso
inmenso para la Lela!.
A quien desde hace mucho tiempo se preocupo por mi formación, Gracias Luis!.
A mi mamatenta, mi mamá, mi papá… los amo!.
A mis hermanos gracias por acompañarme en todo. A mis sobrinos por

regalarme tanta alegría. A mis primos y tíos, por todo Gracias!. A mis abuelos, los amo.
Y finalmente a Joaquin Sabina…no creo haber podido terminar las mediciones

nocturnas sin tus canciones, Gracias!.
105

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UNIVERSIDAD NACIONAL DEL LITORAL

FACULTAD DE INGENIERÍA QUÍMICA

Doctor en Tecnología Química

Estudio de materiales nanoestructurados mediante

Laboratorio de Superficies e Interfaces (LASUI)

Autor: Juan Carlos Moreno López

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Lejos de desanimarse, decidieron mejorar sus resultados. Para ello, lograron

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1.5 Espectroscopia de electrones Auger (AES)

1.6 Difracción de electrones de baja energía (LEED)

Donde y son los vectores de onda inicial y final, y es un vector de la red

1.7 Dispersión de átomos neutros con energías térmicas (TEAS)

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2.2 Superestructuras en Grafito tipo HOPG

imagen STM típica de la superficie de grafito, en la cual se observa un escalón